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액체의 플라즈마 처리를 위한 장치

  • 기술번호 : KST2015199395
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 액체의 플라즈마 처리를 위한 장치가 개시된다. 상기 장치는 액체의 플라즈마 처리를 위한 장치로서, 피처리수가 저장되는 내부 공간을 갖고, 상기 피처리수가 저장되면 상기 내부 공간이 밀폐되는 처리수조; 상기 처리수조의 일면에 유체소통 가능하게 연결된 실린더; 상기 실린더 내를 왕복운동하도록 구성된 피스톤; 및 플라즈마 발생원을 포함하고, 상기 피스톤은 팽창 운동하여 상기 피처리수의 수면과 인접하는 공간 내에 포화증기 기체 공간을 형성하고, 상기 플라즈마 발생원은 상기 포화증기 기체 공간에 플라즈마를 발생시킨다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) C02F 1/46 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020130007895 (2013.01.24)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1535402-0000 (2015.07.01)
공개번호/일자 10-2014-0095232 (2014.08.01) 문서열기
공고번호/일자 (20150708) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.01.24)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 석동찬 대한민국 대전광역시 서구
2 정용호 대한민국 서울특별시 광진구
3 노태협 대한민국 서울특별시 구로구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.01.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-0069583-87
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.08.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0087002-58
6 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2014.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-0193129-37
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0743885-73
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-1279569-20
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0104636-44
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.01.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0104635-09
11 등록결정서
Decision to grant		 2015.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0438693-72
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
액체의 플라즈마 처리를 위한 장치로서,피처리수가 저장되는 내부 공간을 갖고, 상기 피처리수를 저장하고 상기 내부 공간이 밀폐되도록 구성된 처리수조;상기 처리수조의 일면에서 상기 처리수조의 외면으로부터 소정의 길이로 돌출되도록 상기 처리수조와 연결되어 있고, 상기 처리수조의 내부 공간과 유체소통 가능하게 연결되어 있는 실린더;상기 실린더 내를 왕복운동하도록 구성된 피스톤으로서, 상기 피스톤은 상기 실린더 내에서 팽창 운동하여 포화증기 기체 공간을 형성하도록 구성된 피스톤; 및상기 포화증기 기체 공간 내에 플라즈마가 발생되도록 구성된 플라즈마 발생원을 포함하는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 실린더는 상기 처리수조의 상면에 위치하고, 상기 포화증기 기체 공간은, 상기 실린더 내에서 수면과 피스톤이 형성하는 공간인,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 실린더는 상기 처리수조의 측면에 위치하고,상기 피스톤이 팽창 운동될 때, 상기 피처리수의 일부는 상기 실린더 내로 유입되고, 상기 실린더 내로 유입된 피처리수의 일부의 양에 비례하여 상기 피처리수의 수면 높이가 상기 처리수조의 상면으로부터 낮아지며,높이가 낮아진 상기 피처리수의 수면과 상기 처리수조의 상면 사이에 상기 포화증기 기체 공간이 형성되는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
4 4
제2항 또는 제3항에 있어서,상기 실린더, 상기 피스톤 및 상기 플라즈마 발생원은 복수로 설치되는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
5 5
제2항 또는 제3항에 있어서,상기 처리수조는 상기 처리수조의 내부 공간에 처리수를 공급하기 위한 피처리수 유입부, 및 상기 처리수조의 내부 공간으로부터 처리수를 배출하기 위한 피처리수 배출부를 포함하는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
6 6
제2항에 있어서,상기 플라즈마 발생원은 방전전극, 상기 방전전극 아래에 위치하는 유전체 및 플라즈마 전원장치를 포함하고,상기 방전전극과 상기 유전체는 상기 피스톤의 하단부를 구성하고, 상기 실린더의 내부에 위치하며,상기 플라즈마 전원장치는 상기 방전전극에 고전압을 인가하고, 상기 방전전극 및 상기 피처리수에 교류 전압을 인가하며, 이에 의해 상기 포화증기 기체 공간에 플라즈마가 발생되는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
7 7
제3항에 있어서,상기 플라즈마 발생원은 방전전극, 상기 방전전극의 아래에 위치하는 유전체 및 플라즈마 전원장치를 포함하고,상기 방전전극과 상기 유전체는 상기 처리수조의 상면이며,상기 플라즈마 전원장치는 상기 방전전극에 고전압을 인가하고, 상기 방전전극 및 상기 피처리수에 교류 전압을 인가하며, 이에 의해 상기 포화증기 기체 공간에 플라즈마가 발생되는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
8 8
제1항에 있어서,상기 처리수조는 상면에 수직하게 위치하고 상기 처리수조 내부와 유체소통 가능하게 연결된 돌출부를 포함하며,상기 피처리수는 상기 돌출부의 내부까지 채워지며,상기 실린더는 상기 처리수조의 측면에 위치하고,상기 피스톤이 팽창 운동될 때, 상기 피처리수의 일부는 상기 실린더 내로 유입되고, 상기 실린더 내로 유입된 피처리수의 일부의 양에 비례하여 상기 피처리수의 수면 높이가 상기 돌출부의 상단부로부터 낮아지며,높이가 낮아진 상기 피처리수의 수면과 상기 돌출부의 상단부 사이에 상기 포화증기 기체 공간이 형성되는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
9 9
제8항에 있어서,상기 플라즈마 발생원은 방전전극, 상기 방전전극의 아래에 위치하는 유전체 및 플라즈마 전원장치를 포함하고,상기 방전전극과 상기 유전체는 상기 돌출부의 상면이며,상기 플라즈마 전원장치는 상기 방전전극에 고전압을 인가하고, 상기 방전전극 및 상기 피처리수에 교류 전압을 인가하며, 이에 의해 상기 포화증기 기체 공간에 플라즈마가 발생되는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
10 10
제2항 또는 제8항 에 있어서,상기 플라즈마 발생원은,상기 실린더 둘레 또는 상기 돌출부 둘레에 유도 코일이 감겨있고, 상기 유도 코일에 무선 주파수(RF)를 인가하여, 상기 유도 코일에서 발생되는 자장을 이용하여 상기 포화증기 기체 공간에 플라즈마를 발생시키는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
11 11
제2항 또는 제8항에 있어서,상기 플라즈마 발생원은,마이크로웨이브를 전송하는 도파관을 상기 실린더 또는 돌출부가 수직으로 관통하도록 하고, 상기 도파관 내에 마이크로웨이브를 인가하여, 상기 도파관 내의 마이크로웨이브에 의한 자장을 이용하여 상기 포화증기 기체 공간에 플라즈마를 발생시키는,액체의 플라즈마 처리를 위한 장치
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1 WO2014116048 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2014116048 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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