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전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치

기술번호 : KST2015199398
담당센터 : 대전기술혁신센터
전화번호 : 042-610-2279

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명의 목적은 종래 고주파 플라즈마 토치의 문제점을 해결하여, 고주파 플라즈마의 빠른 퀀칭과 이에 따른 불안정성을 극복할 수 있는 플라즈마 토치를 개발하는 것이다. 위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명은, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치를 개시할 수 있다. 상기 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치는 전자파를 발진시키는 전자파 발진기, 상기 전자파 발진기에 전원을 공급하는 전원공급부, 상기 전자파 발진기로부터 발생된 전자파가 전송되는 전자파 전송라인, 플라즈마 형성가스를 주입하기 위한 제 1 플라즈마 형성가스 공급부, 상기 전자파 전송라인으로부터 유입된 전자파와 상기 제 1 가스공급부로부터 주입된 플라즈마 형성가스에 의해 플라즈마가 발생되는 전자파 방전관, 상기 전자파 방전관으로부터 전자파 플라즈마 플로우가 유입되는 고주파 방전관, 상기 고주파 방전관과 동축이고 내부에 유도코일이 삽입되어 있는 유도코일 구조체, 상기 고주파 방전관을 중심으로 냉각수가 유입되어 배출되는 냉각수로, 및 상기 고주파 방전관으로 플라즈마 형성가스가 유입되는 제 2 플라즈마 형성가스 공급부를 포함할 수 있다.
Int. CL	H05H 1/28 (2006.01) H05H 1/26 (2006.01)
CPC
출원번호/일자	1020120154137 (2012.12.27)
출원인	한국기초과학지원연구원
등록번호/일자	10-1359320-0000 (2014.01.29)
공개번호/일자
공고번호/일자	(20140210) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2012.12.27)
심사청구항수	5

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한국기초과학지원연구원	대한민국	대전광역시 유성구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	홍용철	대한민국	대전광역시 유성구
2	윤정식	대한민국	대전광역시 유성구
3	김지훈	대한민국	대전광역시 유성구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	남건필	대한민국	서울특별시 영등포구 경인로 **, 동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2	차상윤	대한민국	서울특별시 영등포구 경인로 **, 동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한국기초과학지원연구원		대전광역시 유성구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2012.12.27	수리 (Accepted)	1-1-2012-1081638-71
2	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2013.04.15	수리 (Accepted)	4-1-2013-5058545-81
3	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2013.04.15	수리 (Accepted)	4-1-2013-5058386-17
4	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2013.08.20	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
5	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2013.10.10	수리 (Accepted)	9-1-2013-0079540-67
6	등록결정서 Decision to grant	2014.01.27	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2014-0065396-33
7	[대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)	2014.01.28	수리 (Accepted)	1-1-2014-0088117-59
8	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2020.06.22	수리 (Accepted)	4-1-2020-5135881-88

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 전자파를 발진시키는 전자파 발진기, 상기 전자파 발진기에 전원을 공급하는 전원공급부, 상기 전자파 발진기로부터 발생된 전자파가 전송되는 전자파 전송라인, 플라즈마 형성가스를 주입하기 위한 제 1 플라즈마 형성가스 공급부,상기 전자파 전송라인으로부터 유입된 전자파와 상기 제 1 플라즈마 형성가스 공급부로부터 주입된 플라즈마 형성가스에 의해 플라즈마가 발생되는 전자파 방전관, 상기 전자파 방전관으로부터 전자파 플라즈마 플로우가 유입되는 고주파 방전관, 상기 고주파 방전관과 동축이고 내부에 유도코일이 삽입되어 있는 원통형의 유도코일 구조체,상기 유도코일 구조체를 둘러싸는 외벽,상기 고주파 방전관을 중심으로 냉각수가 유입되어 배출되는 냉각수로, 및 상기 고주파 방전관으로 플라즈마 형성가스가 유입되는 제 2 플라즈마 형성가스 공급부를 포함하는, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치
2	2 제 1 항에 있어서,상기 고주파 방전관으로 반응 가스를 주입하기 위한 반응 가스 공급부를 더 포함하는, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치
3	3 제 2 항에 있어서,상기 유도코일 구조체에 고주파를 입출력하기 위한 고주파 입출력용 동관을 더 포함하는, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치
4	4 제 2 항에 있어서,상기 플라즈마 형성 가스는 CO2이고, 상기 반응 가스는 CH4, H2O 또는 O2 중 하나인, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치
5	5 제 2 항에 있어서, 상기 냉각수로는, 상기 외벽과 상기 유도 코일 구조체 사이에 존재하는 환형의 제 1 냉각수로,및 상기 유도코일 구조체와 상기 고주파 방전관 사이에 존재하는 환형의 제 2 냉각수로를 포함하고, 상기 제 1 냉각수로 및 상기 제 2 냉각수로는 연결되고 외부로부터 격리되어 상기 냉각수로의 일측부로 주입된 냉각수가 상기 냉각수로를 따라 순환하여 타측부로 배출이 가능한, 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	CN104956774	CN	중국	FAMILY
2	JP06078169	JP	일본	FAMILY
3	JP28509337	JP	일본	FAMILY
4	US09451685	US	미국	FAMILY
5	US20150334815	US	미국	FAMILY
6	WO2014104780	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	CN104956774	CN	중국	DOCDBFAMILY
2	CN104956774	CN	중국	DOCDBFAMILY
3	JP2016509337	JP	일본	DOCDBFAMILY
4	JP6078169	JP	일본	DOCDBFAMILY
5	US2015334815	US	미국	DOCDBFAMILY
6	US9451685	US	미국	DOCDBFAMILY
7	WO2014104780	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	DOCDBFAMILY

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-1359320-0000

권리란

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표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20121227 출원 번호 : 1020120154137 공고 연월일 : 20140210 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20140127 청구범위의 항수 : 5 유별 : H05H 1/26 발명의 명칭 : 전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	120,000 원	2014년 01월 29일	납입
제 4 년분	금 액	105,000 원	2016년 12월 27일	납입
제 5 년분	금 액	105,000 원	2017년 12월 19일	납입
제 6 년분	금 액	75,000 원	2018년 12월 26일	납입
제 7 년분	금 액	145,000 원	2019년 12월 24일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2012.12.27	수리 (Accepted)	1-1-2012-1081638-71
2	출원인정보변경(경정)신고서	2013.04.15	수리 (Accepted)	4-1-2013-5058545-81
3	출원인정보변경(경정)신고서	2013.04.15	수리 (Accepted)	4-1-2013-5058386-17
4	선행기술조사의뢰서	2013.08.20	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
5	선행기술조사보고서	2013.10.10	수리 (Accepted)	9-1-2013-0079540-67
6	등록결정서	2014.01.27	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2014-0065396-33
7	[대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서	2014.01.28	수리 (Accepted)	1-1-2014-0088117-59
8	출원인정보변경(경정)신고서	2020.06.22	수리 (Accepted)	4-1-2020-5135881-88


과제고유번호	1345195631
세부과제번호	EN1024
연구과제명	기초플라즈마 연구 인프라 구축사업
성과구분	출원
부처명	교육과학기술부
연구관리전문기관명	기초기술연구회
연구주관기관명	국가핵융합연구소
성과제출연도	2012
연구기간	201001~201212
기여율	1
연구개발단계명	기초연구
6T분류명	ET(환경기술)

특허성과

[1020120154137]	전자파-고주파 혼성 플라즈마 토치	새창보기

중요키워드

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