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분말 플라즈마 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015199401
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 분말 플라즈마 처리 장치가 개시된다. 분말 플라즈마 처리 장치는 분말의 플라즈마 처리를 위한 챔버; 상기 챔버 상부에 위치한 분말 공급부 및 상기 분말 공급부 아래, 그리고 상기 챔버 내에 위치하는 다수의 판형 면방전 플라즈마 모듈을 포함하며, 상기 면방전 플라즈마 모듈은 서로 면끼리 이격되어 있다. 이러한 분말 플라즈마 처리 장치는 분말이 균일하게 처리될 수 있고, 분말이 플라즈마에 접촉되는 시간을 제어하여, 효율적인 분말 처리가 가능하다.
Int. CL B01J 19/08 (2006.01) H05H 1/42 (2006.01) B01J 2/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120142763 (2012.12.10)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1428524-0000 (2014.08.04)
공개번호/일자 10-2014-0074611 (2014.06.18) 문서열기
공고번호/일자 (20140811) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.12.10)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 석동찬 대한민국 대전 서구
2 정용호 대한민국 서울 광진구
3 정현영 대한민국 전북 군산시 서당길 **, *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2012-1023743-18
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.12.11 수리 (Accepted) 9-1-2013-0100533-31
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.02.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0078880-24
7 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2014.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2014-0111437-95
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.04.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0317518-60
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2014-0317519-16
10 등록결정서
Decision to grant		 2014.07.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0488666-10
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
분말의 플라즈마 처리를 위한 장치로서, 상기 장치는: 분말의 플라즈마 처리를 위한 챔버; 및 상기 챔버 내에 위치하는 판형 면방전 플라즈마 모듈을 포함하며, 상기 면방전 플라즈마 모듈은: 절연층, 상기 절연층의 일면에 놓인 고전압이 인가되는 고전압 인가 전극; 및 상기 절연층의 타면에 놓인 접지 전극을 포함하고, 상기 고전압 인가 전극 및 상기 접지 전극 중 하나 이상은 바형상으로 서로 이격되어 병렬로 배열되어 있으며,분말은 상기 판형 면방전 플라즈마 모듈 위에 그리고, 상기 바형상 전극 주위에 위치하고,상기 접지 전극과 상기 고전압 인가 전극에 교류 전압이 인가되어, 상기 바형상 전극 전극 주위에 플라즈마가 발생되고, 상기 발생된 플라즈마에 의해 상기 분말이 처리되는, 분말 플라즈마 처리 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 장치는, 상기 챔버 상부에 위치한 분말 공급부를 포함하고,상기 판형 면방전 플라즈마 모듈은 상기 분말 공급부 아래에 위치하며,상기 판형 면방전 플라즈마 모듈의 면은 상기 분말 공급 방향과 수직하지 아니한,분말 플라즈마 처리 장치
3 3
제2항에 있어서,상기 챔버 내에서 상기 면방전 플라즈마 모듈이 소정의 각도로 경사조절 되도록 구성되는, 경사조절부를 포함하는,분말 플라즈마 처리 장치
4 4
제2항에 있어서,상기 면방전 플라즈마 모듈은 상단부가 상기 분말 공급부의 아래에 위치하고, 상기 면방전 플라즈마 모듈의 하단부는 상기 상단부로부터 일측 방향으로 경사지는 방향에 위치하고,상기 분말 공급부를 통해 공급되는 분말은 일측으로 경사진 면방전 플라즈마 모듈의 경사 방향을 따라 낙하되는,분말 플라즈마 처리 장치
5 5
제1항에 있어서,상기 절연층은 상기 고전압 인가 전극 또는 상기 접지 전극을 에워싸고,상기 절연층 일면에, 상기 절연층이 에워싸지 않는 고전압 인가 전극 또는 접지 전극은 바형상으로 서로 이격되어 병렬로 배열되어 있는,분말 플라즈마 처리 장치
6 6
제1항에 있어서,상기 절연층은 상기 고전압 인가 전극 또는 상기 접지 전극을 에워싸고,상기 절연층 양면에, 상기 절연층이 에워싸지 않는 고전압 인가 전극 또는 접지 전극은 바형상으로 서로 이격되어 병렬로 배열되어 있는,분말 플라즈마 처리 장치
7 7
제2항에 있어서,상기 바형상 전극은 상기 분말이 상기 면방전 플라즈마 모듈을 따라 낙하되는 방향과 평행하게 배치되어, 분말의 낙하를 유도하는,분말 플라즈마 처리 장치
8 8
삭제
9 9
제1항에 있어서,상기 접지 전극 및 상기 고전압 인가 전극은 바형상이고, 상기 면방전 플라즈마 모듈의 단면 형상은 상기 접지 전극 및 상기 고전압 인가 전극이 서로 엇갈리는 위치에 배치되어 있는,분말 플라즈마 처리 장치
10 10
제1항에 있어서,상기 접지 전극은 바형상이고, 상기 고전압 인가 전극은 기판 형태인,분말 플라즈마 처리 장치
11 11
제1항에 있어서,상기 접지 전극은 기판 형태이고, 상기 고전압 인가 전극은 바형상인,분말 플라즈마 처리 장치
12 12
제11항에 있어서,상기 장치는 둘 이상의 면방전 플라즈마 모듈을 포함하고,상기 면방전 플라즈마 모듈은 상기 챔버 내에서 동일 전극끼리 마주하도록 배치되는,분말 플라즈마 처리 장치
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN104519992 CN 중국 FAMILY
2 EP02929933 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 EP02929933 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
4 JP05913745 JP 일본 FAMILY
5 JP27528182 JP 일본 FAMILY
6 US10056234 US 미국 FAMILY
7 US20150187543 US 미국 FAMILY
8 US20180090302 US 미국 FAMILY
9 WO2014092394 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN104519992 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN104519992 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 EP2929933 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
4 EP2929933 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
5 EP2929933 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
6 JP2015528182 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 JP5913745 JP 일본 DOCDBFAMILY
8 US10056234 US 미국 DOCDBFAMILY
9 US2015187543 US 미국 DOCDBFAMILY
10 US2018090302 US 미국 DOCDBFAMILY
11 WO2014092394 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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