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중심축을 따라 회전 가능한 원통형 반응기;상기 원통형 반응기의 내부를 관통하는 관형 플라즈마 구조물; 및교류 전압을 인가하기 위한 교류 전원을 포함하고,상기 관형 플라즈마 구조물은, 제 1 전극인 하우징; 상기 하우징의 내부를 상기 원통형 반응기의 중심축 방향을 따라 관통하는 관형 유전체; 상기 관형 유전체의 내부 둘레면을 따라 배치된 제 2 전극을 포함하며,상기 하우징의 일면에는 플라즈마 발생용 가스의 공급을 위한 가스 공급구가 형성되어 있고,상기 원통형 반응기 내부에 위치한 상기 하우징의 외면에는 개구가 형성되어 있으며,상기 교류 전원은 제 1 전극 및 제 2 전극에 연결되어 상기 관형 플라즈마 구조물 내에서 플라즈마를 발생시키고, 발생된 플라즈마는 상기 개구를 통해 상기 관형 플라즈마 구조물로부터 상기 원통형 반응기로 유출되어 상기 원통형 반응기 내의 분말을 처리하는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극인 하우징에 형성되어 있는 개구는 하나 또는 복수개가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 2 항에 있어서,상기 개구의 형상은 슬릿 형상인 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 관형 유전체의 내부 공간을 따라 냉각수가 통과되는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 원통형 반응기를 중심축 방향으로 회전시키는 구동부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 5 항에 있어서,회전 속도 제어부를 추가로 포함하고,상기 회전속도 제어부는 상기 구동부가 상기 원통형 반응기를 회전시키는 속도를 제어하도록 구성되는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 교류 전원의 주파수가 50Hz 내지 200MHz이고, 전압이 1kV 내지 40kV인 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 교류 전원의 주파수가 5kHz 내지 100kHz이고, 전압이 2kV 내지 10kV인 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생용 가스는 질소, 산소, 불활성 기체, 이산화탄소, 산화질소, 플루오르화 기체, 수소, 암모니아, 염소계 기체, 탄화수소, 오존 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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공정 챔버;상기 공정 챔버에 연결된 펌프;상기 공정 챔버 내에 위치하고, 중심축을 따라 회전 가능한 원통형 반응기;상기 원통형 반응기의 내부를 관통하는 관형 플라즈마 구조물; 및교류 전압을 인가하기 위한 교류 전원을 포함하고,상기 관형 플라즈마 구조물은, 제 1 전극인 하우징; 상기 하우징의 내부를 상기 원통형 반응기의 중심축 방향을 따라 관통하며 상기 공정 챔버도 관통하도록 배치된 관형 유전체; 상기 관형 유전체의 내부 둘레면을 따라 배치된 제 2 전극을 포함하며,상기 하우징의 일면에는 플라즈마 발생용 가스의 공급을 위한 가스 공급구가 형성되어 있고,상기 원통형 반응기 내부에 위치한 상기 하우징의 외면에는 개구가 형성되어 있으며,상기 교류 전원은 제 1 전극 및 제 2 전극에 연결되어 상기 관형 플라즈마 구조물 내에서 플라즈마를 발생시키고, 발생된 플라즈마는 상기 개구를 통해 상기 관형 플라즈마 구조물로부터 상기 원통형 반응기로 유출되어 상기 원통형 반응기 내의 분말을 처리하는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 10 항에 있어서,상기 제 1 전극인 하우징에 형성되어 있는 개구는 하나 또는 복수개가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 11 항에 있어서,상기 개구의 형상은 슬릿 형상인 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 10 항에 있어서,상기 관형 유전체의 내부 공간을 따라 냉각수가 통과되는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 10 항에 있어서,상기 원통형 반응기를 중심축 방향으로 회전시키는 구동부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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제 14 항에 있어서,회전 속도 제어부를 추가로 포함하고,상기 회전속도 제어부는 상기 구동부가 상기 원통형 반응기를 회전시키는 속도를 제어하도록 구성되는 것을 특징으로 하는,관형 플라즈마 구조물을 포함한 회전 원통 구조 플라즈마 분말 처리 장치
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