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MOCVD(metal-organic chemical vapor deposition) 공정에서 사용되는 TMIn(trimethylindium) 증착 용기에 있어서,상부가 개구되며, 측면에 캐리어 가스가 인입되는 제1 포트가 구비된 원통형 제1 하우징;상부가 개구되며, 바닥면에 복수 개의 홀들이 형성되고, 상기 제1 하우징의 내측면 및 바닥면과 일정한 간격으로 이격되어 상기 제1 하우징 내에 이격공간이 형성되도록 상기 제1 하우징과 일체형으로 형성되며, 내부에 TMIn 분말을 수용하는 원통형 제2 하우징; 및상기 원통형 제1 하우징의 상부와 체결부재를 통해 체결되는 상부 플랜지;를 포함하고,상기 캐리어 가스는,상기 이격 공간을 거쳐 상기 제2 하우징의 하부에서 상부로 이동하여, 상기 TMIn 분말을 기화시키며,상기 상부 플랜지는,외부에서 정제된 상기 TMIn 분말을 상기 제2 하우징 내로 인입하도록 형성된 제2 포트;상기 제2 하우징 내에 기화되어 생성된 TMIn 가스를 배출하는 제3 포트; 및중앙에 위치하며, 상기 TMIn 분말의 상태를 실시간으로 확인하기 위한 제4 포트;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MOCVD 공정용 TMIn 증착 용기
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제1항에 있어서,상기 이격 공간은,상기 제1 포트로부터 제공되는 상기 캐리어 가스가 유동하는 유동 공간인 것을 특징으로 하는 MOCVD 공정용 TMIn 증착 용기
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제1항에 있어서,상기 상부 플랜지는,상기 제2 하우징 내에 생성된 TMIn 가스의 와류현상을 억제하도록 상기 제3 포트 방향으로 경사지게 제작된 것을 특징으로 하는 MOCVD 공정용 TMIn 증착 용기
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제1항에 있어서,상기 복수 개의 홀들 각각은,서로 다른 직경으로 갖도록 형성되며, 상기 제2 하우징 바닥면에 부채꼴 형상으로 배치되는 것을 특징으로 하는 MOCVD 공정용 TMIn 증착 용기
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제1항에 있어서,상기 제1 포트는,캐리어 가스 이송관과 체결되며, 상기 캐리어 가스 이송관은 캐리어 가스의 흐름양을 조절하는 개폐 부재가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 MOCVD 공정용 TMIn 증착 용기
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