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액체 플라즈마 토치 발생장치

  • 기술번호 : KST2015199415
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 액체 플라즈마 토치 발생장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 액체 플라즈마 토치 발생장치는 제1전극; 제2전극; 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에 위치하는 제1유전체; 및 상기 제1전극, 상기 제2전극 및 상기 제1유전체를 관통하는 유로를 포함하고, 상기 제1전극과 상기 제2전극에 전압이 인가되는 경우 상기 유로를 통과하는 전도성 액체를 기초로하여 플라즈마를 발생시킨다.
Int. CL H05H 1/26 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020130080184 (2013.07.09)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1493673-0000 (2015.02.10)
공개번호/일자 10-2015-0006604 (2015.01.19) 문서열기
공고번호/일자 (20150216) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.07.09)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 석동찬 대한민국 전라북도 군산시
2 노태협 대한민국 서울특별시 구로구
3 정용호 대한민국 서울특별시 광진구
4 유승민 대한민국 대전광역시 서구
5 유승열 대한민국 대전광역시 서구
6 박준석 대한민국 서울특별시 중랑구
7 홍은정 대한민국 전라북도 군산시 나운로 **, ***-*** (

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2013-0616102-26
2 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2014.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0184379-23
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.03.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.04.09 수리 (Accepted) 9-1-2014-0032340-32
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.06.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0431103-14
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0805465-07
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.08.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0805464-51
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2014.12.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0879884-27
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2015-0067130-41
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2015.01.22 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0067129-05
11 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2015.02.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0085771-55
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1전극; 상기 제1전극의 위로 적층된 제1유전체;상기 제1유전체의 위로 적층된 제2전극; 및 상기 제1전극, 상기 제2전극 및 상기 제1유전체 전체를 관통하는 유로를 포함하고, 상기 제1전극과 상기 제2전극에 전압이 인가되는 경우 상기 유로를 통과하는 전도성 액체를 기초로하여 플라즈마를 발생시키고, 상기 전도성 액체는 상기 유로의 일 측으로 공급되고, 상기 유로의 영역 중 상기 제1유전체를 관통하는 영역에서, 상기 전도성 액체가 기화되어 플라즈마가 발생되고, 발생된 플라즈마는 상기 유로의 타측으로 배출되고,상기 유로의 영역 중 상기 제1유전체를 관통하는 영역에 글로우(glow) 방전 또는 아크(arc) 방전이 일어나도록, 상기 전도성 액체의 전도도, 상기 유로의 단면적, 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이의 거리 및 상기 전압의 크기를 구성하는,액체 플라즈마 토치 발생장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 유로로 전도성 액체를 공급하는 액체 공급부; 및상기 제1전극과 상기 제2전극에 전압을 인가하는 전원부를 더 포함하는, 액체 플라즈마 토치 발생장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 전원부는 직류, 교류, 양방향 또는 단방향 펄스 전압을 인가할 수 있고, 상기 전압의 크기는 300V 이상인, 액체 플라즈마 토치 발생장치
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 하기 수학식 1을 이용하여, 상기 유로의 영역 중 상기 제1유전체를 관통하는 영역의 저항(R1)이 40옴(Ω) 이상이 되도록 구성된, 액체 플라즈마 토치 발생장치: 수학식 1R1=(1/S)×(L1/A1)상기 수학식 1에서, S는 상기 전도성 액체의 전도도이고, A1은 상기 유로의 단면적이며, L1은 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이의 거리이다
7 7
제1항에 있어서, 상기 전도성 액체의 전도도(conductivity)는 10μS/㎝ 내지 1S/㎝인, 액체 플라즈마 토치 발생장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 유로는 모세관(capillaty tube)이고, 모세관현상에 의하여 상기 전도성 액체를 공급하는 별도의 액체 공급장치가 없어도 상기 유로에 상기 전도성 액체가 공급되도록 구성된, 액체 플라즈마 토치 발생장치
9 9
제1전극; 상기 제1전극의 위로 적층된 제1유전체;상기 제1유전체의 위로 적층된 제2전극; 상기 제2전극의 위로 적층된 제2유전체;상기 제2유전체의 위로 적층된 제3전극; 및상기 제1전극, 상기 제2전극, 상기 제3전극, 상기 제1유전체 및 상기 제2유전체 전체를 관통하는 유로를 포함하고, 상기 제1전극, 상기 제2전극 및 상기 제3전극에 전압이 인가되는 경우, 상기 유로를 통과하는 전도성 액체를 기초로하여 플라즈마를 발생시키고, 상기 전도성 액체는 상기 유로의 일 측으로 공급되고, 상기 유로의 영역 중 상기 제1유전체를 관통하는 영역에서 상기 유로를 통과하는 전도성 액체를 기화시키고, 상기 제2유전체를 관통하는 영역에서 상기 기화된 액체를 기초로 플라즈마를 발생시켜 발생된 플라즈마는 상기 유로의 타측으로 배출되고,상기 유로의 영역 중 상기 제2유전체를 관통하는 영역에 글로우(glow) 방전 또는 아크(arc) 방전이 일어나도록, 상기 전도성 액체의 전도도(S), 상기 유로의 단면적(A), 상기 제2전극과 상기 제3전극 사이의 거리(L2) 및 상기 전압의 크기를 구성하는,액체 플라즈마 토치 발생장치
10 10
삭제
11 11
제9항에 있어서, 상기 유로로 전도성 액체를 공급하는 액체 공급부; 및상기 제1전극, 상기 제2전극 및 상기 제3전극에 전압을 인가하는 전원부를 더 포함하는, 액체 플라즈마 토치 발생장치
12 12
제11항에 있어서, 상기 전원부는 직류, 교류, 양방향 또는 단방향 펄스 전압을 인가할 수 있고, 상기 전압의 크기는 300V 이상인, 액체 플라즈마 토치 발생장치
13 13
제9항에 있어서, 상기 유로의 영역 중 상기 제1유전체를 관통하는 영역에 글로우(glow) 방전 또는 아크(arc) 방전이 일어나도록, 상기 전도성 액체의 전도도, 상기 유로의 단면적, 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이의 거리 및 상기 전압의 크기를 구성하는, 액체 플라즈마 토치 발생장치
14 14
삭제
15 15
제13항에 있어서, 하기 수학식 1을 이용하여, 상기 유로의 영역 중 상기 제1유전체를 관통하는 영역의 저항(R2)이 40옴(Ω) 이상이 되도록 구성된, 액체 플라즈마 토치 발생장치: 수학식 1 R2=(1/S)×(L2/A2) 상기 수학식 1에서, S는 상기 전도성 액체의 전도도이고, A2는 상기 유로의 단면적이며, L2은 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이의 거리이다
16 16
제9항에 있어서, 하기 수학식 2를 이용하여, 상기 유로의 영역 중 상기 제2유전체를 관통하는 영역의 저항(R3)이 40옴(Ω) 이상이 되도록 구성된, 액체 플라즈마 토치 발생장치: 수학식 2 R3=(1/S)×(L3/A2) 상기 수학식 2에서, S는 상기 전도성 액체의 전도도이고, A2는 상기 유로의 단면적이며, L3은 상기 제2전극과 상기 제3전극 사이의 거리이다
17 17
제9항에 있어서, 상기 전도성 액체의 전도도(conductivity)는 10μS/㎝ 내지 1S/㎝인, 액체 플라즈마 토치 발생장치
18 18
제9항에 있어서, 상기 유로는 모세관(capillaty tube)이고, 모세관현상에 의하여 상기 전도성 액체를 공급하는 별도의 액체 공급장치가 없어도 상기 유로에 상기 전도성 액체가 공급되는, 액체 플라즈마 토치 발생장치
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1 WO2015005667 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2015005667 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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