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일면 또는 양면에 증착된 수소화된 실리콘 질화막(Hydrogenated Silicon Nitride); 및상기 수소화된 실리콘 질화막 상에 증착된 알루미늄-실리콘-질화막(aluminum silicon nitride)을 포함하는 폴리카보네이트
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제 1항에 있어서, 상기 수소화된 실리콘 질화막은 자외선 차단 특성을 향상시키고,상기 알루미늄-실리콘-질화막은 경도 및 내마모성을 향상시키는,폴리카보네이트
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제 1항에 있어서, 상기 수소화된 실리콘 질화막은, 실리콘 스퍼터링 타겟을 포함하는 플라즈마 반응성 마그네트론 스퍼터링 박막 증착 장치 내 불활성 가스, 질소 및 수소를 인입시켜 반응성 스퍼터링 방법에 의해, 형성됨을 특징으로 하는,폴리카보네이트
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제 3항에 있어서, 상기 반응성 스퍼터링 방법은,플라즈마 반응성 마그네트론 스퍼터링 박막 증착 장치 내에서 불활성 가스, 수소 및 질소 가스의 플라즈마를 형성하는 단계;상기 가스의 플라즈마가 실리콘 스퍼터링 타겟과 충돌하는 스퍼터링 단계; 및;스포터링으로 인하여 폴리카보네이트 표면에 수소화된 실리콘 질화막이 증착되는 단계를 포함함을 특징으로 하는,폴리카보네이트
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제 1항에 있어서, 상기 알루미늄 실리콘 질화막은, 실리콘 스퍼터링 타겟 및 알루미늄 스퍼터링 타겟을 포함하는 플라즈마 반응성 마그네트론 스퍼터링 박막 증착 장치 내 불활성 가스 및 질소를 인입시켜 반응성 스퍼터링 방법에 의해, 형성됨을 특징으로 하는,폴리카보네이트
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제 5항에 있어서, 상기 반응성 스퍼터링 방법은,플라즈마 반응성 마그네트론 스퍼터링 박막 증착 장치 내에서 불활성 가스와 질소 가스의 플라즈마를 형성하는 단계;상기 가스의 플라즈마가 실리콘 스퍼터링 타겟 및 알루미늄 스퍼터링 타겟과 충돌하는 스퍼터링 단계; 및스퍼터링으로 인하여 수소화된 실리콘 질화막이 증착된 폴리카보네이트 표면에 알루미늄 실리콘 질화막이 증착되는 단계를 포함함을 특징으로 하는,폴리카보네이트
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제 3항 또는 제 5항에 있어서, 상기 증착 장치 내부 압력은 0
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제 3항 또는 제 5항에 있어서, 상기 불활성 가스는, 아르곤임을 특징으로 하는,폴리카보네이트
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플라즈마 반응성 마그네트론 스퍼터링 박막 증착 장치에 폴리카보네이트 기판 또는 실리콘 산화막이 형성되어 있는 폴리카보네이트 기판을 장착하는 단계;상기 폴리카보네이트 기판에, 실리콘 스퍼터링 타겟으로부터 스퍼터링에 의해 수소화 실리콘 질화막을 증착하는 단계; 및상기 수소화된 실리콘 질화막 상에, 실리콘 스퍼터링 타겟 및 알루미늄 스퍼터링 타겟으로부터 알루미늄 실리콘 질화막을 증착하는 단계를 포함하는,폴리카보네이트의 자외선 차단 특성 및 내마모성을 향상시키는 방법
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제 9항에 있어서, 상기 수소화된 실리콘 질화막은 자외선 차단 특성을 향상시키고,상기 알루미늄-실리콘-질화막은 경도 및 내마모성을 향상시키는,폴리카보네이트의 자외선 차단 특성 및 내마모성을 향상시키는 방법
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제 9항에 있어서, 상기 수소화된 실리콘 질화막 증착은 상기 증착 장치 내에 불활성 가스, 질소 및 수소를 인입시켜 반응성 스퍼터링 방법에 의함을 특징으로 하는,폴리카보네이트의 자외선 차단 특성 및 내마모성을 향상시키는 방법
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제 11항에 있어서, 상기 반응성 스퍼터링 방법은,플라즈마 반응성 마그네트론 스퍼터링 박막 증착 장치 내에서 불활성 가스, 수소 및 질소의 플라즈마를 형성하는 단계;상기 가스의 플라즈마가 실리콘 스퍼터링 타겟과 충돌하는 스퍼터링 단계; 및스퍼터링으로 인하여 폴리카보네이트 표면에 수소화된 실리콘 질화막이 증착되는 단계를 포함함을 특징으로 하는,폴리카보네이트의 자외선 차단 특성 및 내마모성을 향상시키는 방법
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제 9항에 있어서, 상기 알루미늄 실리콘 질화막 증착은, 실리콘 스퍼터링 타겟 및 알루미늄 스퍼터링 타겟을 포함하는 플라즈마 반응성 마그네트론 스퍼터링 박막 증착 장치 내 불활성 가스 및 질소를 인입시켜 반응성 스퍼터링 방법에 의함을 특징으로 하는,폴리카보네이트의 자외선 차단 특성 및 내마모성을 향상시키는 방법
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제 13항에 있어서, 상기 반응성 스퍼터링 방법은,플라즈마 반응성 마그네트론 스퍼터링 박막 증착 장치 내에서 불활성 가스와 질소 가스의 플라즈마를 형성하는 단계;상기 가스의 플라즈마가 실리콘 스퍼터링 타겟 및 알루미늄 스퍼터링 타겟과 충돌하는 스퍼터링 단계; 및스퍼터링으로 인하여 수소화된 실리콘 질화막이 증착된 폴리카보네이트 표면에 알루미늄 실리콘 질화막이 증착되는 단계를 포함함을 특징으로 하는,폴리카보네이트의 자외선 차단 특성 및 내마모성을 향상시키는 방법
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제 12항 또는 제 14항에 있어서, 상기 증착 장치 내부 압력은 0
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제 12항 또는 제 14항에 있어서, 상기 불활성 가스는, 아르곤임을 특징으로 하는,폴리카보네이트의 자외선 차단 특성 및 내마모성을 향상시키는 방법
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