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제1 전극;상기 제1 전극과 마주하는 제2 전극;상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 위치하는 다공성의 제1 피처리물;상기 제1 전극과 상기 제1 피처리물 사이에 배치되고, 세정 가스를 공급받아 생성된 플라즈마가 상기 제1 피처리물의 표면을 따라 일 방향으로 유동하도록 구성된 제1 가스 유로부; 및상기 제1 피처리물과 상기 제2 전극 사이에 불활성 가스가 상기 일 방향 또는 상기 일 방향의 반대 방향을 따라 유동하도록 구성된 제2 가스 유로부를 포함하는 건식 세정장치
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제1항에 있어서,상기 불활성 가스의 유속은상기 플라즈마가 상기 제1 피처리물의 개구를 통해 상기 제2 가스 유로부로 이동하지 않도록 구성되는 것을 특징으로 하는,건식 세정장치
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제1항에 있어서,상기 제1 전극은 접지 전극이고,상기 제2 전극에는 고압이 인가되는 것을 특징으로 하는,건식 세정장치
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제1항에 있어서,상기 제2 전극은 냉각 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는,건식 세정장치
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제1항에 있어서,상기 세정 가스는 산소(O2) 또는 삼불화 질소(NF3)를 포함하는 것을 특징으로 하는,건식 세정장치
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제1항에 있어서,상기 제1 전극과 함께 상기 제2 전극을 개재시키도록 상기 제2 전극과 마주하여 배치된 제3 전극;상기 제2 전극과 상기 제3 전극 사이에 위치하는 다공성의 제2 피처리물;상기 제2 전극과 상기 제2 피처리물 사이에 배치되고, 세정 가스를 공급받아 생성된 플라즈마가 유동하는 제3 가스 유로부; 및상기 제2 피처리물과 상기 제3 전극 사이에 불활성 가스가 유동하도록 구성된 제4 가스 유로부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,건식 세정장치
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