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고압 전자파 플라즈마 토치 장치로서,상기 장치는, 플라즈마 발생부, 상기 플라즈마 발생부로 마이크로웨이브를 전송하는 마이크로웨이브 발생부, 및 상기 플라즈마 발생부로 플라즈마 소스 가스를 주입하는 플라즈마 소스 가스 주입부를 포함하며,상기 플라즈마 발생부는 상기 마이크로웨이브 발생부의 마이크로웨이브의 전송라인을 관통하고, 상기 플라즈마 발생부의 플라즈마 토치 발생 영역의 출구 측에 제1 압력 밸브를 포함하고,상기 플라즈마 소스 가스의 주입을 위한 입구 측에 제2 압력 밸브를 포함하며,상기 플라즈마 발생부 내는 플라즈마 발생시 대기압 초과의 압력을 유지하도록 구성되는,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생부로부터 나오는 가스를 용액에 용해시키기 위한 수용해장치를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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제2항에 있어서,상기 수용해장치는 다공성 입자를 포함함을 특징으로 하는,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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제2항에 있어서,상기 수용해장치는 NO의 산화를 촉진하기 위한 오존, 과산화수소, 산소 및 공기 중 어느 하나의 폭기 수단을 포함함을 특징으로 하는,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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제2항에 있어서,상기 수용해장치는 용해되지 않는 가스의 재용해를 위한 재순환수단을 포함함을 특징으로 하는,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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