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고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치 및 이를 이용한 질소산화물생산

  • 기술번호 : KST2015199444
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고압 조건에서 플라즈마를 발생시키고 반응할 시킬 수 있는 반응 장치에 관한 것이며, 이 장치를 이용한 질소산화물의 합성 방법에 관한 것이다.
Int. CL C01B 21/24 (2006.01) H05H 1/44 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)
CPC B01J 19/12(2013.01) B01J 19/12(2013.01) B01J 19/12(2013.01)
출원번호/일자 1020140169597 (2014.12.01)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1548603-0000 (2015.08.25)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150831) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2014-0031266 (2014.03.17)
관련 출원번호 1020140031266
심사청구여부/일자 Y (2014.12.01)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍용철 대한민국 대전광역시 유성구
2 최대현 대한민국 대전광역시 유성구
3 김지훈 대한민국 대전광역시 유성구
4 김강일 대한민국 대전광역시 유성구
5 마숙활 대한민국 대전광역시 유성구
6 김예진 대한민국 대전광역시 유성구
7 허진영 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2014.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2014-1164876-79
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.02.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0077676-83
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.04.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0323378-95
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2015-0323379-30
5 등록결정서
Decision to grant
2015.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0571106-35
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
고압 전자파 플라즈마 토치 장치로서,상기 장치는, 플라즈마 발생부, 상기 플라즈마 발생부로 마이크로웨이브를 전송하는 마이크로웨이브 발생부, 및 상기 플라즈마 발생부로 플라즈마 소스 가스를 주입하는 플라즈마 소스 가스 주입부를 포함하며,상기 플라즈마 발생부는 상기 마이크로웨이브 발생부의 마이크로웨이브의 전송라인을 관통하고, 상기 플라즈마 발생부의 플라즈마 토치 발생 영역의 출구 측에 제1 압력 밸브를 포함하고,상기 플라즈마 소스 가스의 주입을 위한 입구 측에 제2 압력 밸브를 포함하며,상기 플라즈마 발생부 내는 플라즈마 발생시 대기압 초과의 압력을 유지하도록 구성되는,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생부로부터 나오는 가스를 용액에 용해시키기 위한 수용해장치를 추가로 포함함을 특징으로 하는, 고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
3 3
제2항에 있어서,상기 수용해장치는 다공성 입자를 포함함을 특징으로 하는,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
4 4
제2항에 있어서,상기 수용해장치는 NO의 산화를 촉진하기 위한 오존, 과산화수소, 산소 및 공기 중 어느 하나의 폭기 수단을 포함함을 특징으로 하는,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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제2항에 있어서,상기 수용해장치는 용해되지 않는 가스의 재용해를 위한 재순환수단을 포함함을 특징으로 하는,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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