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전자파를 플라즈마 발생기 내부로 전송하고, 상기 플라즈마 발생기로 스팀을 공급시켜 스팀 플라즈마 토치를 생성하며, 상기 스팀 플라즈마 토치에 실리콘 함유 재료를 공급함을 포함하고, 상기 실리콘 재료 물질은 오가노실리콘화합물(Organosilicon compounds)임을 특징으로 하는, 스팀 플라즈마 토치를 이용한 실리콘 산화물을 합성하는 방법
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제 1항에 있어서,실리콘 재료 물질은 HMDSO(Hexamethyldisiloxane)임을 특징으로 하는,스팀 플라즈마 토치를 이용한 실리콘 산화물을 합성하는 방법
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제 1항에 있어서,상기 스팀 플라즈마 토치에 원료물질과 함께 또는 별도로, 탄화수소화합물, 이산화탄소 또는 탄화수소화합물 및 이산화탄소를 첨가하는,스팀 플라즈마 토치를 이용한 실리콘 산화물을 합성하는 방법
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제 3항에 있어서,상기 탄화수소화합물은, 메탄, 에탄, 에틸렌, 메탄올, 에탄올, 아세틸렌, 프로판, 프로필렌, 부탄, 부타디엔, 펜탄 및 펜텐으로 구성되는 군으로부터 선택된 하나 이상의 화합물인,스팀 플라즈마 토치를 이용한 실리콘 산화물을 합성하는 방법
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제 1항에 있어서,상기 전자파를 플라즈마 발생기는, 전자파가 입력되는 도파관; 상기 도파관을 관통하여 위치하고, 상기 전자파에 의해 플라즈마가 발생하는 방전관;상기 방전관의 일측으로 스팀을 공급하는 스팀공급부;상기 방전관 내에 유입된 전자파와 스팀에 의한 플라즈마의 발생을 위한 초기 전자를 공급하는 점화부; 및 상기 방전관의 일측으로 상기 실리콘 함유 재료, 탄화수소화합물, 및 이산화탄소를 공급하는 하나 이상의 재료공급부를 포함하는,스팀 플라즈마 토치를 이용한 실리콘 산화물을 합성하는 방법
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