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마이크로웨이브 플라즈마 멸균 장치

  • 기술번호 : KST2015199510
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 멸균 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 플라즈마 멸균 장치는, 반응 챔버; 상기 반응 챔버와 연결되고, 상기 반응 챔버 내부를 진공 상태로 만드는 진공 형성부; 상기 반응 챔버에 기체 상태의 과산화수소를 제공하는 과산화수소 공급부; 마이크로웨이브를 이용하여 플라즈마를 발생시키는 마이크로웨이브 플라즈마 발생부; 및 상기 반응 챔버에 연결된 연결 배관 및 순환 펌프를 포함하는 가스 순환부; 를 포함하고, 상기 가스 순환부는 상기 반응 챔버 내의 가스를 상기 연결 배관을 통하여 순환시킨다.
Int. CL A61L 2/20 (2006.01) A61L 2/14 (2006.01) A61L 2/12 (2006.01)
CPC A61L 2/14(2013.01) A61L 2/14(2013.01) A61L 2/14(2013.01) A61L 2/14(2013.01) A61L 2/14(2013.01) A61L 2/14(2013.01)
출원번호/일자 1020130072146 (2013.06.24)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1474147-0000 (2014.12.11)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20141217) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.06.24)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 노태협 대한민국 대전광역시 유성구
2 석동찬 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-0559552-87
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.08.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0544794-59
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2014-0860076-73
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.09.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0860077-18
5 등록결정서
Decision to grant
2014.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0792189-41
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반응 챔버;상기 반응 챔버와 연결되고, 상기 반응 챔버 내부를 진공 상태로 만드는 진공 형성부;상기 반응 챔버에 기체 상태의 과산화수소를 제공하는 과산화수소 공급부; 마이크로웨이브를 이용하여 플라즈마를 발생시키는 마이크로웨이브 플라즈마 발생부; 및상기 반응 챔버에 연결된 연결 배관 및 순환 펌프를 포함하는 가스 순환부; 를 포함하고,상기 가스 순환부는, 상기 반응 챔버 내의 가스를 상기 연결 배관을 통하여 순환시키는 것이고,상기 가스 순환부는, 반응 챔버 내의 가스를 상기 연결 배관을 통하여 과산화수소 공급부와 마이크로웨이브 플라즈마 발생부로 전달하는 제1 가스 순환부 또는 제2 가스 순환부를 포함하는 것인,플라즈마 멸균 장치
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 과산화수소 공급부와 마이크로웨이브 플라즈마 발생부로 전달된 가스는 상기 반응 챔버로 재공급되는 것인, 플라즈마 멸균 장치
4 4
제1항에 있어서,제1 가스 순환부는,상기 반응 챔버와 상기 순환 펌프를 연결하는 제1 연결 배관; 상기 제1 연결 배관을 개폐하는 제1 순환 밸브; 상기 순환 펌프와 상기 마이크로웨이브 플라즈마 발생부를 연결하는 제2 연결 배관;상기 순환 펌프와 상기 과산화수소 공급부를 연결하는 제3 연결 배관; 및상기 제2 연결 배관 및 제3 연결 배관을 개폐하는 제2 순환 밸브;를 포함하는 것인, 플라즈마 멸균 장치
5 5
제4항에 있어서,상기 제1 연결 배관, 제2 연결 배관 및 제3 연결 배관 중 하나 이상에 가열기를 더 포함하는 것인, 플라즈마 멸균 장치
6 6
제1항에 있어서,상기 제2 가스 순환부는, 상기 반응 챔버와 상기 과산화수소 공급부를 연결하는 제1' 연결 배관;상기 제1' 연결 배관 경로 상의 제1' 순환 펌프;상기 반응 챔버와 상기 마이크로웨이브 플라즈마 발생부를 연결하는 제2' 연결 배관;상기 제2' 연결 배관 경로 상의 제2' 순환 펌프; 및상기 제1' 연결 배관 및 제2' 연결 배관을 개폐하는 밸브; 를 포함하는 것인, 플라즈마 멸균 장치
7 7
제6항에 있어서, 상기 밸브는 써모커플(TC, Thermocouple)인, 플라즈마 멸균 장치
8 8
제6항에 있어서, 상기 제1' 연결 배관 및 제2' 연결 배관은 가열기를 더 포함하는 것인, 플라즈마 멸균 장치
9 9
제1항에 있어서,상기 반응 챔버의 내부에 온도 감지기가 더 포함되는 것인, 플라즈마 멸균 장치
10 10
제1항에 있어서,상기 플라즈마 멸균 장치는 반응 챔버 내의 피처리물의 무게를 측정하는 무게감지 센서를 더 포함하는 것인, 플라즈마 멸균장치
11 11
제10항에 있어서,상기 플라즈마 멸균 장치는 반응 챔버 내에 가열기를 더 포함하고, 상기 무게감지 센서에 의해 측정된 무게를 기초하여 순환 펌프 작동 및 상기 가열기를 제어하는 것인, 플라즈마 멸균장치
12 12
제1항에 있어서, 상기 진공 형성부는 상기 마이크로웨이브 플라즈마 발생부를 통해 상기 반응 챔버를 진공 배기시키는 것인, 플라즈마 멸균 장치
13 13
제1항에 있어서, 상기 마이크로웨이브 플라즈마 발생부는,전자파 발생원; 플라즈마 발생부; 및상기 전자파 발생원으로부터 발생한 마이크로웨이브를 상기 플라즈마 발생부로 전달하는 마이크로웨이브 가이드;를 포함하는 것인, 플라즈마 멸균 장치
14 14
제13항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 유전체 재질인 것인, 플라즈마 멸균 장치
15 15
제13항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 튜브 또는 컵 형상인 것인, 플라즈마 멸균 장치
16 16
제13항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 이중관으로 이루어지며, 두 관 사이에 냉각용 유체가 흐르는 것인, 플라즈마 멸균 장치
17 17
제13항에 있어서, 상기 마이크로웨이브 가이드는 양단이 폐쇄된 관 형태이며, 그 길이 방향을 따라 상기 전자파 발생원과 상기 플라즈마 발생부가 이격되어 위치하는 것인, 플라즈마 멸균 장치
18 18
제13항에 있어서,상기 마이크로웨이브 플라즈마 발생부는 상기 반응 챔버와 분리되어 있는 것인, 플라즈마 멸균 장치
19 19
제1항에 있어서, 피처리물은, 상기 과산화수소 공급부에서 공급되는 과산화수소가 상기 마이크로웨이브 플라즈마 발생부에서 발생되는 플라즈마에 의하여 분해되어 상기 반응 챔버 내에서 형성되는 라디칼 원소에 의하여 멸균되는 것인, 플라즈마 멸균 장치
20 20
제19항에 있어서,상기 라디칼 원소는 OH 라디칼 원소, HO2 라디칼 원소 또는 이 둘을 포함하는 것인, 플라즈마 멸균 장치
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1 WO2014208806 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2014208806 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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