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플라즈마 발생부, 상기 플라즈마 발생부로 마이크로웨이브를 전송하는 마이크로웨이브 발생부, 및 상기 플라즈마 발생부로 플라즈마 소스 가스를 주입하는 플라즈마 소스 가스 주입부를 포함하고,상기 플라즈마 발생부의 플라즈마 토치 발생 영역의 출구 측에 제1 압력 밸브를 포함하고,상기 플라즈마 소스 가스의 주입을 위한 입구 측에 제2 압력 밸브를 포함하며,상기 플라즈마 발생부 내는 플라즈마 발생시 대기압 초과의 압력을 유지하도록 구성되는, 고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치로서,상기 플라즈마 발생부는 상기 플라즈마 소스 가스가 주입되고 상기 마이크로웨이브 발생부로부터의 마이크로웨이브의 유입영역인 제1입구측영역 및 상기 플라즈마 토치가 발생되는 측의 제1출구측영역을 포함하고,상기 제1입구측영역 내의 가스의 선속도는 상기 제1출구측영역 내의 선속도보다 큰,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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제2항에 있어서,상기 제1출구측영역 내의 직경이 상기 제1입구측영역의 직경보다 큰,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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플라즈마 발생부, 상기 플라즈마 발생부로 마이크로웨이브를 전송하는 마이크로웨이브 발생부, 및 상기 플라즈마 발생부로 플라즈마 소스 가스를 주입하는 플라즈마 소스 가스 주입부를 포함하고,상기 플라즈마 발생부의 플라즈마 토치 발생 영역의 출구 측에 제1 압력 밸브를 포함하고,상기 플라즈마 소스 가스의 주입을 위한 입구 측에 제2 압력 밸브를 포함하며,상기 플라즈마 발생부 내는 플라즈마 발생시 대기압 초과의 압력을 유지하도록 구성되는, 고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치로서,상기 플라즈마 발생부는 상기 플라즈마 소스 가스가 주입되는 측의 제2입구측영역; 상기 플라즈마 토치가 발생되는 측의 제2출구측영역; 및 상기 제2입구측영역과 상기 제2출구측영역 사이의 플라즈마중간영역을 포함하고,상기 중간영역은 상기 마이크로웨이브 발생부로부터의 마이크로웨이브의 유입영역이며, 상기 제2입구측영역 및 상기 제2출구측영역 내의 가스의 선속도는 상기 플라즈마중간영역 내의 선속도보다 작은,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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제4항에 있어서,상기 제2입구측영역 및 상기 제2출구측영역 내의 직경이 상기 플라즈마중간영역 내의 직경보다 큰,고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치
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플라즈마 발생부, 상기 플라즈마 발생부로 마이크로웨이브를 전송하는 마이크로웨이브 발생부, 및상기 플라즈마 발생부로 플라즈마 소스 가스를 주입하는 플라즈마 소스 가스 주입부를 포함하며,상기 플라즈마 발생부의 플라즈마 토치 발생 영역의 출구 측에 제1 압력 밸브를 포함하고,상기 플라즈마 소스 가스의 주입을 위한 입구 측에 제2 압력 밸브를 포함하며,상기 플라즈마 발생부 내는 플라즈마 발생시 대기압 초과의 압력을 유지하도록 구성되는, 고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치의 소스가스주입부로 질소 및 산소를 포함한 가스를 주입하고, 상기 플라즈마발생부 내의 압력을 대기압 이상으로 구성시켜 질소산화물을 포함하는 가스를 생산함을 포함하는, 고압 플라즈마를 이용한 질소산화물의 생산 방법
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제10항에 있어서,상기 질소산화물은 NO, NO2, N2O2, N2O3 및 N2O4로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상임을 특징으로 하는,고압 플라즈마를 이용한 질소산화물의 생산 방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마 발생부 내의 압력을 1
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제10항에 있어서,상기 플라즈마 발생부 내의 압력이 증가함에 따라, 질소산화물의 생산이 지수적으로(exponentially) 증가됨을 특징으로 하는,고압 플라즈마를 이용한 질소산화물의 생산 방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마 발생부 내의 압력을 2
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플라즈마 발생부, 상기 플라즈마 발생부로 마이크로웨이브를 전송하는 마이크로웨이브 발생부, 및상기 플라즈마 발생부로 플라즈마 소스 가스를 주입하는 플라즈마 소스 가스 주입부를 포함하며,상기 플라즈마 발생부의 플라즈마 토치 발생 영역의 출구 측에 제1 압력 밸브를 포함하고,상기 플라즈마 소스 가스의 주입을 위한 입구 측에 제2 압력 밸브를 포함하며,상기 플라즈마 발생부 내는 플라즈마 발생시 대기압 초과의 압력을 유지하도록 구성되는, 고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치의 소스가스주입부로 질소 및 산소를 포함한 가스를 주입하고, 상기 플라즈마발생부 내의 압력을 대기압 이상으로 구성시켜 질소산화물을 포함하는 가스를 생산하며, 상기 질소산화물을 포함하는 가스를 수용액에 용해시킴을 포함하는, 고압 플라즈마를 이용한 질소 함유 이온 수용액 생산 방법
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제16항에 있어서,상기 수용액은 NO3-이온(nitrate anion), NO2-(nitrite anion), NO2+(nitronium cation), NO- (nitroxyl anion), NO+ (nitrosonium cation), NO·(nitric monoxide free radical), 및 NO2·(nitric dioxide free radical)로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 함유함을 특징으로 하는,고압 플라즈마를 이용한 질소 함유 이온 수용액 생산 방법
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