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투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015199543
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 상부 구조를 보호하는 시트 메쉬 및 상기 시트 메쉬 상에 구비되며 나노 입자가 분산되어 있는 지지막을 포함하는 것을 특징으로 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드를 제공함으로써 2차원으로 촬영된 투과전자현미경의 영상들을 상기 지지막 내부에 분산된 나노 입자를 3차원으로 구축하는 기준점으로 이용할 수 있어 시료 준비과정에서 표식 부착 공정을 생략할 수 있을 뿐만 아니라 표식 부착이 불가능한 시료도 손쉽게 기준점을 형성할 수 있도록 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 투과전자현미경, 문 그리드, 투과전자현미경 3차원 토모그리피, 표식
Int. CL H01J 37/26 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020070092240 (2007.09.11)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-0902403-0000 (2009.06.04)
공개번호/일자 10-2009-0027062 (2009.03.16) 문서열기
공고번호/일자 (20090611) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.09.11)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문원진 대한민국 광주 북구
2 박병규 대한민국 광주 북구
3 김윤중 대한민국 대전 유성구
4 이지영 대한민국 충남 연기군
5 이상희 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아이엠 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***, ***호 (역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2007-0659228-14
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2007.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2007-0664494-60
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2007.09.18 수리 (Accepted) 1-1-2007-0673614-64
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2007.11.05 수리 (Accepted) 1-1-2007-0791481-12
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.03.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.04.16 수리 (Accepted) 9-1-2008-0024065-41
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0383168-14
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.09.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0661486-14
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2008-0661459-92
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.01.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0021897-13
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.03.03 수리 (Accepted) 1-1-2009-0130241-71
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.03.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0130253-18
13 등록결정서
Decision to grant		 2009.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0230652-92
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.10.21 수리 (Accepted) 4-1-2011-5212108-42
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184293-13
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5184331-50
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
상부 구조를 보호하는 시트 메쉬; 및 상기 메쉬 상에 구비되며 나노 입자가 분산되어 있는 지지막;을 포함하며, 상기 나노 입자는 2차원 이미지를 3차원 이미지로 재구축 시 기준점이 되는 것을 특징으로 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 나노 입자는 평균 입경이 3 내지 200nm인 것을 특징으로 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 나노 입자는 형태가 구형 또는 다면체인 것을 특징으로 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드
4 4
제 3 항에 있어서, 상기 나노 입자는 마그네슘의 밀도(1
5 5
지지막 형성용 파우더와 클로로포름을 혼합하여 지지막 형성용 혼합 용액을 제조하는 단계; 상기 지지막 형성용 혼합 용액에 나노 입자를 혼합하고 초음파를 이용하여 분산시키는 단계; 상기 나노 입자가 분산된 지지막 형성용 혼합 용액에 유리 기판을 침적시키는 단계; 상기 나노 입자가 분사된 지지막 형성용 혼합 용액에 침적된 유리 기판을 떠올린 후 자연건조시켜 기판 유리 표면상에 나노 입자가 분산된 지지막을 형성하는 단계; 및 상기 지지막을 유리 기판으로부터 분리하고, 상기 지지막에 시트 메쉬를 적층시켜 3차원 관찰 전용 문 그리드를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 나노 입자는 평균 입경이 3 내지 200nm인 것을 특징으로 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드 제조 방법
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 나노 입자는 형태가 구형 또는 다면체인 것을 특징으로 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드 제조 방법
8 8
제 6 항에 있어서, 상기 나노 입자는 마그네슘의 밀도(1
9 9
제 5 항에 있어서, 상기 나노 입자가 분사된 지지막 형성용 혼합 용액에 침적된 유리 기판을 분당 1 내지 10cm의 속도로 떠올리는 것을 특징으로 하는 투과전자현미경 3차원 관찰 전용 문 그리드 제조 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP04965518 JP 일본 FAMILY
2 JP21070806 JP 일본 FAMILY
3 US07820982 US 미국 FAMILY
4 US20090065708 US 미국 FAMILY
5 WO2009035208 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP2009070806 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 JP4965518 JP 일본 DOCDBFAMILY
3 US2009065708 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US7820982 US 미국 DOCDBFAMILY
5 WO2009035208 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.