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(a) 원수를 수중 플라즈마 방전시키는 단계; 및(b) 상기 수중 플라즈마 방전된 원수를 여과 멤브레인에 통과시키는 단계;를 포함하고,상기 (a) 단계는 수중 플라즈마 방전기를 이용하여 수행되며,상기 수중 플라즈마 방전기는,수중 플라즈마 방전공간을 제공하는 챔버;전원과 연결되는 제1 전극; 및 접지와 연결되는 제2 전극을 포함하고,상기 제1 전극은 유전체 튜브에 전도체 봉이 삽입되어 배치되는 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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제1항에 있어서,상기 전도체 봉의 일측 단부는 상기 유전체 튜브의 내부에 배치되는 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 전극은 복수개인 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서 수중 플라즈마 방전 주기는 30분이고, 상기 30분 중에서 방전기는 20분이고 무방전기는 10분인 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서 원수에 포함된 입자의 크기가 증가하는 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서 상기 여과 멤브레인에 투과되는 원수의 유량은 일정하게 유지되는 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서 상기 여과 멤브레인은 cross flow 형 한외 여과(HUF: hollow fiber ultra filtration) 멤브레인인 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계를 수행함으로써 상기 (b) 단계에서 상기 여과 멤브레인에 걸리는 막간 압력차가 감소하는 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계가 수행된 원수 중 일부는 저장되고, 일부는 상기 (a) 단계가 수행되기 전의 원수에 첨가되는 것을 특징으로 하는 수처리 방법
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원수를 수중 플라즈마 방전시키는 수중 플라즈마 방전기; 및상기 수중 플라즈마 방전된 원수를 여과하는 여과 멤브레인을 포함하며,상기 수중 플라즈마 방전기는,수중 플라즈마 방전공간을 제공하는 챔버;전원과 연결되는 제1 전극; 및 접지와 연결되는 제2 전극을 포함하고,상기 제1 전극은 유전체 튜브에 전도체 봉이 삽입되어 배치되는 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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삭제
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제11항에 있어서,상기 전도체 봉의 일측 단부는 상기 유전체 튜브의 내부에 배치되는 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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제11항에 있어서,상기 제1 전극은 복수개인 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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제11항에 있어서,상기 수중 플라즈마 방전기에서 원수를 수중 플라즈마 방전시킬 때, 상기 수중 플라즈마 방전기에서 수중 플라즈마 방전 주기는 30분이고, 상기 30분 중에서 방전기는 20분이고 무방전기는 10분인 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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제11항에 있어서,상기 수중 플라즈마 방전기에서 원수를 수중 플라즈마 방전시킬 때, 원수에 포함된 입자의 크기가 증가하는 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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제11항에 있어서,상기 수중 플라즈마 방전기에서 수중 플라즈마 방전되어 상기 여과 멤브레인에 투과되는 원수의 유량은 일정하게 유지되는 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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제11항에 있어서,상기 여과 멤브레인은 cross flow 형 한외 여과(HUF: hollow fiber ultra filtration) 멤브레인인 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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제11항에 있어서,상기 수중 플라즈마 방전기에서 원수를 수중 플라즈마 방전시킴으로써 상기 수중 플라즈마 방전된 원수가 여과되는 과정에서 상기 여과 멤브레인에 걸리는 막간 압력차가 감소하는 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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제11항에 있어서,상기 여과 멤브레인에서 여과된 원수 중 일부는 저장되고, 일부는 상기 수중 플라즈마 방전기에서 수중 플라즈마 방전되기 전의 원수에 첨가되는 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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