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플라즈마를 이용한 액체 처리용 액체 공급 장치로서, 고전압 인가 전극과, 상기 고전압 인가 전극으로부터 이격되고 상기 고전압 인가 전극과 대향하도록 배치된 제2 유전체가 형성된 접지 전극을 포함하는 전극 구조체를 포함하여 이루어지고, 상기 접지 전극의 제2 유전체 상으로 액체 박막층이 형성되도록 구성되고, 상기 이격된 공간은 기체 영역으로서 플라즈마 발생 영역으로 구성되어, 상기 액체 박막층에도 전계(electric field)가 인가되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치
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제1항에 있어서, 상기 제2 유전체가 형성된 접지 전극은 실린더 형상으로 이루어지고, 상기 고전압 인가 전극은 상기 실린더의 축을 따라 튜브 형상으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치
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제2항에 있어서, 상기 액체 박막층은 액체 박막층 공급부로부터 연속 제공되고, 상기 액체 박막층 공급부는, 액체가 주입되는 액체 투입구가 형성된 외부 실린더; 및 상기 외부 실리더와 동축이며, 상기 외부 실린더의 내부에 일정 간격 이격되어 설치된 내부 실린더를 포함하고, 상기 액체가 상기 외부 실린더와 상기 내부 실린더 사이의 일정 간격 이격된 슬릿을 통과하면서 액체 박막층이 형성되는 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치
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제3항에 있어서,상기 고전압 인가 전극은 상기 내부 실린더의 중심을 관통하는 형상으로 이루어지고, 상기 제2 유전체는, 상기 슬릿을 통과한 액체가 흘러내리면서 액체 박막층이 그 내주면에 걸쳐 형성되도록 상기 액체 박막층 공급부의 축 방향 하부에 설치되는 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치
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제4항에 있어서, 상기 접지 전극은 상기 제2 유전체의 외주면의 적어도 일부에 걸쳐 형성된 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치
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제1항에 있어서, 상기 제2 유전체는 석영(quartz) 또는 세라믹 재질인 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치
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제3항에 있어서, 상기 슬릿은 0
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제1항에 있어서, 상기 액체는 물을 포함하고, 상기 액체 박막층은 0
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마는 물이 증발하는 증기압(20도일 경우 18 Torr) 이상의 진공압력에서 발생하는 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고전압 인가 전극은 그 표면상에 형성된 제1 유전체를 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 공급 장치
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수처리 장치로서, 처리를 요하는 액체를 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 정의된 액체 공급 장치로 순환 공급하여 수질 처리하는 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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수처리 장치로서, 처리를 요하는 액체를 제10항에 정의된 액체 공급 장치로 순환 공급하여 수질 처리하는 것을 특징으로 하는 수처리 장치
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고전압 인가 전극과, 상기 고전압 인가 전극으로부터 이격되고 상기 고전압 인가 전극과 대향하도록 배치된 제2 유전체가 형성된 접지 전극을 포함하는 전극 구조체를 포함하여 이루어지는 액체 공급 장치를 이용한 액체 처리 방법으로서, 상기 접지 전극의 제2 유전체 상으로 액체 박막층을 형성하는 단계; 및상기 액체 박막층에도 전계(electric field)가 인가되도록 상기 고전압 인가 전극에 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 단계를 포함하여 이루어지는 액체 처리 방법
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제13항에 있어서, 상기 액체 박막층은 액체 박막층 공급부로부터 형성되고, 상기 액체 박막층 공급부는, 액체가 주입되는 액체 투입구가 형성된 외부 실린더; 및 상기 외부 실리더와 동축이며, 상기 외부 실린더의 내부에 일정 간격 이격되어 설치된 내부 실린더를 포함하고, 상기 액체가 상기 외부 실린더와 상기 내부 실린더 사이의 일정 간격 이격된 슬릿을 통과하면서 액체 박막층이 형성되는 것을 특징으로 하는 액체 처리 방법
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제14항에 있어서,상기 고전압 인가 전극은 상기 내부 실린더의 중심을 관통하는 형상으로 이루어지고, 상기 제2 유전체는, 상기 슬릿을 통과한 액체가 흘러내리면서 액체 박막층이 그 내주면에 걸쳐 형성되도록 상기 액체 박막층 공급부의 축 방향 하부에 설치되는 것을 특징으로 하는 액체 처리 방법
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제15항에 있어서, 상기 접지 전극은 상기 제2 유전체의 외주면의 적어도 일부에 걸쳐 형성된 것을 특징으로 하는 액체 처리 방법
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제13항에 있어서, 상기 제2 유전체 재질의 액체에 대한 젖음성(wettability)을 이용하여 액체 박막층을 형성하는 것을 특징으로 하는 액체 처리 방법
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제17항에 있어서, 상기 제2 유전체는 석영(quartz) 또는 세라믹 재질로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 액체 처리 방법
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제14항에 있어서, 상기 슬릿은 0
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제13항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고전압 인가 전극의 표면에 제1 유전체를 형성하는 것을 특징으로 하는 액체 처리 방법
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제13항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액체로서 물을 사용하고, 상기 액체 박막층은 0
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제20항에 있어서, 상기 액체로서 물을 사용하고, 상기 액체 박막층은 0
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제13항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액체 처리 방법은, i) 상
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제20항에 있어서, 상기 액체 처리 방법은, i) 상
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제13항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액체 처리 방법에 의하여 플라즈마 처리된 액체는 물이며 상기 플라즈마 처리된 물은 농작물 세척수로 사용되는 것을 특징으로 하는 액체 처리 방법
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제20항에 있어서, 상기 액체 처리 방법에 의하여 플라즈마 처리된 액체는 물이며 상기 플라즈마 처리된 물은 농작물 세척수로 사용되는 것을 특징으로 하는 액체 처리 방법
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