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시편 그리드를 냉각시키는 전처리 과정을 수행하고, 시편 장착 홀더에 시편 그리드를 삽입하여 광학현미경 및 전자현미경에서의 이미지 관찰이 상기 시편 그리드의 운반없이 연속적으로 수행되는 워크 스테이션에 있어서,상기 워크 스테이션의 외부로부터 액체질소가 공급되는 유입부와 상기 공급된 액체질소가 배출되는 배출공;상기 액체질소가 수용되는 냉각제 수용부;상기 냉각제 수용부와 분리되어 형성되고 상기 시편 그리드가 위치될 수 있는 그리드 수용홈;상기 그리드 수용홈에 형성되어 상기 시편 그리드의 온도를 측정하는 온도센서;일측에 외부로 관통되어 형성된 관통공을 포함하는 그리드 수용부;상기 그리드 수용부가 형성되는 박스부;상기 박스부의 상부를 덮되, 상기 그리드 수용부의 적어도 일부를 노출시키는 개구부가 형성된 상부 플레이트;상기 상부 플레이트를 수직 방향으로 지지하는 지지부; 및상기 지지부의 하단을 지지하는 베이스 플레이트;를 포함하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제1항에 있어서,상기 그리드 수용부의 상부를 열거나 닫을 수 있도록 하는 수용부 커버;가 더 포함된 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제2항에 있어서,상기 수용부 커버는,상기 그리드 수용부의 상부를 덮은 상태에서 상기 그리드 수용부의 내부로 작업 공구가 삽입될 수 있도록 하는 장공 형태의 개방부가 형성된 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제1항에 있어서,상기 유입부는,상기 배출공이 형성된 일면에 상기 배출공보다 낮은 높이에 형성되어 상기 액체질소가 외부로부터 유입되는 유입공;을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제4항에 있어서,상기 그리드 수용부의 내측에 상기 유입공으로부터 유입되는 액체질소의 튀는현상을 방지하는 'ㄱ'자 형상의 유입격벽이 형성되는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제2항에 있어서,상기 수용부 커버는 두 개의 유입공이 형성되고,상기 유입부는,상기 두 개의 유입공;상기 두 개의 유입공 중 하나에 삽입되어 상기 그리드 수용홈으로 액체질소를 유입시키는 제1 유입관; 및나머지 하나에 삽입되어 상기 냉각제 수용부로 액체질소를 유입시키는 제2 유입관;을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제3항에 있어서,상기 유입부는,상기 그리드 수용홈으로 액체질소를 유입시키는 제1 유입관; 및상기 냉각제 수용부로 액체질소를 유입시키는 제2 유입관;를 포함하며,상기 제1 유입관 및 제2 유입관은,상기 개방부를 통과하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제7항에 있어서,상기 제1 유입관 및 제2 유입관은,상기 액체질소를 휴대하면서 공급하는 휴대용 냉각부와 연결되며,제1 유입관은 제2 유입관보다 높은 위치에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제1항에 있어서,상기 그리드 수용부는,상기 시편 그리드를 다수 저장하는 그리드 홀더를 삽입하여 액체질소에 잠긴 상태를 유지시키는 냉각부홈; 및상기 냉각부홈으로부터 상기 그리드 홀더를 건져내서 상기 그리드 수용홈의 일측에 안착시키는 홀더 안착홈; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제9항에 있어서,상기 냉각부홈과 상기 홀더 안착홈은,상기 그리드 홀더에서 상기 시편 그리드를 꺼내도록 요철 구조의 돌출구가 형성된 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제1항에 있어서,상기 그리드 수용홈의 하부에는 수용된 시편 그리드를 측정할 수 있는 측정 렌즈가 삽입되는 렌즈홈이 형성된 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제1항에 있어서,상기 그리드 수용부는,상기 액체질소로 냉각된 시료와 측정렌즈가 근접하는 경우, 상기 측정 렌즈의 결빙 또는 성에를 방지하기 위해 측정렌즈 홀더를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제12항에 있어서,상기 측정렌즈 홀더는,상기 측정렌즈가 삽입되는 홀더 본체;상기 홀더 본체의 일측에 불활성 가스를 주입하는 가스 주입부; 및상기 홀더 본체의 내부에 삽입된 상기 측정렌즈가 외부충격으로부터 보호하는 완충제를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제1항에 있어서,상기 박스부는,내측이 열전도성 재질로 헝성되고, 외측은 아세탈(acetal) 재질로 형성되며,상기 내측과 상기 외측의 사이에는 단열성 재질로 형성된 단열층이 복층구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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제1항에 있어서,상기 그리드 수용홀의 내부에 온도를 측정할 수 있도록 하는 온도센서가 형성된 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 워크 스테이션
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시편 그리드를 냉각시키는 전처리 과정을 수행하기 위한 1항 내지 13항 및 제15항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따른 워크 스테이션; 및액체질소가 저장되는 냉각기와, 상기 냉각기의 일측으로 연장되어 형성되는 연장관을 포함하며, 전처리 과정 중에는 상기 워크 스테이션에 연결되고, 전처리 과정이 수행된 후에 상기 워크 스테이션으로부터 분리되어 연계 측정을 위한 전자 현미경의 측정부에 삽입되도록 하는 시편 장착 홀더; 를 포함하는 광학현미경과 전자현미경의 연계형 이미징 검출장치
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제17항에 있어서,상기 연장관은,내측이 단열성 재질로 형성되고, 외측이 아세탈 재질로 형성되며,내부에 톱니바퀴를 구비하여 두께 및 길이를 조절하거나,상기 시편 장착 홀더의 사이즈에 따라 상기 사이즈에 맞게 착탈식 구조로 형성하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계형 이미징 검출장치
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제17항에 있어서,상기 시편 장착 홀더는,상기 연장관의 선단에 형성되며 시편 그리드를 안착시키는 그리드 안착홈이 형성된 안착 헤드를 포함하는 것을 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 전자현미경의 연계형 이미징 검출장치
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20
제17항에 있어서,상기 연장관의 선단에는,직경이 점차 작아지는 적어도 하나의 단차가 형성된 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계형 이미징 검출장치
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제17항에 있어서,상기 워크 스테이션은, 상기 시편 장착 홀더를 지지하는 베이스 플레이트를 포함하며, 상기 시편 장착 홀더를 상기 그리드 수용부로부터 분리되는 방향으로 슬라이딩시키고, 상기 시편 장착 홀더가 상기 그리드 수용부로 삽입되는 깊이를 제한하는 스토퍼가 형성된 슬라이딩 가이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계형 이미징 검출장치
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제17항에 있어서,상기 워크 스테이션은, 상기 시편 장착 홀더를 지지하는 베이스 플레이트;를 포함하며,상기 베이스 플레이트의 하부면을 받쳐 상기 워크 스테이션의 상하 높이를 조절하는 높이조절장치;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 연계형 이미징 검출장치
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제22항에 있어서,상기 높이조절장치는 지면의 바닥을 받치는 지면 플레이트;상기 지면플레이트와 상기 베이스 플레이트 사이에 다수의 링크에 의해 상하 구동되는 절첩부재; 및상기 절첩부재에 수평하게 나사결합되는 작동축을 삽입하여 상기 절첩부재를 상하 구동시키는 구동레버;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 연계형 이미징 검출장치
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시편 그리드를 냉각시키는 전처리 과정을 수행하기 위한 제1항 내지 제13항 및 제15항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따른 워크 스테이션;액체질소가 저장되는 냉각기와, 상기 냉각기의 일측으로 연장되어 형성되는 연장관을 포함하며, 전처리 과정 중에는 상기 워크 스테이션에 연결되고, 전처리 과정이 수행된 후에 상기 워크 스테이션으로부터 분리되어 연계 측정을 위한 전자 현미경의 측정부에 삽입되도록 하는 시편 장착 홀더;상기 워크 스테이션에 의해 전처리된 시편 그리드에 분석 대상을 확인하기 위한 시그널을 측정하는 광학 현미경; 및상기 광학 현미경에 의해 측정된 상기 시그널을 분석하는 전자 현미경; 을 포함하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 연계형 이미징 시스템
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제24항에 있어서,상기 시편 장착 홀더가 상기 워크 스테이션으로부터 분리되어 상기 전자 현미경의 내부로 삽입되는 동안, 상기 냉각기는 지속적으로 액체질소를 공급하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경의 연계 측정을 위한 연계형 이미징 시스템
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광학 현미경 하부의 이격된 위치에, 시편 그리드가 위치될 수 있으며 일측에 외부로 관통되어 형성된 관통공을 포함하는 그리드 수용부가 형성된 워크 스테이션을 위치시키는 단계;상기 관통공을 통해 시편 장착 홀더를 삽입하는 단계;상기 그리드 수용부 내부에 시편 그리드를 위치시킨 후, 냉각시키는 단계;상기 냉각된 시편 그리드를 상기 시편 장착 홀더에 위치시키는 단계;광학 현미경을 이용하여 상기 냉각된 시편 그리드에 시그널을 형성하는 단계; 및상기 시그널을 형성한 후, 상기 시편 장착 홀더를 상기 워크 스테이션으로부터 분리하는 단계;를 포함하는 광학현미경과 전자현미경을 연계한 이미징 검출 방법
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제26항에 있어서,상기 시편 장착 홀더를 상기 워크 스테이션으로부터 분리하는 단계 후, 상기 시편 장착 홀더를 전자현미경으로 투입하여 측정하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경을 연계한 이미징 검출 방법
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제26항에 있어서,상기 냉각된 시편 그리드를 상기 시편 장착 홀더에 위치시키는 단계는 상기 그리드 홀더에서 냉각된 상기 시편 그리드를 핀셋으로 집어서 안착 헤드로 옮기는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경을 연계한 이미징 검출 방법
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제26항에 있어서,상기 시편 장착 홀더를 상기 그리드 수용부로부터 분리시킨 후, 상기 전자현미경에 의한 측정이 완료될 때까지 상기 시편 장착 홀더에 구비된 냉각기에 의한 액체질소를 상기 시편 그리드에 공급하여 냉각을 유지시키는 것을 특징으로 하는 광학현미경과 전자현미경을 연계한 이미징 검출 방법
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