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원격 플라즈마 처리용 소스

  • 기술번호 : KST2015199563
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 원격 플라즈마 처리용 소스에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 균일한 래디컬의 분사가 이루어지도록 하기 위한 원격 플라즈마 처리용 소스에 관한 것이다.
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
CPC H01J 37/32357(2013.01)
출원번호/일자 1020130010227 (2013.01.30)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1480095-0000 (2014.12.31)
공개번호/일자 10-2014-0097768 (2014.08.07) 문서열기
공고번호/일자 (20150107) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.01.30)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최용섭 대한민국 대전시 유성구
2 정용호 대한민국 대전시 유성구
3 노태협 대한민국 대전시 유성구
4 석동찬 대한민국 대전시 유성구
5 박현재 대한민국 대전시 유성구
6 유승열 대한민국 대전시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0088526-85
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058386-17
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5058545-81
4 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2014.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-0190466-94
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.05.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0308218-14
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.07.01 수리 (Accepted) 1-1-2014-0619524-39
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.07.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0619523-94
8 등록결정서
Decision to grant		 2014.11.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0791093-99
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마 발생 공간 및 래디컬 유출 공간으로 나뉘며, 플라즈마 발생용 가스의 공급을 위한 가스 유입구; 및 플라즈마에 의해 발생된 래디컬이 본체 외부로 유출되도록 하는 래디컬 유출구를 포함하는, 본체;상기 본체의 래디컬 유출구와 소통되는 래디컬 분사를 위한 노즐; 상기 본체의 플라즈마 발생 공간과 래디컬 유출 공간 사이의 유로를 협소하게 하는 제 1 유로 크기 조정 부재; 및플라즈마 발생용 교류 전원을 포함하고,상기 본체의 플라즈마 발생 공간에는 플라즈마의 발생을 위한 전극; 및 유전체가 설치되어 있으며,상기 본체의 플라즈마 발생 공간과 상기 래디컬 유출 공간이 서로 대향하지 아니하고 연결부에 의해 꺾여서 연결되어 있고,상기 본체에서 플라즈마에 의해 발생된 래디컬이 상기 노즐을 통해 분사되는 것을 특징으로 하는,원격 플라즈마 처리용 소스
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,상기 본체의 가스 유입구와 플라즈마 발생 공간 사이의 유로를 협소하게 하는 제 2 유로 크기 조정 부재를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는,원격 플라즈마 처리용 소스
4 4
제 1 항에 있어서,상기 본체의 래디컬 유출구에 복수의 개구가 형성되어 있는 플레이트 형태의 디퓨저가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는,원격 플라즈마 처리용 소스
5 5
제 4 항에 있어서,상기 디퓨저에 형성되어 있는 복수의 개구가 규칙적으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는,원격 플라즈마 처리용 소스
6 6
제 1 항에 있어서,상기 교류 전원의 주파수가 50Hz 내지 200MHz이고 전압이 50V 내지 10kV인 것을 특징으로 하는,원격 플라즈마 처리용 소스
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.