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표면처리 및 EHD 젯을 이용한 기판의 미세 패턴 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015199630
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 실시예에 따른 표면 처리 및 EHD 젯을 이용한 기판의 미세 패턴형성 방법 은, 기판 상에 코팅 물질을 코팅함으로써 소수성을 갖는 기판을 형성하는, 소수성 부여 단계; 코팅 처리된 기판의 젖음성을 제어하는, 기판 젖음성 제어 단계; 및 EHD(Electrohydrodynamic) 젯(jet)을 통해 기판에 미세 패턴을 형성하는, 미세 패턴 형성 단계;를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 기판을 코팅 처리함으로써 소수성을 부여하고, 아울러 기판의 젖음성을 조절함으로써 기판의 박막 두께 및 유전율을 조절할 수 있으며, 이에 따라 액적의 분사 주파수 또는 액적의 크기를 선택적으로 조절할 수 있어 기판 상에 미세한 패턴을 형성할 수 있다.
Int. CL B41J 2/06 (2006.01) H05K 3/10 (2006.01) B05C 5/00 (2006.01)
CPC B05C 5/00(2013.01)B05C 5/00(2013.01)B05C 5/00(2013.01)
출원번호/일자 1020120071626 (2012.07.02)
출원인 한양대학교 에리카산학협력단
등록번호/일자 10-1527632-0000 (2015.06.03)
공개번호/일자 10-2014-0004325 (2014.01.13) 문서열기
공고번호/일자 (20150610) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.07.02)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오제훈 대한민국 경기 안산시 상록구
2 이용훈 대한민국 경기 안산시 상록구
3 장신 대한민국 경기 안산시 상록구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.07.02 수리 (Accepted) 1-1-2012-0526088-06
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.28 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.04.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0026934-11
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0759858-24
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.12.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1208119-11
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-1208120-68
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.02.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0082139-60
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.03.06 수리 (Accepted) 1-1-2014-0220967-05
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2014.03.06 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0220965-14
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.03.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0200590-74
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.03.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0161453-13
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.05.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0444393-29
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.05.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-0444392-84
14 등록결정서
Decision to grant
2015.06.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0364541-83
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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기판 상에 코팅 물질을 코팅함으로써 소수성을 갖는 기판을 형성하는, 소수성 부여 단계;코팅 처리된 상기 기판의 젖음성을 제어하는, 기판 젖음성 제어 단계; 및EHD(Electrohydrodynamic) 젯(jet)을 통해 상기 기판에 미세 패턴을 형성하는, 미세 패턴 형성 단계;를 포함하며,상기 기판 젖음성 제어 단계에서, 자외선 처리 또는 플라즈마 처리 또는 열처리에 의해 상기 기판의 두께 및 유전율을 변화시킴으로써 액적의 분사 주파수 및 크기를 조절하고,상기 기판 젖음성 제어 단계에서, 상기 자외선 처리, 또는 상기 플라즈마 처리 또는 상기 열처리의 시간의 증가에 따라 상기 기판의 두께 또는 유전율을 변화시킴으로써 상기 기판에 형성되는 전기장의 세기를 제어하며,상기 소수성 부여 단계에서 상기 기판은 스핀 코팅(spin coating) 또는 딥 코팅(deep coating) 중 어느 하나의 코팅 방법에 의해서 코팅 처리되며,상기 소수성 부여 단계에서, 코팅 횟수에 비례하여 상기 기판 상에 코팅되는 박막의 두께 및 유전율이 증가되는 것을 이용하여 상기 기판의 패턴의 해상도 및 박막의 두께 그리고 유전율을 선택적으로 조절할 수 있도록, 상기 기판은 상기 코팅 물질에 의해 중첩으로 복수 회 코팅 가능한, 표면 처리 및 EHD 젯을 이용한 기판의 미세 패턴형성 방법
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