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금속 기판 상에 감광제를 도포하여 감광층을 형성하는 단계;상기 감광층에 패턴을 형성하는 단계;상기 패턴 형상으로 제 1식각하여 상기 금속 기판 상에 마이크로 크기의 패턴을 형성하는 단계;상기 마이크로 크기의 패턴이 형성된 금속 기판을 제 2식각하여 상기 금속 기판 상에 마이크로 크기의 패턴과 나노 크기의 패턴이 혼합된 혼합패턴구조를 형성하는 단계를 포함하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 금속은 금형재료로 사용되는 스테인리스 스틸, 철, 니켈, 크롬, 텅스텐 및 코발트로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 감광층에 패턴을 형성하는 단계는 상기 감광층 상부를 패턴이 형성된 마스크로 커버링(covering)하고 자외선으로 노광하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 감광층에 형성되는 패턴 크기는 10~500μm인 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 감광층에 형성되는 패턴 형상은 원형, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형 및 격자(grid) 무늬로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 3항에 있어서, 상기 자외선 노광은 365~436nm의 파장을 발산하는 자외선 노광기를 이용하는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 6항에 있어서, 상기 자외선 노광기는 수은(Hg)램프를 사용하는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제 1식각은 전기화학적 공정인 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 전기화학적 공정은 황산(H2SO4), 인산(H3PO4) 및 초순수를 혼합하여 제조한 전해액 내에서 0
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제 9항에 있어서, 상기 전해액은 황산(H2SO4), 인산(H3PO4) 및 초순수를 3:5:2의 부피비로 혼합하는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 마이크로 크기의 패턴을 형성하는 단계 이후 상기 감광층을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 11항에 있어서,상기 감광층의 제거는 아세톤을 이용하는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 제 2식각은 습식 공정인 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 13항에 있어서,상기 습식 공정은 상온~80℃의 제Ⅲ염화철(FeCl3) 용액에 기판을 침지시키는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 직물의 발수가공용 금형 제조방법
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제 1항 내지 제 14항 중 어느 하나의 항에 의해 제조된 직물의 발수가공용 금형
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제 15 항에 의한 직물의 발수가공용 금형에 형성된 마이크로 크기 및 나노 크기의 혼합패턴구조를 핫엠보싱(hot embossing) 공정으로 직물에 전사하는 단계를 포함하는 직물의 발수가공방법
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