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전도성 배선 또는 전극을 형성하기 위하여 사용되는 전도성 페이스트 또는 잉크용 조성물에 있어서,상기 조성물이 전도성 필러(filler)를 포함하고, 상기 전도성 필러가 전도성 나노 플레이트(nano-plate)를 포함하여 구성되며, 상기 전도성 나노 플레이트는 평면형상이 다각형인 판형상이며, 다각형의 각 변의 길이가 수백 nm 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트 또는 잉크용 조성물
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청구항 1에 있어서,상기 전도성 필러가 상기 전도성 나노 플레이트를 51~100중량% 포함하고 나머지가 전도성 입자인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트 또는 잉크용 조성물
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청구항 2에 있어서,상기 전도성 나노 플레이트의 평면 형상이 삼각형인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트 또는 잉크용 조성물
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청구항 3에 있어서,상기 전도성 나노 플레이트의 두께가 100nm 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트 또는 잉크용 조성물
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청구항 4에 있어서,상기 전도성 입자가 구형 나노 입자인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트 또는 잉크용 조성물
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6
청구항 5에 있어서,상기 구형 나노 입자의 지름이 5~100nm 범위인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트 또는 잉크용 조성물
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7
기판 위에 인쇄 공정으로 형성되는 전도성 배선 또는 전극으로서,상기 인쇄에 사용되는 전도성 페이스트 또는 잉크가 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항의 조성물을 이용하는 것을 특징으로 하는 전도성 배선 또는 전극
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8
청구항 7에 있어서,상기 인쇄에 사용되는 전도성 페이스트 또는 잉크를 300℃ 이하에서 소결하는 것을 특징으로 하는 전도성 배선 또는 전극
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9
청구항 7에 있어서,상기 인쇄 공정이 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 및 오프셋(off-set) 인쇄를 포함하는 접촉식 인쇄 공정인 것을 특징으로 하는 전도성 배선 또는 전극
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10
청구항 7에 있어서,상기 인쇄 공정이 잉크젯 인쇄와 전기유체역학 분사인쇄를 포함하는 비접촉식 인쇄 공정인 것을 특징으로 하는 전도성 배선 또는 전극
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11
청구항 7에 기재된 전도성 배선 또는 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 전자소자
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12
청구항 11에 있어서,상기 전자소자가 태양전지, 디스플레이, 반도체, 인쇄회로기판 및 무선인식 태그 중에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 전자소자
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13
청구항 11에 있어서,상기 인쇄회로기판의 재질이 폴리이미드와 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 포함하는 연성 기판인 것을 특징으로 하는 전자소자
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