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암모늄 농도에 대한 화학적 산소 요구량(COD)의 비율이 2~4인 폐수가 준비되는 단계;상기 폐수에 금속 양이온을 첨가하는 단계; 상기 금속 양이온이 첨가된 상기 폐수가 반응조로 유입되는 단계; 및상기 폐수를 폭기(aeration)시켜 호기성 입상 슬러지를 생성하는 것을 포함하는 호기성 입상 슬러지의 생성 방법
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제1 항에 있어서, 상기 폐수보다 높은 온도를 갖는 유체를 상기 반응조의 외벽에 공급하는 단계를 더 포함하는 호기성 입상 슬러지의 생성 방법
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제1 항에 있어서, 상기 폭기 과정에서, 상기 폐수의 온도는 30~35℃인 것을 포함하는 호기성 입상 슬러지의 생성 방법
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제1 항에 있어서, 상기 폐수를 폭기시키기 전에, 상기 폐수의 온도를 상승시키는 단계를 더 포함하는 호기성 입상 슬러지의 생성 방법
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제1 항에 있어서, 상기 금속 양이온은 +2가 금속 이온을 포함하는 호기성 입상 슬러지의 생성 방법
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제5 항에 있어서, 상기 금속 양이온은 칼슘(Ca) 이온을 포함하는 호기성 입상 슬러지의 생성 방법
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제6 항에 있어서, 상기 칼슘 이온의 농도는 100~150 mg/L인 것을 포함하는 호기성 입상 슬러지의 생성 방법
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폐수가 유입되는 반응조;상기 반응조의 외벽에 유체를 공급하여, 상기 반응조 내의 상기 폐수의 온도가 기준온도범위를 유지하도록 구성된 온도 조절 장치;상기 반응조의 바닥면에 위치하고, 산소를 공급하는 산소 공급 펌프; 및상기 반응조의 상기 외벽에 배치되고, 상기 반응조의 바닥면을 기준으로 서로 다른 높이를 갖는 복수의 처리수 유출구들을 포함하는 연속회분식 반응기
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제8 항에 있어서, 상기 온도 조절 장치는, 상기 유체를 저장하는 유체 저장소; 및상기 반응조의 외벽을 둘러싸는 베리어(barrier)를 포함하되,상기 유체는 상기 반응조의 상기 외벽과 상기 베리어 사이에 제공되는 것을 포함하는 연속회분식 반응기
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제9 항에 있어서, 상기 유체 저장소는, 상기 유체가 상기 기준온도범위보다 높은 온도를 갖도록 유지시키는 것을 포함하는 연속회분식 반응기
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제9 항에 있어서, 상기 온도 조절 장치는, 상기 베리어의 상단에 연결된 유체 유출구; 및상기 베리어의 하단에 연결된 유체 투입구를 더 포함하는 연속회분식 반응기
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제11 항에 있어서, 상기 온도 조절 장치는, 상기 유체 저장소와 상기 유체 투입구를 연결하는 투입관; 및상기 유체 유출구와 상기 유체 저장소를 연결하는 유출관을 더 포함하고, 상기 유체는 상기 유체 저장소, 상기 투입관, 상기 반응조의 상기 외벽, 및 상기 유출관을 순환하는 것을 포함하는 연속회분식 반응기
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제8 항에 있어서, 상기 유체의 온도는 상기 폐수의 온도보다 더 높은 것을 포함하는 연속회분식 반응기
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