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질화갈륨 기판의 N 표면용 세정용액 및 이를 이용한 질화갈륨 기판의 N 표면 세정방법

  • 기술번호 : KST2015199756
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 질화갈륨 기판용 세정용액 및 이를 이용한 질화갈륨 기판 세정방법에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 질화갈륨 기판의 양측 표면 중 층 전이 공정을 위해 다른 기판과 접합되는 접합면인 N 표면의 표면조도 증가를 최소화함과 동시에 표면에 흡착되어 있는 파티클을 용이하게 제거할 수 있는 질화갈륨 기판의 N 표면용 세정용액 및 이를 이용한 질화갈륨 기판의 N 표면 세정방법에 관한 것이다.이를 위해, 본 발명은, 다른 기판과의 접합면이 되는 질화갈륨 기판의 N 표면을 세정하는 세정용액에 있어서, 염기성 수용액 및 유기 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화갈륨 기판의 N 표면 세정용액 및 이를 이용한 질화갈륨 기판의 N 표면 세정방법을 제공한다.
Int. CL C11D 7/06 (2006.01) C11D 7/26 (2006.01) H01L 21/302 (2006.01)
CPC C11D 7/06(2013.01) C11D 7/06(2013.01) C11D 7/06(2013.01) C11D 7/06(2013.01)
출원번호/일자 1020130109563 (2013.09.12)
출원인 한양대학교 에리카산학협력단
등록번호/일자 10-1524930-0000 (2015.05.26)
공개번호/일자 10-2015-0030388 (2015.03.20) 문서열기
공고번호/일자 (20150601) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.09.12)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박진구 대한민국 서울 강남구
2 김민수 대한민국 경기 안산시 단원구
3 강봉균 대한민국 경기 안산시 상록구
4 김현준 대한민국 충청남도 아산시 탕정로 *** (
5 박승용 대한민국 충청남도 아산시 탕정로 *** (
6 김아라 대한민국 충청남도 아산시 탕정로 *** (

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0834370-03
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.04.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.05.15 수리 (Accepted) 9-1-2014-0041358-64
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.07.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0494293-80
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.09.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-0885020-57
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.09.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0884979-37
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.01.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0065744-64
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.03.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0257158-75
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.03.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0257175-41
10 등록결정서
Decision to grant
2015.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0335298-13
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반도체 구성요소가 적층되는 제1 표면, 및 상기 제1 표면에 대향하고 다른 기판과 접합면이 되는 N표면을 갖는 질화 갈륨 기판에 있어서, 상기 제1 표면 및 상기 N 표면 중에서 상기 N 표면을 선택적으로 식각하는 염기성 수용액; 및상기 염기성 수용액의 상기 N 표면에 대한 식각 레벨(level)을 감소시키고, 도데실황산나트륨을 포함하는 보완 첨가제를 포함하는 질화갈륨 기판의 N 표면 세정 용액
2 2
제1항에 있어서,상기 염기성 수용액은, 초순수에 수산화칼륨(KOH), 수산화나트륨(NaOH), 수산화암모늄(NH4OH) 및 콜린(choline) 중 적어도 어느 하나를 첨가한 것을 포함하는 질화갈륨 기판의 N 표면 세정용액
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 보완 첨가제는, 이소프로필 알코올을 더 포함하는 질화갈륨 기판의 N 표면 세정용액
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서,상기 도데실황산나트륨의 농도는 0
7 7
반도체 구성요소가 적층되는 제1 표면, 및 상기 제1 표면에 대향하고 다른 기판과 접합면이 되는 N표면을 갖는 질화 갈륨 기판을 준비하는 단계;상기 질화갈륨 기판의 상기 N 표면을 린싱하여 유기 오염물을 제거하는 유기 오염물 제거단계;상기 질화갈륨 기판의 상기 N 표면을 린싱(rinsing)하는 제1 린싱단계;상기 질화갈륨 기판의 상기 N 표면을 세정용액에 담근 후 세정하는 세정단계;상기 질화갈륨 기판의 상기 N 표면을 린싱하는 제2 린싱단계; 및상기 질화갈륨 기판의 상기 N 표면을 건조하는 건조단계를 포함하되, 상기 세정용액은, 상기 제1 표면 및 상기 N 표면 중에서 상기 N 표면을 선택적으로 식각하는 염기성 수용액; 및상기 염기성 수용액의 상기 N 표면에 대한 식각 레벨(level)을 조절하고, 도데실황산나트륨을 포함하는 보완 첨가제를 포함하는 질화갈륨 기판의 N 표면 세정방법
8 8
삭제
9 9
제7항에 있어서,상기 세정단계에서는 상기 질화갈륨 기판의 N 표면을 5~10분간 세정하는 것을 포함하는 질화갈륨 기판의 N 표면 세정방법
10 10
제7항에 있어서,상기 세정단계에서는 메가소닉(megasonic) 또는 울트라소닉(ultrasonic)을 통해 상기 질화갈륨 기판의 N 표면을 세정하는 것 포함하는 질화갈륨 기판의 N 표면 세정방법
11 11
삭제
12 12
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13 13
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14 14
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.