1 |
1
제1 도전형의 제1 반도체층;상기 제1 반도체층 상에 배치된 제2 도전형의 제2 반도체층;상기 제2 반도체층 바로 위에(directly on) 배치되어 상기 제2 반도체층과 접촉하고, 황화물, 셀렌화물, 또는 텔루르화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 음 전하층(negative charge layer); 및상기 음 전하층 상의 반사 방지막을 포함하는 태양 전지
|
2 |
2
제1 항에 있어서, 상기 음 전하층은, 금속 황화물, 금속 셀렌화물, 또는 금속 텔루르화물 중에서 적어도 어느 하나로 형성된 것을 포함하는 태양 전지
|
3 |
3
제1 항에 있어서, 상기 음 전하층의 두께는 상기 반사 방지막의 두께보다 얇은 것을 포함하는 태양 전지
|
4 |
4
제1 항에 있어서, 상기 제1 반도체층 및 상기 제2 반도체층은 실리콘을 포함하는 태양 전지
|
5 |
5
제1 항에 있어서, 상기 제2 반도체층, 상기 음 전하층, 및 상기 반사 방지막 각각은, 볼록부 및 오목부를 포함하는 요철 구조를 갖는 것을 포함하는 태양 전지
|
6 |
6
제1 항에 있어서, 상기 반사 방지막을 관통하여, 상기 음 전하층과 접촉되는 전극 패턴을 더 포함하는 태양 전지
|
7 |
7
제1 항에 있어서, 상기 음 전하층은, 상기 반사 방지막을 구성하는 원소들 중에서 어느 하나와 동일한 제1 원소 및 황을 포함하는 화합물, 상기 제1 원소와 셀레늄을 포함하는 화합물, 또는 상기 제1 원소와 텔루륨(Te)를 포함하는 화합물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 태양 전지
|
8 |
8
제1 도전형의 제1 반도체층, 및 상기 제1 도전형의 제1 반도체층 상의 제2 도전형의 제2 반도체층을 준비하는 단계;상기 제2 반도체층 상에 반사 방지막을 형성하는 단계; 및상기 제2 반도체층 상에, 황화물, 셀렌화물, 또는 텔루르화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 음 전하층을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 음 전하층은, 상기 제2 반도체층 바로 위에 제공되어, 상기 제2 반도체층과 접촉되고, 상기 반사 방지막은, 상기 음 전하층 상에 제공되는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
9 |
9
제8 항에 있어서, 상기 음 전하층은, 상기 반사 방지막을 형성한 후에 형성되는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
10 |
10
제9 항에 있어서, 상기 음전하층을 형성하는 것은, 황, 셀레늄, 또는 텔루륨 중에서 어느 하나를 포함하는 소스를 이용하여, 상기 반사 방지막을, 열처리 하는 것, 또는 플라즈마 처리하는 것 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
11 |
11
제8 항에 있어서, 상기 음 전하층은, 상기 반사 방지막을 형성하기 전에 형성되는 것을 포함하고, 상기 음 전하층을 형성하는 것은, 상기 제2 반도체층을, 황, 셀레늄, 또는 텔루륨 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 소스를 이용하여 열처리 하는 것, 황, 셀레늄, 또는 텔루륨 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 소스를 이용하여 플라즈마 처리하는 것, 황, 셀레늄, 또는 텔루륨 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 용액을 상기 제2 반도체층에 제공하는 것, 또는 황, 셀레늄, 또는 텔루륨 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 소스를 이용하여 원자층 증착법을 수행하는 것 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
12 |
12
제10 항 또는 제11 항에 있어서, 황, 셀레늄, 또는 텔루륨 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 소스를 이용하여 열처리하는 것은, 550~700℃ 에서 수행되는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
13 |
13
제8 항에 있어서, 상기 음 전하층을 형성하는 단계는, 상기 제2 반도체층 상에, 상기 반사 방지막을 구성하는 원소들 중에서 어느 하나와 동일한 제1 원소를 포함하는 제1 소스, 상기 반사 방지막을 구성하는 원소들 중에서 다른 하나와 동일한 제2 원소를 포함하는 제2 소스, 및 황, 셀레늄, 또는 텔루륨 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 제3 소스를 제공하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
14 |
14
제13 항에 있어서, 상기 반사 방지막을 형성하는 단계는, 상기 음 전하층 상에 상기 제1 소스 및 상기 제2 소스를 제공하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
15 |
15
제8 항에 있어서, 상기 음 전하층을 형성하는 단계는, 상기 제2 반도체층 상에, 상기 반사 방지막을 구성하는 원소들 중에서 어느 하나와 동일한 제1 원소를 포함하는 제1 소스, 및 황, 셀레늄, 또는 텔루륨 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 제3 소스를 제공하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
16 |
16
제15 항에 있어서, 상기 반사 방지막을 형성하는 단계는, 상기 음전하층 상에, 상기 제1 소스, 및 상기 반사 방지막을 구성하는 원소들 중에서 다른 하나와 동일한 제2 원소를 포함하는 제2 소스를 제공하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
17 |
17
반도체층;상기 반도체층 바로 위에 배치되어 상기 반도체층과 접촉하고, 황화물, 셀렌화물, 또는 텔루르화물 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 음전하층; 상기 음 전하층 상의 페시베이션막(passivation layer); 및상기 페시베이션막 상의 전극을 포함하는 태양 전지
|