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나노렌즈어레이몰드의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 몰드를 이용한 나노렌즈어레이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015199883
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 나노렌즈어레이몰드의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 몰드를 이용한 나노렌즈어레이의 제조방법이 개시된다. 본 발명의 나노렌즈어레이몰드의 제조방법은, 실리콘 기판을 산화시켜 표면에 1차 실리콘 산화막을 형성하고, 1차 실리콘 산화막 상에 반사 방지층과 감광층을 차례로 형성하는 단계; 감광층에 규칙적인 배열을 갖는 미세패턴을 포토리소그래피에 의해 형성하고,형성된 미세패턴에 따라 노출된 반사 방지층을 제거하는 단계;감광층을 마스크로 건식 식각하여 1차 실리콘 산화막을 선택적으로 제거하는 단계; 및 선택적으로 제거된 1차 실리콘 산화막을 마스크로 실리콘 기판을 건식 식각하여 미세패턴을 형성하는 단계; 1차 실리콘 산화막을 제거하는 단계;미세패턴이 형성된 실리콘 기판에 열산화 공정을 수행하여 미세패턴 상에 2차 실리콘 산화막을 형성하는 단계; 및상기 2차 실리콘 산화막을 제거하는 단계를 포함한다. 이에 의하여, 나노렌즈 형상 조절이 매우 간단하고, 이에 의해 제조된 나노렌즈어레이는 나노수준의 미세한 렌즈들의 배열임에도 렌즈의 형태가 매우 균일하고 표면이 매끄러워 광학적 특성이 우수하다.
Int. CL G03F 7/00 (2006.01) G03F 7/26 (2006.01) G03F 7/16 (2006.01)
CPC G03F 7/16(2013.01) G03F 7/16(2013.01) G03F 7/16(2013.01) G03F 7/16(2013.01) G03F 7/16(2013.01) G03F 7/16(2013.01) G03F 7/16(2013.01) G03F 7/16(2013.01)
출원번호/일자 1020110104056 (2011.10.12)
출원인 한양대학교 에리카산학협력단
등록번호/일자 10-1369736-0000 (2014.02.26)
공개번호/일자 10-2013-0039477 (2013.04.22) 문서열기
공고번호/일자 (20140306) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.10.12)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 대한민국 경기도 안산시 상록구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박진구 대한민국 경기도 안산시 상록구
2 이정환 대한민국 경기도 안산시 상록구
3 조시형 대한민국 경기도 군포시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다울 대한민국 서울 강남구 봉은사로 ***, ***호(역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 경기도 안산시 상록구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.10.12 수리 (Accepted) 1-1-2011-0797087-04
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2012.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0647685-03
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.08 수리 (Accepted) 9-1-2013-0013567-64
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0345037-13
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.07.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0651820-55
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.07.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0651819-19
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0798050-10
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.12.18 수리 (Accepted) 1-1-2013-1157880-53
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.12.18 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-1157879-17
11 등록결정서
Decision to Grant Registration
2013.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0898025-91
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번호 청구항
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실리콘 기판을 산화시켜 표면에 1차 실리콘 산화막을 형성하고, 상기 1차 실리콘 산화막 상에 반사 방지층과 감광층을 차례로 형성하는 단계(단계 a);상기 감광층에 규칙적인 배열을 갖는 미세패턴을 포토리소그래피에 의해 형성하고, 상기 형성된 미세패턴에 따라 노출된 반사 방지층을 제거하는 단계(단계 b);상기 감광층을 마스크로 건식 식각하여 상기 1차 실리콘 산화막을 선택적으로 제거하는 단계(단계 c); 상기 선택적으로 제거된 1차 실리콘 산화막을 마스크로 실리콘 기판을 건식 식각하여 미세패턴을 형성하는 단계(단계 d); 상기 1차 실리콘 산화막을 제거하는 단계(단계 e);상기 미세패턴이 형성된 실리콘 기판에 열산화 공정을 수행하여 상기 미세패턴 상에 2차 실리콘 산화막을 형성하는 단계(단계 f); 및상기 2차 실리콘 산화막을 제거하는 단계(단계 g)를 포함하고,상기 단계 d는 SF6 가스:O2 가스 = 6:1~3:1의 유량 비율로, SF6 가스 30~75sccm, O2 가스 5~25sccm, 압력 2~500mTorr, 플라즈마 전력 30~800W에서 30~90초 동안 수행되는 반응성 이온 식각에 의하는 것을 특징으로 하는 나노렌즈어레이몰드의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 단계 c는,CF4 가스 30~50sccm, 압력 2~500mTorr, 플라즈마 전력 30~600W의 조건에서 수행되는 반응성 이온 식각에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 나노렌즈어레이몰드의 제조방법
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청구항 1의 방법으로 제조된 나노렌즈어레이몰드를 준비하는 단계(단계 h);상기 나노렌즈어레이몰드 표면에 점착 방지막을 형성하는 단계(단계 i);상기 나노렌즈어레이몰드에 폴리머레진과 경화제의 혼합물을 준비하여 상기 나노렌즈어레이몰드에 몰딩하는 단계(단계 j);상기 몰딩된 폴리머레진을 열처리하여 경화하는 단계(단계 k); 및상기 경화된 폴리머레진을 상기 나노렌즈어레이몰드로부터 분리하는 단계(단계 l)를 포함하는 나노렌즈어레이의 제조방법
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청구항 11에 있어서,상기 폴리머레진은,PDMS(Polydimethylsiloxane), PMMA (Polymethylmethacrylate), TPE (Thermoset polyester), PS (Polystyrene) 및 PC (Polycarbonate) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 나노렌즈어레이의 제조방법
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청구항 11에 있어서,상기 폴리머레진과 경화제의 혼합물은,폴리머 레진:경화제=10:1~100:1의 부피비로 혼합하여 진공 데시케이터에서 감압 처리하여 준비하는 것을 특징으로 하는 나노렌즈어레이의 제조방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한양대학교 산학협력단 기초연구사업(선도연구센터육성지원사업) 미량 및 정량 분석을 위한 micro/nano well array 소자 개발