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도세탁셀 또는 약학적으로 허용되는 이의 염 5 내지 25 중량%, 고형지질류 15 내지 45 중량% 및 비이온성 안정화제 35 내지 80 중량%를 포함하는 고형지질나노입자 조성물로서, 상기 조성물은 도세탁셀 또는 약학적으로 허용되는 이의 염 5 내지 25 중량%, 고형지질류 15 내지 45 중량% 및 비이온성 안정화제 35 내지 80 중량%를 유기용매에 녹인 후 60 내지 80℃에서 유기용매를 증발시키고 온도를 상온으로 낮추어 제조되는 도세탁셀을 함유하는 고체상태의 고형지질류를 포함하는 고형지질나노입자 조성물이고,상기 고형지질류는 트리팔미틴 및 팔미틸알코올로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이고,상기 비이온성 안정화제는 폴리옥시에틸렌 (20) 소르비탄 모노팔미테이트, 소르비탄 모노팔미테이트, 폴리옥시에틸렌 (40) 스테아레이트 및 폴리옥시에틸렌 (100) 스테아레이트으로 이루어진 군에서 선택된 1 이상인,고형지질 나노입자 조성물
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제1항에 있어서, 상기 고형지질나노입자는 중심부 코어에 도세탁셀을 포함하는 고형지질류 및 상기 중심부 코어 외부에 비이온성 안정화제로 이루어진 쉘로 이루어진 코어-쉘 구조인 것인, 조성물
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제1항에 있어서, 상기 유기용매는 에틸아세테이트, 에테르, n-헥산, 사이클로헥산, 테트라하이드로푸란, 메틸렌클로라이드, 포름아마이드, 디메틸설폭사이드, 이소프로판올, 메탄올, 에탄올, 클로로포름, 프로판올, 1
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도세탁셀 또는 약학적으로 허용되는 이의 염 5 내지 25 중량%, 고형지질류 15 내지 45 중량% 및 비이온성 안정화제 35 내지 80 중량%를 유기용매에 녹이는 단계; 및상기 유기용매에 녹인 후 60 내지 80℃에서 유기용매를 증발시킨 후 상온으로 낮추어 고체상태의 고형지질류를 포함하는 고형지질나노입자 조성물을 제조하는 단계를 포함하고,상기 고형지질류는 트리팔미틴 및 팔미틸알코올로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이며,상기 비이온성 안정화제는 폴리옥시에틸렌 (20) 소르비탄 모노팔미테이트, 소르비탄 모노팔미테이트, 폴리옥시에틸렌 (40) 스테아레이트 및 폴리옥시에틸렌 (100) 스테아레이트으로 이루어진 군에서 선택된 1 이상인,제1항의 고형지질나노입자 조성물의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 유기용매는 에틸아세테이트, 에테르, n-헥산, 사이클로헥산, 테트라하이드로푸란, 메틸렌클로라이드, 포름아마이드, 디메틸설폭사이드, 이소프로판올, 메탄올, 에탄올, 클로로포름, 프로판올, 1
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