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기판 위에 순차로 적층된 n형 및 p형 반도체층 상의 일부에 각각 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극을 형성하는 (a) 단계;상기 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극을 포함한 상기 n형 및 p형 반도체층 위에 제 1 보호막층을 형성하는 (b) 단계;상기 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극의 일부가 노출되도록 상기 제 1 보호막층 중 일부를 식각하는 (c) 단계;상기 노출된 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극과 각각 전기적으로 연결되는 복수 개의 n형 제 2 전극 및 복수 개의 p형 제 2 전극을 형성하는 (d) 단계;상기 기판을 제거한 후 상기 기판의 위치에 글래스 또는 형광체층을 형성하는 (e) 단계; 및한 개의 n형 전극과 한 개의 p형 전극을 포함하는 복수 개의 개별 발광소자로 분리하는 (f) 단계를 포함하는 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 제 1 보호막층은 폴리미드, 에폭시 수지, 및 SOG로 구성된 그룹에서 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제 1 보호막층 위에 글래스 또는 세라믹 필름으로 이루어진 제 2 보호막층을 더 추가하는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
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제 3항에 있어서, 상기 제 2 보호막층은, 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극의 일부가 노출되도록 상기 제 1 보호막층과 함께 식각되는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서, 상기 p형 반도체층과 복수 개의 p형 제 1 전극 사이에 광의 반사를 위한 반사금속층을 추가로 더 형성하는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 (c) 단계에서, 상기 복수 개의 n형 제 1 전극의 일부가 노출되는 식각은 메사 식각을 수행하여 측면에 경사기울기를 가지는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 반도체층은 질화물 화합물계 반도체층인 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
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기판 위에 순차로 적층된 n형 및 p형 반도체층 상의 일부에 각각 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극을 형성하는 (a) 단계;상기 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극을 포함한 상기 n형 및 p형 반도체층 위에 제 1 보호막층을 형성하는 (b) 단계;상기 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극의 일부가 노출되도록 상기 제 1 보호막층 중 일부를 식각하는 (c) 단계;상기 노출된 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극과 각각 전기적으로 연결되는 복수 개의 n형 제 2 전극 및 복수 개의 p형 제 2 전극을 형성하는 (d) 단계;상기 기판을 제거한 후 기판이 부착된 반도체층의 일면을 규칙적 또는 불규칙적인 요철을 가지도록 텍스쳐링(texturing)하는 (e) 단계; 및한 개의 n형 전극과 한 개의 p형 전극을 포함하는 복수 개의 개별 발광소자로 분리하는 (f) 단계를 포함하는 발광소자의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제 1 보호막층 위에 글래스 또는 세라믹 필름으로 이루어진 제 2 보호막층을 더 추가하는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 제 2 보호막층은, 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극의 일부가 노출되도록 상기 제 1 보호막층과 함께 식각되는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
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