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칩스케일 패키징 발광소자 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015200394
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 칩스케일로 패키징된 발광소자 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 기판 위에 n형 및 p형 반도체층을 포함하는 발광소자에 있어서 특히, 반도체층 상에 구비된 제 1 전극과, 제 1 보호막층을 사이에 두고 상기 제 1 전극에 전기적으로 연결된 제 2 전극을 포함하는 발광소자와 이들의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 발광소자의 제조과정에서 와이어 본딩과 다이 본딩과정의 생략으로 공정의 단순화 및 제조비용을 절감할 수 있으며 패키지의 두께를 줄일 수 있는 효과가 있어 발광 효율을 극대화할 수 있다. 이렇게 형성된 반도체 발광소자는 다른 패키지 및 인쇄회로기판에 곧바로 실장할 수 있는 장점이 있다.칩스케일, 발광소자, 반도체층, 전극, 보호막층, 와이어본딩, 다이본딩
Int. CL H01L 33/00 (2010.01.01) H01L 33/36 (2010.01.01) H01L 33/56 (2010.01.01) H01L 33/54 (2010.01.01) H01L 33/10 (2010.01.01) H01L 33/22 (2010.01.01)
CPC H01L 33/0008(2013.01) H01L 33/0008(2013.01) H01L 33/0008(2013.01) H01L 33/0008(2013.01) H01L 33/0008(2013.01) H01L 33/0008(2013.01) H01L 33/0008(2013.01) H01L 33/0008(2013.01)
출원번호/일자 1020070066709 (2007.07.03)
출원인 한국광기술원
등록번호/일자 10-0878326-0000 (2009.01.06)
공개번호/일자 10-2007-0079956 (2007.08.08) 문서열기
공고번호/일자 (20090114) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.07.03)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국광기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유영문 대한민국 서울 마포구
2 백종협 대한민국 대전 서구
3 김상묵 대한민국 광주 서구
4 진정근 대한민국 경기 군포시
5 이상헌 대한민국 부산 금정구
6 정 탁 대한민국 광주 광산구
7 이승재 대한민국 전북 전주시 덕진구
8 김윤석 대한민국 서울 강북구
9 이진홍 대한민국 광주 북구
10 김강호 대한민국 광주 광산구
11 오화섭 대한민국 광주 광산구
12 염홍서 대한민국 서울 마포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국광기술원 대한민국 광주광역시 북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.07.03 수리 (Accepted) 1-1-2007-0486498-11
2 조기공개신청서
Request for Early Opening
2007.07.20 수리 (Accepted) 1-1-2007-0526234-14
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.03.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2008-0023017-92
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0229349-03
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2008.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2008-0471091-37
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2008-0548006-50
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.07.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0548005-15
9 심사처리보류(연기)보고서
Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination
2008.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2008-0028061-13
10 등록결정서
Decision to grant
2008.12.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0649424-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2020-5148105-81
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.09 수리 (Accepted) 4-1-2020-5153634-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 위에 순차로 적층된 n형 및 p형 반도체층 상의 일부에 각각 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극을 형성하는 (a) 단계;상기 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극을 포함한 상기 n형 및 p형 반도체층 위에 제 1 보호막층을 형성하는 (b) 단계;상기 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극의 일부가 노출되도록 상기 제 1 보호막층 중 일부를 식각하는 (c) 단계;상기 노출된 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극과 각각 전기적으로 연결되는 복수 개의 n형 제 2 전극 및 복수 개의 p형 제 2 전극을 형성하는 (d) 단계;상기 기판을 제거한 후 상기 기판의 위치에 글래스 또는 형광체층을 형성하는 (e) 단계; 및한 개의 n형 전극과 한 개의 p형 전극을 포함하는 복수 개의 개별 발광소자로 분리하는 (f) 단계를 포함하는 발광소자의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 제 1 보호막층은 폴리미드, 에폭시 수지, 및 SOG로 구성된 그룹에서 선택되는 하나 이상의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제 1 보호막층 위에 글래스 또는 세라믹 필름으로 이루어진 제 2 보호막층을 더 추가하는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
4 4
제 3항에 있어서, 상기 제 2 보호막층은, 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극의 일부가 노출되도록 상기 제 1 보호막층과 함께 식각되는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서, 상기 p형 반도체층과 복수 개의 p형 제 1 전극 사이에 광의 반사를 위한 반사금속층을 추가로 더 형성하는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 (c) 단계에서, 상기 복수 개의 n형 제 1 전극의 일부가 노출되는 식각은 메사 식각을 수행하여 측면에 경사기울기를 가지는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
7 7
제 1항에 있어서,상기 반도체층은 질화물 화합물계 반도체층인 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
8 8
기판 위에 순차로 적층된 n형 및 p형 반도체층 상의 일부에 각각 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극을 형성하는 (a) 단계;상기 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극을 포함한 상기 n형 및 p형 반도체층 위에 제 1 보호막층을 형성하는 (b) 단계;상기 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극의 일부가 노출되도록 상기 제 1 보호막층 중 일부를 식각하는 (c) 단계;상기 노출된 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극과 각각 전기적으로 연결되는 복수 개의 n형 제 2 전극 및 복수 개의 p형 제 2 전극을 형성하는 (d) 단계;상기 기판을 제거한 후 기판이 부착된 반도체층의 일면을 규칙적 또는 불규칙적인 요철을 가지도록 텍스쳐링(texturing)하는 (e) 단계; 및한 개의 n형 전극과 한 개의 p형 전극을 포함하는 복수 개의 개별 발광소자로 분리하는 (f) 단계를 포함하는 발광소자의 제조방법
9 9
제 8항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제 1 보호막층 위에 글래스 또는 세라믹 필름으로 이루어진 제 2 보호막층을 더 추가하는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
10 10
제 9항에 있어서, 상기 제 2 보호막층은, 복수 개의 n형 제 1 전극 및 복수 개의 p형 제 1 전극의 일부가 노출되도록 상기 제 1 보호막층과 함께 식각되는 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
11 11
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12 12
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