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기판의 상부에 순차적으로 적층되는 버퍼층 및 반절연층;
상기 반절연층의 상부에 서로 이격하여 위치하는 다수의 단위 셀을 포함하되,
상기 각 단위 셀은 제 1반도체층, 제 1반사층, 활성층, 제 2반사층, 및 제 2반도체층이 순차적으로 적층되고, 상기 제 1반도체층이 노출되도록 메사 식각된 단위셀의 상부에 도포되는 보호층;
상기 제 1반도체층의 상부에 도포된 상기 보호층의 소정부분을 식각하여 드러난 제 1반도체층과 전기적으로 연결하는 제 1전극; 및
상기 제 2반도체층의 상부에 도포된 상기 보호층의 소정부분을 식각하여 드러난 제 2반도체층과 전기적으로 연결하는 제 2전극;을 구비하는 표면 방출 레이저를 포함하는 다채널 표면 방출 레이저
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제 1항에 있어서, 둘 이상의 상기 단위 셀 사이는 유전체 물질로 충진되는 것을 특징으로 하는 다채널 표면 방출 레이저
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제 2항에 있어서, 상기 유전체 물질은 폴리이미드 또는 BCB 인 것을 특징으로 하는 다채널 표면 방출 레이저
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기판, 버퍼층, 반절연층, 제 1반도체층, 제 1반사층, 활성층, 제 2반사층, 및 제 2반도체층을 순차적으로 적층하는 단계;
상기 버퍼층 또는 반절연층이 노출되도록 메사 식각을 실행하여 적어도 하나 이상의 단위 셀을 형성하는 단계;
상기 단위 셀 각각에 메사 식각을 실행하여 홈을 형성하는 단계;
상기 메사 식각이 이루어진 단위 셀의 상부에 보호막을 적층하는 단계;
상기 홈의 하부면의 소정 부분을 식각하여 제 1반도체층을 노출시키고, 상기 식각된 부분에 제 1전극을 형성하는 단계; 및
상기 제 2반도체층의 상부에 적층된 보호막의 소정 부분을 식각하고, 상기 식각된 부분 제 2전극을 형성하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 다채널 표면 방출 레이저 제조 방법
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제 4항에 있어서, 제 2전극을 형성한 후, 상기 홈 및 단위 셀의 측면에 유전체 물질을 충진하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다채널 표면 방출 레이저 제조 방법
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기판, 버퍼층, 반절연층, 제 1반도체층, 제 1반사층, 활성층, 제 2반사층, 및 제 2반도체층을 순차적으로 적층하는 단계;
상기 버퍼층 또는 반절연층이 노출되도록 메사 식각을 실행하여 적어도 하나 이상의 단위 셀을 형성하고, 형성된 각각의 상기 단위 셀에 홈을 형성하는 단계;
상기 메사 식각이 이루어진 단위 셀의 상부에 보호막을 적층하는 단계;
상기 메사 식각이 이루어진 단위 셀의 측면 및 상기 홈에 유전체 물질을 충진하는 단계;
상기 홈에 충진된 유전체 물질과 상기 홈에 충진된 유전체 물질의 하부면에 형성된 보호막의 소정 부분을 식각하여 제 1반도체층을 노출시키고, 상기 식각된 부분에 제 1전극을 형성하는 단계; 및
상기 제 2반도체층의 상부에 적층된 보호막의 소정 부분을 식각하고, 상기 식각된 부분 제 2전극을 형성하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 다채널 표면 방출 레이저 제조 방법
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