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파장변환물질 및 확산물질을 포함하는 발광다이오드, 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015200466
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 파장변환물질 및 확산물질을 포함하는 발광다이오드, 및 이의 제조방법을 제공한다. 상기 발광다이오드는 베이스 구조물 상에 배치된 발광다이오드 칩, 상기 발광다이오드 칩 상에 배치되고, 확산층 또는 파장변환층에서 선택되는 제1 물질층, 및 상기 제1 물질층 상에 배치되고, 상기 확산층 또는 파장변환층 중 상기 제1 물질층과 서로 다른 종류의 층으로 이루어진 제2 물질층을 포함한다. 또한, 상기 발광다이오드 제조방법은 베이스 구조물 상에 발광다이오드 칩을 형성하는 단계, 상기 발광다이오드 칩 상에 확산층 또는 파장변환층에서 선택되는 제1 물질층을 형성하는 단계, 및 상기 제1 물질층 상에 상기 확산층 또는 파장변환층 중 상기 제1 물질층과 서로 다른 종류의 층으로 이루어진 제2 물질층을 형성하는 단계를 포함한다. 발광다이오드, 확산층, 파장변환층, 파장변환 광확산층, 광경화 코팅법
Int. CL H01L 33/50 (2010.01.01) H01L 33/54 (2010.01.01)
CPC H01L 33/504(2013.01)H01L 33/504(2013.01)H01L 33/504(2013.01)H01L 33/504(2013.01)
출원번호/일자 1020090117595 (2009.12.01)
출원인 한국광기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0061067 (2011.06.09) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.12.01)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국광기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이광철 대한민국 광주광역시 북구
2 김재필 대한민국 광주광역시 광산구
3 송상빈 대한민국 광주광역시 광산구
4 김상묵 대한민국 광주광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2009-0740630-14
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0279471-64
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.07.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0564843-17
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0662286-51
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0580754-63
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2020-5148105-81
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.09 수리 (Accepted) 4-1-2020-5153634-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
베이스 구조물 상에 배치된 발광다이오드 칩; 상기 발광다이오드 칩 상에 배치되고, 확산층 또는 파장변환층에서 선택되는 제1 물질층; 및 상기 제1 물질층 상에 배치되고, 상기 확산층 또는 파장변환층 중 상기 제1 물질층과 서로 다른 종류의 층으로 이루어진 제2 물질층을 포함하는 발광다이오드
2 2
제1항에 있어서, 상기 확산층은 코어셀 구조를 가지는 물질을 포함하는 발광다이오드
3 3
제1항에 있어서, 상기 확산층은 무기화합물 또는 메타물질을 포함하는 발광다이오드
4 4
제1항에 있어서, 상기 파장변환층은 상기 발광다이오드 칩의 상면부에서 측면부로 갈수록 두께가 얇아지는 발광다이오드
5 5
제1항에 있어서, 상기 발광다이오드 칩은 청색광을 방출하는 소자이고, 상기 파장변환층은 황색변환층인 발광다이오드
6 6
제1항에 있어서, 상기 발광다이오드 칩은 자외선광을 방출하는 소자이고, 상기 파장변환층은 적색, 녹색 및 청색 파장의 범위를 갖는 물질을 모두 함유하는 층인 발광다이오드
7 7
베이스 구조물 상에 배치된 발광다이오드 칩; 및 상기 발광다이오드 칩 상에 배치되는 파장변환 광확산층을 포함하는 발광다이오드
8 8
제7항에 있어서, 상기 파장변환 광확산층은 상기 발광다이오드 칩의 상부면 상에 배치되는 발광다이오드
9 9
제7항에 있어서, 상기 발광다이오드 칩 및 상기 파장변환 광확산층 사이에 배치되는 보호층을 더 구비하고, 상기 파장변환 광확산층은 상기 보호층의 상부면 상에 배치되는 발광다이오드
10 10
제7항에 있어서, 상기 파장변환 광확산층은 호(arc) 형상, 초승달 형상, 또는 돔(dome) 형상을 가지는 발광다이오드
11 11
제7항에 있어서, 상기 파장변환 광확산층은 상기 발광다이오드 칩의 상면부에서 측면부로 갈수록 두께가 얇아지는 발광다이오드
12 12
베이스 구조물 상에 발광다이오드 칩을 형성하는 단계; 상기 발광다이오드 칩 상에 확산층 또는 파장변환층에서 선택되는 제1 물질층을 형성하는 단계; 및 상기 제1 물질층 상에 상기 확산층 또는 파장변환층 중 상기 제1 물질층과 서로 다른 종류의 층으로 이루어진 제2 물질층을 형성하는 단계를 포함하는 발광다이오드 제조방법
13 13
제12항에 있어서, 상기 제1 물질층 또는 제2 물질층은 광경화 코팅법, 금형몰딩법, 습식코팅법 또는 진공증착법을 사용하여 형성하는 발광다이오드 제조방법
14 14
제12항에 있어서, 상기 제1 물질층을 형성하는 방법은 확산물질 또는 파장변환물질에 광경화물질을 첨가하여 혼합물을 제조하는 단계; 상기 혼합물을 상기 발광다이오드 칩 상에 도포하는 단계; 상기 발광다이오드 칩에 전계를 인가하여 방출되는 광에 상기 혼합물을 노광시켜, 상기 광량에 비례하여 상기 혼합물을 경화시키는 단계; 및 상기 발광다이오드 칩으로부터 상기 혼합물을 격리시키고, 경화되지 않은 잔여 혼합물은 현상하거나 세척하여 제거하는 단계를 포함하는 발광다이오드 제조방법
15 15
제12항에 있어서, 상기 제2 물질층을 형성하는 방법은 확산물질 또는 파장변환물질에 광경화물질을 첨가하여 혼합물을 제조하는 단계; 상기 혼합물을 상기 제1 물질층 상에 도포하는 단계; 상기 발광다이오드 칩에 전계를 인가하여 방출되는 광에 상기 혼합물을 노광시켜, 상기 광량에 비례하여 상기 혼합물을 경화시키는 단계; 및 상기 제1 물질층으로부터 상기 혼합물을 격리시키고, 경화되지 않은 잔여 혼합물은 현상하거나 세척하여 제거하는 단계를 포함하는 발광다이오드 제조방법
16 16
베이스 구조물 상에 발광다이오드 칩을 배치시키는 단계; 및 상기 발광다이오드 칩 상에 파장변환 광확산층을 형성하는 단계를 포함하는 발광다이오드 제조방법
17 17
제16항에 있어서, 상기 파장변환 광확산층을 형성하는 방법은 확산물질, 파장변환물질 및 광경화물질 모두를 혼합하여, 혼합물을 제조하고, 상기 혼합물을 상기 발광다이오드 칩 상에 도포하는 단계; 상기 발광다이오드 칩에 전계를 인가하여 방출되는 광에 상기 혼합물을 노광시켜, 상기 광량에 비례하여 상기 혼합물을 경화시키는 단계; 및 상기 발광다이오드 칩으로부터 상기 혼합물을 격리시키고, 경화되지 않은 잔여 혼합물은 현상하거나 세척하여 제거하는 단계를 포함하는 발광다이오드 제조방법
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