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고출력 발광 소자 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015200480
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, n형 반도체 층의 표면에 n형 전극 패드를 형성하지 않고, 지지층(receptor)의 일면에 n형 전극 패드와 p형 전극 패드를 형성하여, n형 전극 패드에 의해 발광 영역이 차단되는 현상을 제거하여 광의 손실을 최소화하는 것에 의해 발광 소자의 광출력을 개선할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면 지지층 자체가 발광 소자에서 발생한 열을 외부로 방출하는 방열판(heat sink)으로서의 역할을 하여, 발광 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.본 발명의 고출력 발광 소자는 n형 전극 패드 및 p형 전극 패드가 지지층(receptor)의 일면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하며, 상기 n형 전극 패드와 n형 반도체층, 상기 p형 전극 패드와 반사막층이 각각 금속성 물질에 의해 상기 지지층을 관통하여 연결되어 있는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 33/38 (2010.01.01) H01L 33/40 (2010.01.01) H01L 33/64 (2010.01.01)
CPC H01L 33/38(2013.01) H01L 33/38(2013.01) H01L 33/38(2013.01) H01L 33/38(2013.01) H01L 33/38(2013.01)
출원번호/일자 1020100104524 (2010.10.26)
출원인 한국광기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0043295 (2012.05.04) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.26)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국광기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정탁 대한민국 광주광역시 광산구
2 김승환 대한민국 전라남도 무안군
3 주진우 대한민국 광주광역시 광산구
4 이승재 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
5 이상헌 대한민국 광주광역시 광산구
6 정성훈 대한민국 경기도 용인시 처인구
7 백종협 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이은철 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)
2 이우영 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0692181-79
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.09.27 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.10.18 수리 (Accepted) 9-1-2011-0082379-14
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.11.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0686490-67
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.04.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0217301-14
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2020-5148105-81
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.09 수리 (Accepted) 4-1-2020-5153634-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
발광 소자에 있어서,n형 전극 패드 및 p형 전극 패드가 지지층(receptor)의 일면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자
2 2
제 1 항에 있어서,상기 고출력 발광 소자는,상기 n형 전극 패드와 n형 반도체층, 상기 p형 전극 패드와 반사막층이 각각 상기 지지층을 관통하는 금속성 물질에 의해 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자
3 3
제 1 항에 있어서,상기 고출력 발광 소자는,발광 소자의 최상부에 위치한 불순물이 도핑되지 않은 비도핑 반도체층, 상기 비도핑 반도체층의 하부에 위치한 n형 반도체층 및 상기 n형 반도체층의 하부에 위치한 제 1 금속 연결층 및 활성층을 포함하는 것을 특징으로 하되,상기 제 1 금속 연결층의 하부에는 제 1 시드 금속층, 상기 지지층 및 상기 n형 전극 패드를 포함하고, 상기 활성층의 하부에는 p형 반도체층, 반사막층, 제 2 시드 금속층, 상기 지지층 및 상기 p형 전극 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자
4 4
제 3 항에 있어서,상기 고출력 발광 소자는,상기 제 1 시드 금속층과 상기 n형 전극 패드를 연결하기 위하여 지지층을 관통하도록 하는 제 2 금속 연결층; 및상기 제 2 시드 금속층과 상기 p형 전극 패드를 연결하기 위하여 지지층을 관통하도록 하는 제 3 금속 연결층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자
5 5
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 고출력 발광 소자는,상기 제 1 금속 연결층 및 제 1 시드 금속층을 포함하는 n형 전극 패드로 연결되는 경로와 상기 활성층, p형 반도체층, 반사막층 및 제 2 시드 금속층을 포함하는 상기 p형 전극 패드로 연결되는 경로 사이에 절연층을 형성하여 두 가지 경로를 전기적으로 분리한 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 지지층이 전도성 기판일 경우에는 상기 제 2 금속 연결층 및 제 3 금속 연결층을 상기 지지층과 전기적으로 분리하기 위한 보호막;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자
7 7
제 3 항에 있어서,상기 비도핑 반도체층의 전 두께와 상기 n형 반도체층의 일부 두께에 대해 표면 거칠기(roughness) 공정에 의해 표면이 형성된 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자
8 8
(a) 사파이어 기판 위에 비도핑 반도체층, n형 반도체층, 활성층 및 p형 반도체층을 형성하는 단계;(b) 반사막층을 형성하는 단계;(c) 일부 표면을 식각하는 것에 의해 상기 p형 반도체층의 전 두께, 상기 활성층의 전 두께 및 상기 n형 반도체층의 일정 부분의 두께를 제거하는 단계;(d) 상기 반사막층이 형성되지 않은 표면의 일부분과 상기 반사막층의 바깥쪽 표면의 일부분에 절연층을 형성하는 단계;(e) 상기 n형 반도체층과 n형 전극 패드를 연결하기 위한 제 1 금속 연결층을 형성하는 단계;(f) 상기 제 1 금속 연결층의 상부와 반사막층의 상부에 제 1 시드 금속층 및 제 2 시드 금속층을 각각 형성하는 단계;(g) 지지층을 형성하는 단계;(h) 상기 지지층의 일부를 식각하고, 식각된 부분에 금속 물질을 삽입하여 제 2 금속 연결층과 제 3 금속 연결층을 형성하는 단계;(i) 상기 사파이어 기판을 제거하는 단계; 및(j) 상기 제 2 금속 연결층 및 제 3 금속 연결층 위에 n형 전극 패드와 p형 전극 패드를 각각 형성하는 단계;를 포함하되,상기 (a) 단계 내지 (j) 단계의 순서는 변경되어 질 수 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자 제조 방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 (g) 단계 및 상기 (h) 단계는 별도의 공정에 의해 진행된 후, 상기 (f) 단계가 완료된 소자와 접합하는 것에 의해 하나의 소자로 형성될 수 있는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자 제조 방법
10 10
제 8 항에 있어서,상기 지지층이 전도성 기판일 경우, 상기 제 2 금속 연결층 및 제 3 금속 연결층을 상기 지지층과 전기적으로 분리하기 위한 보호막을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자 제조 방법
11 11
제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 비도핑 반도체 층의 전 두께와 상기 n형 반도체층의 일부 두께에 대해 표면 거칠기(roughness)를 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고출력 발광 소자 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 전자부품연구원 국제공동연구개발사업 이종기판을 이용한 0.5W급 이상 대면적, 고출력 청색 발광다이오드 개발