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박막형성공간을 가지는 챔버와, 상기 챔버의 박막형성공간에 위치되어 측면에 피증착물을 고정하기 위한 피증착물장착부가 구비된 홀더유닛과,상기 피증착물장착부의 수평중심축에 대해 하부측의 삼사분면과 사사분면측에 위치되어 하부측으로부터 상기 피증착물장착부의 수평중심측으로 타겟물질을 상향 방출하기 위한 스퍼터건들과,상기 수평중심축의 상부측의 챔버에 설치되어 상기 피증착물장착부의 중심을 향하여 이온빔을 하향조사하는 적어도 하나의 이온건과, 상기 챔버의 박막형성공간을 진공시키기 위한 진공퍼지유닛을 구비한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
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제1 항에 있어서,상기 챔버에는 홀더유닛를 공전, 자전 및 승강시키기 위한 구동구을 더 구비한 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치
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제1 항에 있어서, 상기 스퍼터건은 마그네트론 스퍼터건인 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치
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제1 항에 있어서,상기 홀더장착부에 장착된 피증착대상물을 가열하기 위한 히터를 가진 가열부가 더 구비된 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치
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챔버의 박막형성공간에 위치된 홀더유닛의 측면에 마련된 피증착물장착부에 증착을 위한 피증착물을 고정하는 피증착물장착단계와,챔버의 내부를 소정의 진공도로 유지시키기 위한 진공퍼지단계와, 상기 피증착물장착부의 수평중심축에 대해 하부측의 삼사분면과 사사분면측에 위치된 스퍼터건들로부터 타겟물질을 상기 피증착물에 상향 방출하는 스퍼터링단계와,상기 수평중심축의 상부측의 챔버에 설치된 기온건에 의해 상기 피증착물의 중심의 타겟물질의 이동경로를 향하여 이온빔을 조사하는 이온빔조사단계를 포함한 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치를 이용한 박막형성방법
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제5 항에 있어서, 상기 스퍼터링 단계에 있어서, 구동부에 의해 피증착물이 설치되는 홀더유닛의 기판장착부를 자전, 공정 및 승강시키는 구동단계를 더 구비한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치를 이용한 박막형성방법
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제5 항에 있어서, 상기 홀더유닛의 피증착물장착부에 장착된 피증착물을 가열하기 위한 가열단계를 더 구비한 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치를 이용한 박막형성방법
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