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기판;상기 기판의 일면인 동일 평면 위에 서로 간격을 두고 형성되되, 서로를 향해 돌출된 형상을 구비하여 전극 간 간격을 좁혀 방전효율을 향상시키는 X 전극 및 Y 전극;상기 X 전극 및 Y 전극을 둘러싸는 유전체; 및상기 유전체를 둘러싸는 수화방지막;을 포함하여, 플라즈마 방전공간은 피처리물이 위치하는 곳이 되게 한 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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제1항에 있어서, 상기 유전체와 수화방지막 사이에 상기 유전체를 둘러싸는 2차 전자생성층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 X 전극과 Y 전극은 각각 T자형, 'ㅗ' 자형, 'n'자형, 'H'자형, 'h'자형, '+'자형, '王'자형 중 어느 하나를 포함하는 형상인 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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제3항에 있어서, 상기 X 전극과 Y 전극은 'ㅗ' 자형, 'n'자형, 'H'자형, 'h'자형, '+'자형, '王'자형 중 어느 하나를 포함하는 형상을 반복 배열하여 메쉬 전극을 이루는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 2차 전자생성층은 MgO, MgSrO, MgCaO 중 어느 하나를 포함한 재료로 구성하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 수화방지막은 Al2O3 인 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판은 평면 또는 곡면으로 이루어지고, 냉각장치를 더 구비한 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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제7항에 있어서, 상기 기판은 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리이미드(PI), 폴리올레핀(PO), PES(polyether sulfone) 중 어느 하나로 구성하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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기판의 일면에 포토리소그래피를 이용하여 서로를 향해 돌출 형상을 구비하여 전극 간 간격을 좁힌 X 전극 및 Y 전극을 동일평면에 존재하도록 형성하는 단계;상기 X 전극 및 Y 전극을 둘러싸도록 유전체를 코팅하는 단계;상기 유전체를 둘러싸도록 2차 전자생성층을 코팅하는 단계; 및상기 2차 전자생성층을 둘러싸도록 수화방지막을 코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스의 제조방법
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제9항에 있어서, 유전체 코팅은, 스크린 프린팅, 스핀 코팅, 딥 코팅 중 어느 하나로 실시하고, 상기 2차 전자생성층은 전자빔 증착, 스퍼터(sputter), 원자층 증착법(ALD), 이온 플레이팅(Ion Plating) 중 어느 하나로 실시하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 수화방지막의 코팅은, 전자빔 증착, 스퍼터, 원자층 증착법(ALD), 이온 플레이팅(Ion Plating) 중 어느 하나로 실시하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스의 제조방법
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기판;상기 기판의 후면에 형성되는 전극 및상기 전극을 덮는 유전체층;을 포함하는 전극 모듈 두 개를 서로 마주하게 하되, 상기 기판과 기판 사이에 피처리물을 놓을 수 있도록 상기 전극 모듈을 배치하고, 상기 전극들에 전원의 서로 다른 극성 단자를 인가하여 상기 기판과 기판 사이에서 플라즈마를 발생시키는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스
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제9항에 있어서, 수화방지막을 코팅하는 단계 이후, 냉각장치를 설치하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 소스의 제조방법
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