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형광체가 코팅된 기판 및 상기 기판상에 형성된 2차원 광결정 구조를 포함하는 박막형광체에 있어서, 상기 기판의 표면은 나노 사이즈의 거칠기를 갖는 비평탄면인 것을 특징으로 하는 박막형광체
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제 1항에 있어서, 상기 기판에 코팅된 형광체 내부에서 발생한 빛이 나노 사이즈의 거칠기를 갖는 비평탄면에서 산란에 의해서 기판 외부로 추출되는 것을 특징으로 하는 박막 형광체
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제 2항에 있어서, 상기 기판 외부로 추출되는 빛 이외의 빛이 나노 사이즈의 거칠기를 갖는 비평탄면에서 확산 반사에 의해 기판 내부로 되돌아가는 것을 특징으로 하는 박막형광체
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제 1항에 있어서, 상기 기판에 코팅된 형광체 내부에서 발생한 빛이 상기 2차원 광결정 구조를 통과하면 산란됨을 특징으로 하는 박막형광체
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제 1항에 있어서, 상기 나노 사이즈의 거칠기는 상기 기판상에 적층된 나노 입자에 의하여 달성되며, 상기 나노 입자의 크기는 20 내지 300nm인 것을 특징으로 하는 박막 형광체
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제 1항에 있어서, 상기 2차원 광결정 구조의 높이는 10nm 내지 5000nm인 것을 특징으로 하는 박막 형광체
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제 1항에 있어서, 상기 박막 형광체의 소멸계수(extinction coefficient)는 10-2 이하인 것을 특징으로 하는 박막형광체
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제 1항에 있어서, 상기 형광체는 박막 형광체로 제조 가능한 산화물, 황화물 또는 질화물 등 가시영역의 빛을 방출하는 무기발광물질로 구성된 군 중에서 선택된 어느하나를 사용하여 제조함을 특징으로 하는 박막 형광체
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기판 위에 형광체를 나노 사이즈의 거칠기를 갖는 비평탄면으로 형성하는 공정 및 2차원 광결정 구조를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형광체의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 기판 위에 형광체를 나노 사이즈의 거칠기를 갖는 비평탄면으로 형성하는 공정은, 졸-젤법으로 졸형태의 형광체를 제조하는 단계; 및 상기 졸형태의 형광체를 기판에 스핀코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형광체의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 졸-젤법은 형광체로 제조될 전구체를 용매에 용해한 후 시트릭 산을 첨가하여 졸형태의 형광체를 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 형광체의 제조방법
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제 11항에 있어서, 상기 형광체로 제조될 전구체는 산화물, 황화물 및 질화물로 구성된 군 중에서 어느 하나인 것을 특징으로 하는 박막 형광체의 제조방법
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제 11항에 있어서, 상기 용매에 융제를 첨가하여 박막 형광체의 거칠기를 조절함을 특징으로 하는 박막 형광체의 제조방법
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제 13항에 있어서, 상기 융제는 Li2CO3임을 특징으로 하는 박막 형광체의 제조방법
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제 13항에 있어서, 상기 형광체의 거칠기는 상기 기판상에 적층된 나노 입자에 의하여 달성되며, 상기 나노입자의 크기를 20 내지 300nm로 증가시키는 것을 특징으로 하는 박막 형광체의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 2차원 광결정 나노구조를 형성하는 공정은 기판 위에 광결정 박막을 증착하는 단계;
상기 광결정 박막 위에 마스크로 사용할 크롬을 증착하는 단계;
상기 크롬 박막 위에 포토레지스트를 코팅하는 단계;
상기 포토레지스트를 노광 및 현상하는 단계;
제 1차 식각을 통해 상기 크롬 박막을 식각하여 이차원 나노구조의 크롬 마스크를 패터닝하는 단계; 및
노출된 상기 광결정 박막을 제 2차 식각하여 2차원 광결정 구조를 형상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형광체의 제조방법
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제 16항에 있어서, 상기 기판은 박막 형광체가 코팅된 석영 또는 사파이어 기판을 사용함을 특징으로 하는 박막형광체의 제조방법
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제 16항에 있어서, 상기 크롬을 증착하는 단계는 열증착방법으로 하며, 증착 두께는 20 내지 100nm로 함을 특징으로 하는 박막형광체의 제조방법
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