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공정 챔버의 배기관과 연결되고, 상기 공정 챔버 내의 반응 가스를 인입시켜 플라즈마 상태로 만드는 셀프 플라즈마 챔버의 셀프 플라즈마 챔버 오염 억제 장치에 있어서,상기 셀프 플라즈마 챔버의 윈도우에 설치되며, 상기 공정 챔버로부터 인입된 오염 유발 물질이 윈도우에 축적되는 축적 반응이 억제되도록 윈도우의 온도를 제어하는 온도제어수단을 구비하되,상기 온도제어수단은 상기 윈도우를 가열시키는 온도상승부로 형성되며,상기 온도상승부는,상기 윈도우의 외표면에 접촉되어 윈도우의 온도를 상승시키며, 세라믹 히터 또는 PTC 히터로 형성되어, 상기 세라믹 히터 또는 PTC 히터의 열을 전달하기 위한 전도띠가 윈도우 둘레를 따라 형성된 히터부;상기 히터부의 온도를 측정하는 센서부; 및상기 히터부의 온도를 제어하고, 상기 센서부에 의해 측정된 온도에 따라 상기 히터부의 온도를 제어하는 제어부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 셀프 플라즈마 챔버 오염 억제 장치
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제 1항에 있어서, 상기 온도상승부는,상기 윈도우의 온도가 일정 온도 이상이 되면 상기 히터부를 단락시키는 온도 퓨즈가 더 형성된 것을 특징으로 하는 셀프 플라즈마 챔버 오염 억제 장치
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공정 챔버의 배기관과 연결되고, 상기 공정 챔버 내의 반응 가스를 인입시켜 플라즈마 상태로 만드는 셀프 플라즈마 챔버의 셀프 플라즈마 챔버 오염 억제 장치에 있어서,상기 셀프 플라즈마 챔버의 윈도우에 설치되며, 상기 공정 챔버로부터 인입된 오염 유발 물질이 윈도우에 축적되는 축적 반응이 억제되도록 윈도우의 온도를 제어하는 온도제어수단을 구비하되,상기 온도제어수단은 상기 윈도우를 가열시키는 온도상승부로 형성되며,상기 온도상승부는,상기 윈도우의 내표면에서부터 상기 셀프 플라즈마 챔버에 생성되는 플라즈마 중심까지 전도대의 형태로 형성되어, 상기 플라즈마의 열이 전도되어 상기 윈도우의 온도를 상승시키는 것을 특징으로 하는 셀프 플라즈마 챔버 오염 억제 장치
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제 7항에 있어서, 상기 전도대는,길이 방향으로 긴 탐침 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 셀프 플라즈마 챔버 오염 억제 장치
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제 7항에 있어서, 상기 전도대는,석영, 세라믹 및 사파이어 중 어느 하나의 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 셀프 플라즈마 챔버 오염 억제 장치
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제 1항, 제4항, 제7항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 온도제어수단은,상기 셀프 플라즈마 챔버의 플랜지에 더 설치되며, 상기 공정 챔버로부터 인입된 오염 유발 물질이 플랜지 및 윈도우에 축적되는 축적 반응이 억제되도록 플랜지의 온도를 제어하는 온도제어수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 셀프 플라즈마 챔버 오염 억제 장치
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