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CIGS 박막 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015202619
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 CIGS 박막 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 고가의 결정질 실리콘 태양 전지를 대체할 수 있는 고효율 및 저가의 차세대 태양 전지 재료로 활용가능한 CIGS 박막 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 a) 구리, 인듐, 및 갈륨을 포함하는 합금 타겟을 기판의 상부에 스퍼터링하여 상기 기판의 상부에 CIG 전구체를 형성하는 단계; (b) 상기 CIG 전구체를 셀레늄 분위기에서 1차 열처리하여 상기 기판의 상부에 구리-셀레늄(Cu-Se) 화합물, 인듐-셀레늄(In-Se) 화합물, 및 갈륨-셀레늄(Ga-Se) 화합물을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 구리-셀레늄 화합물, 상기 인듐-셀레늄 화합물, 및 상기 갈륨-셀레늄 화합물을 셀레늄 분위기에서 2차 열처리하여 상기 기판의 상부에 CIGS 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 CIG-3원 금속 합금 타겟을 이용한 원-스텝(one-step) 스퍼터링 및 2단계의 셀렌화 열처리 과정을 거쳐 우수한 표면 조도(surface roughness), 균일한 조성, 높은 박막 밀도, 및 큰 결정립을 갖는 CIGS 박막을 제조할 수 있으므로, 대면적의 CIGS 박막 제조, 제조 공정의 간소화, 및 제조 비용의 절감이 가능한 효과를 갖는다.
Int. CL C23C 14/34 (2006.01) H01L 31/18 (2006.01) C23C 14/14 (2006.01)
CPC C23C 14/0623(2013.01) C23C 14/0623(2013.01) C23C 14/0623(2013.01) C23C 14/0623(2013.01) C23C 14/0623(2013.01)
출원번호/일자 1020110064201 (2011.06.30)
출원인 한국산업기술대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0007188 (2013.01.18) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.06.30)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국산업기술대학교산학협력단 대한민국 경기도 시흥시 산기대학로

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송용원 대한민국 경기도 안양시 동안구
2 이승인 대한민국 울산광역시 중구
3 이유리 대한민국 서울특별시 동대문구
4 박상진 대한민국 경기도 고양시 덕양구
5 강종성 대한민국 경기도 부천시 원미구
6 박태은 대한민국 서울특별시 강북구
7 이정웅 대한민국 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2011-0499714-11
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.09.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.11.06 수리 (Accepted) 9-1-2012-0083083-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.12.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0739652-23
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.02.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-0100692-28
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.03.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-0186334-92
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.04.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0253133-18
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.05.30 수리 (Accepted) 4-1-2014-0066577-70
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번호 청구항
1 1
(a) 구리, 인듐, 및 갈륨을 포함하는 합금 타겟을 기판의 상부에 스퍼터링하여 상기 기판의 상부에 CIG 전구체를 형성하는 단계;(b) 상기 CIG 전구체를 셀레늄 분위기에서 1차 열처리하여 상기 기판의 상부에 구리-셀레늄(Cu-Se) 화합물, 인듐-셀레늄(In-Se) 화합물, 및 갈륨-셀레늄(Ga-Se) 화합물을 형성하는 단계; 및(c) 상기 구리-셀레늄 화합물, 상기 인듐-셀레늄 화합물, 및 상기 갈륨-셀레늄 화합물을 셀레늄 분위기에서 2차 열처리하여 상기 기판의 상부에 CIGS 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 합금 타겟에 포함된 인듐과 갈륨의 조성비는 1:99 내지 99:1인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에 앞서서,상기 기판의 상부에 몰리브덴 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
4 4
제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 스퍼터링은 1 내지 100mtorr의 아르곤 분압에서 1 내지 100watt의 스퍼터링 전력(sputtering power)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 기판은 소다 석회 유리(soda lime glass) 기판이며, 상기 기판의 온도는 15도 내지 50도인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 (b) 단계는 상기 셀레늄 분위기에서 상기 기판의 온도를 300도 내지 400도로 하여 상기 기판 상부에 형성된 상기 CIG 전구체를 열처리하는 단계인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (c) 단계는 상기 셀레늄 분위기에서 상기 기판의 온도를 400도 내지 600도로 하여 상기 기판 상부에 형성된 상기 구리-셀레늄 화합물, 상기 인듐-셀레늄 화합물, 및 상기 갈륨-셀레늄 화합물을 열처리하는 단계인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (b) 단계 및 상기 (c) 단계에서,상기 셀레늄 분위기는 고체 셀레늄 소스를 기화시켜 형성되며, 상기 고체 셀레늄 소스는 구리-셀레늄 화합물, 인듐-셀레늄 화합물, 또는 갈륨-셀레늄 화합물인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.