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(a) 구리, 인듐, 및 갈륨을 포함하는 합금 타겟을 기판의 상부에 스퍼터링하여 상기 기판의 상부에 CIG 전구체를 형성하는 단계;(b) 상기 CIG 전구체를 셀레늄 분위기에서 1차 열처리하여 상기 기판의 상부에 구리-셀레늄(Cu-Se) 화합물, 인듐-셀레늄(In-Se) 화합물, 및 갈륨-셀레늄(Ga-Se) 화합물을 형성하는 단계; 및(c) 상기 구리-셀레늄 화합물, 상기 인듐-셀레늄 화합물, 및 상기 갈륨-셀레늄 화합물을 셀레늄 분위기에서 2차 열처리하여 상기 기판의 상부에 CIGS 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 합금 타겟에 포함된 인듐과 갈륨의 조성비는 1:99 내지 99:1인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에 앞서서,상기 기판의 상부에 몰리브덴 전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 스퍼터링은 1 내지 100mtorr의 아르곤 분압에서 1 내지 100watt의 스퍼터링 전력(sputtering power)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 기판은 소다 석회 유리(soda lime glass) 기판이며, 상기 기판의 온도는 15도 내지 50도인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (b) 단계는 상기 셀레늄 분위기에서 상기 기판의 온도를 300도 내지 400도로 하여 상기 기판 상부에 형성된 상기 CIG 전구체를 열처리하는 단계인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (c) 단계는 상기 셀레늄 분위기에서 상기 기판의 온도를 400도 내지 600도로 하여 상기 기판 상부에 형성된 상기 구리-셀레늄 화합물, 상기 인듐-셀레늄 화합물, 및 상기 갈륨-셀레늄 화합물을 열처리하는 단계인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (b) 단계 및 상기 (c) 단계에서,상기 셀레늄 분위기는 고체 셀레늄 소스를 기화시켜 형성되며, 상기 고체 셀레늄 소스는 구리-셀레늄 화합물, 인듐-셀레늄 화합물, 또는 갈륨-셀레늄 화합물인 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 제조 방법
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