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광학계의 왜곡 수차 측정 방법 및 왜곡 수차 측정 장치

  • 기술번호 : KST2015202657
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광학계의 왜곡 수차 측정 방법 및 왜곡 수차 측정 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 광학계의 왜곡 수차 측정 방법은 조명부에서 마스크로 광을 조사시키고, 마스크를 통과한 광이 렌즈부에 의해 집중되어 측정 평면에 스팟 어레이를 형성한다. 센서부는 측정 평면에 형성된 스팟 어레이의 군을 측정하고 스테이지에 의해 이동하여 다음 스팟 어레이의 군을 측정한다. 이때 스테이지의 반복 정밀도 에러를 줄이기 위해서 첫 번째 군에 포함된 스팟 어레이의 마지막 열과 두 번째 군의 첫 번째 열이 일치하도록 센서 어레이의 군을 측정한다. 이러한 방식으로 스테이지를 이동하면서 스팟 어레이로 구성된 군들을 원하는 측정 면적만큼 반복 측정한다. 제어부는 두 개의 인접한 이미지에 포함된 동일한 스팟 어레이의 열이 중첩되도록 정렬하여 복수의 이미지를 결합하고, 결합된 이미지 상의 스팟의 위치와 이론적인 스팟의 위치를 비교하여 왜곡 수차를 계산한다. 본 발명에 따른 광학계의 왜곡 수차 측정 방법은 인접한 이미지에서 동일한 스팟을 포함하도록 촬영하고 동일한 스팟을 중첩시켜 하나의 이미지로 결합하여 왜곡 수차를 구함으로써, 스테이지의 위치 결정 오차에 의한 영향을 받지 않는다. 또한, 스팟 어레이를 한번에 촬영해 나가므로 테스트 패턴의 위치 측정에 걸리는 시간을 줄일 수 있어 왜곡 수차를 빨리 측정할 수 있다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01) G01M 11/02 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC G01M 11/02(2013.01) G01M 11/02(2013.01) G01M 11/02(2013.01)
출원번호/일자 1020110098577 (2011.09.28)
출원인 한국산업기술대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1264547-0000 (2013.05.08)
공개번호/일자 10-2013-0034521 (2013.04.05) 문서열기
공고번호/일자 (20130514) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.09.28)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국산업기술대학교산학협력단 대한민국 경기도 시흥시 산기대학로

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정미숙 대한민국 인천광역시 남동구
2 유진근 대한민국 경상남도 진주시
3 주예나 대한민국 경기도 군포시
4 이지훈 대한민국 충청남도 천안시 동남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국산업기술대학교산학협력단 경기도 시흥시 산기대학로
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0759470-08
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.11.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0692041-12
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0044602-37
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.02.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0126391-99
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0126393-80
6 등록결정서
Decision to grant		 2013.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0291803-81
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.05.30 수리 (Accepted) 4-1-2014-0066577-70
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
조명부에서 마스크로 광을 조사하는 단계;상기 마스크를 통과한 광이 렌즈부에 의해 집중되어 측정 평면에 스팟 어레이를 형성하는 단계;스테이지에 장착된 센서부가 상기 스테이지에 의해 이동하면서 상기 측정 평면에 형성된 스팟 어레이를 복수회에 걸쳐 촬영하되, 인접한 두 개의 이미지가 동일한 스팟 어레이의 열을 포함하도록, 상기 센서부는 제1 스팟 내지 제3 스팟을 포함하도록 인접한 이미지인 제1 이미지와 제2 이미지를 촬영하는 단계;인접한 두 개의 이미지에 포함된 동일한 스팟 어레이의 열이 중첩되도록 정렬하되, 상기 제2 이미지 상의 제1 스팟이 제1 이미지 상의 제1 스팟과 일치하도록 상기 제2 이미지를 이동시키고, 상기 제2 이미지 상의 제2 스팟과 상기 제1 이미지 상의 제2 스팟과의 절대 거리 및 상기 제2 이미지 상의 제3 스팟과 상기 제1 이미지 상의 제3 스팟과의 절대 거리의 합이 최소가 되도록 상기 일치된 제1 스팟을 기준으로 제2 이미지를 회전시킨 후, 회전된 제2 이미지를 제1 이미지에 결합함으로써 복수의 이미지를 결합하는 단계; 및상기 결합된 이미지 상의 스팟 어레이와 이론적인 스팟 어레이의 위치를 비교하여 왜곡 수차를 계산하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계의 왜곡 수차 측정 방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 이미지 결합 단계를 모든 인접한 이미지에 적용하여 복수의 이미지가 하나의 이미지로 결합되도록 하는 것을 특징으로 하는 광학계의 왜곡 수차 측정 방법
4 4
조명부;격자 배열을 갖는 패턴이 형성되고, 상기 조명부로부터 조사된 광이 통과하는 마스크;상기 마스크를 통과한 광을 집중시키는 렌즈부;상기 렌즈부에 의해 집중된 광이 스팟 어레이를 형성하는 측정 평면;스테이지에 장착되며, 상기 스테이지에 의해 이동하면서 상기 측정 평면에 형성된 스팟 어레이를 복수회에 걸쳐 촬영하되, 인접한 두 개의 이미지가 동일한 스팟 어레이의 열을 포함하도록 촬영하는 센서부; 및인접한 두 개의 이미지에 포함된 동일한 스팟 어레이의 열이 중첩되도록 정렬하여 복수의 이미지를 결합하고, 상기 결합된 이미지 상의 스팟 어레이와 이론적인 스팟 어레이의 위치를 비교하여 왜곡 수차를 계산하는 제어부;를 포함하고,상기 센서부는 제1 스팟 내지 제3 스팟을 포함하도록 인접한 이미지인 제1 이미지와 제2 이미지를 촬영하고,상기 제어부는 상기 제2 이미지 상의 제1 스팟이 제1 이미지 상의 제1 스팟과 일치하도록 상기 제2 이미지를 이동시키고, 상기 제2 이미지 상의 제2 스팟과 상기 제1 이미지 상의 제2 스팟과의 절대 거리 및 상기 제2 이미지 상의 제3 스팟과 상기 제1 이미지 상의 제3 스팟과의 절대 거리의 합이 최소가 되도록 상기 일치된 제1 스팟을 기준으로 제2 이미지를 회전시킨 후, 회전된 제2 이미지를 제1 이미지에 결합시키는 것을 특징으로 하는 광학계의 왜곡 수차 측정 장치
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1 지식경제부 전략기술개발사업 (주)엘지전자 광학계 평가 시스템 개발(3차년도) 광학계 평가시스템 개발