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초음파 가진에 의해 진동하는 혼(horn)과,미세 패턴이 가공될 모재가 놓이며 상기 미세 패턴에 대해 상보적인 패턴이 형성되어 있는 미세 패턴 가공부가 제공되는 몰드와,1차 미세 패턴 성형이 완료된 후 상기 몰드를 소정의 각도만큼 회전시키는 회전 유닛과,다중 미세 패턴의 성형 완료 후에 모재에 대해 레이저를 조사하여 광산란을 유도시키는 레이저 조사 장치와,상기 광산란의 패턴을 촬영하는 촬영 장치와,상기 촬영 장치에 의해서 촬영된 광산란 패턴 영상을 처리하는 영상 처리 장치를 포함하는,다중 미세 패턴 성형 장치
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초음파 가진에 의해 진동하는 혼(horn)과,상기 혼에 제공되며 가공될 미세 패턴에 상보적인 패턴이 형성되어 있는 미세 패턴 가공부와,미세 패턴이 가공될 모재가 놓이는 몰드와,1차 미세 패턴 성형이 완료된 후 상기 혼을 소정의 각도만큼 회전시키는 회전 유닛과,다중 미세 패턴의 성형 완료 후에 모재에 대해 레이저를 조사하여 광산란을 유도시키는 레이저 조사 장치와,상기 광산란의 패턴을 촬영하는 촬영 장치와,상기 촬영 장치에 의해서 촬영된 광산란 패턴 영상을 처리하는 영상 처리 장치를 포함하는,다중 미세 패턴 성형 장치
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삭제
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청구항 1 또는 청구항 2의 다중 미세 패턴 성형 장치를 이용한 다중 미세 패턴 성형 방법에 있어서,상기 혼을 상기 모재에 가압하는 제1 단계와,상기 혼을 초음파 가진에 의해 진동시켜 상기 모재를 연화시키는 제2 단계와,상기 연화된 모재에 상기 상보적인 패턴을 전사시켜 1차 미세 패턴을 성형하는 제3 단계와,상기 회전 유닛에 의해 상기 혼 또는 상기 몰드를 소정의 각도만큼 회전시킨 후에 상기 제1 단계 내지 제3 단계에 따라 2차 미세 패턴을 성형하는 제4 단계와,다중 미세 패턴 성형이 완료된 후에 모재에 대해 레이저를 조사하여 광산란을 유도하는 제5 단계와,상기 광산란 패턴을 촬영하는 제6 단계와,상기 촬영된 광산란 패턴 영상을 처리하는 제7 단계와,상기 광산란 패턴 영상 처리 결과에 기초하여 소망하는 최적 성형 조건을 설정하는 제8 단계를 포함하는,다중 미세 패턴 성형 방법
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청구항 4에 있어서,상기 1차 미세 패턴 및 2차 미세 패턴 중 적어도 어느 하나는 상기 모재의 일부 영역에 대해서만 성형되며,일부 영역에 대해서만 성형되는 미세 패턴을 성형할 때에는 미세 패턴이 성형될 영역에 대해서만 마스킹 필름을 배치시키고 상기 혼을 초음파 가진시켜 미세 패턴을 성형하는,다중 미세 패턴 성형 방법
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