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나노크기를 갖는 원통형의 베이스(110)를 직립하게 배치하는 베이스배치 단계(S210);배치된 베이스(110)로부터 일정거리 이격된 원주상의 일위치(φ1)에서 배치된 베이스(110)를 향해 수평기준선(L1)으로부터 일정각도(θ1)로 경사지게 하향하는 제1증착방향(D1)으로 제1금속물질(120)을 증착시켜 상기 베이스(110)의 상단을 포함하여 상기 제1증착방향(D1)과 대향하는 베이스(110)의 내측면과 외측면에 각각 제1금속물질(120)을 배치하는 제1금속증착 단계(S220); 및상기 제1금속증착 단계(S220)를 통해 상기 베이스(110)의 상단 둘레에 증착된 제1금속물질(120)을 제거하여 원통형 플라즈모닉 메타구조체(100)를 형성하는 상단부제거 단계(S240);를 포함하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 제1금속증착 단계(S220)는,상기 제1증착방향(D1)의 일정각도(θ1)를 조절하여 상기 베이스(110)의 내측면에 증착되는 제1금속물질(120)의 상하 증착길이(d1) 및 증착면적을 조절하는 것을 특징을 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 제1금속증착 단계(S220) 이후, 상기 제1금속물질(120)이 증착된 베이스(110)의 일위치(φ1)로부터 일정거리 이격된 원주상의 타위치(φ2)에서 상기 제1금속물질(120)이 증착된 베이스(110)를 향해 수평기준선(L1)으로부터 일정각도(θ2)로 경사지게 하향하는 제2증착방향(D2)으로 제2금속물질(130)을 증착시켜 상기 베이스(110)의 상부에 배치된 제1금속물질(120)의 상단을 포함하여 상기 제2증착방향(D2)과 대향하는 베이스(110)의 내측면과 외측면에 각각 제2금속물질(130)을 배치하는 제2금속증착 단계(S230);를 더 포함하며,상기 상단부제거 단계(S240)는, 상기 제1금속증착 단계(S220) 및 제2금속증착 단계(S230)을 통해 상기 베이스(110)의 상단 둘레에 증착된 제1금속물질(120) 및 제2금속물질(130)을 수평방향으로 컷오프한 형태로 제거하는 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 3항에 있어서,상기 제2금속증착 단계(S230)는,상기 제2증착방향(D2)의 일정각도(θ2)를 조절하여 상기 베이스(110)의 내측면에 증착되는 제2금속물질(130)의 상하 증착길이(d2) 및 증착면적을 조절하는 것을 특징을 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 3항에 있어서,상기 제1금속물질(120) 및 제2금속물질(130)은, 동일한 금속재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 3항에 있어서,상기 제2금속증착 단계(S230)는,상기 제1금속증착 단계(S220)를 통해 상기 베이스(110)의 내측면과 외측면에 각각 증착된 제1금속물질(120)의 일부와 상기 제2금속물질(130)의 일부가 상호 중첩되도록 상기 베이스(110)의 내측면과 외측면에 제2금속물질(130)을 증착하여, 상기 베이스(110)의 내측면과 외측면에 상기 제1금속물질(120)과 제2금속물질(130)이 경화되며 상호 연결된 내부금속체(140) 및 외부금속체(150)을 각각 형성하는 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 제2금속증착 단계(S230)는,상기 제1금속증착 단계(S220)에서 제1금속물질(120)을 증착하는 원주상의 일위치(φ1)로부터 상기 원주를 따라 일정각도로 이격된 타위치(φ2)에서 제2금속물질(130)을 증착하되,상기 일정각도를 조절하여, 상기 베이스(110)의 원주상에서 내부금속체(140)와 외부금속체(150)가 베이스(110)의 내측면과 외측면에 동시에 형성된 영역의 베이스(110)를 중심으로 하는 상기 제1금속물질(120)과 상기 제2금속물질(130)이 겹치는 각도(φ3)를 조절하는 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 원통형 플라즈모닉 메타구조체(100)는,상기 베이스(110)와, 상기 베이스(110)의 벽면을 중심으로 내측면과 외측면에 동시에 형성된 상기 제1금속물질(120)과 상기 제2금속물질(130)이 겹치는 각도(φ3)영역에 해당하는 내부금속체(140)의 일부 및 외부금속체(150)의 일부가 커패시터 역할을 하며,상기 내부금속체(140) 및 외부금속체(150)가 인덕터 역할을 하면서 공진주파수를 갖는 메타구조로 형성된 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 메타구조의 커패시턴스는, 상기 베이스(110)의 반경(r), 상기 타위치(φ2)에 대응되는 일정각도, 일정각도(θ1), 일정각도(θ2) 또는, 상기 베이스(110)의 두께(t1) 중 어느 하나 이상의 변수에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 메타구조의 인덕턴스는, 상기 베이스(110)의 반경(r), 상기 타위치(φ2)에 대응되는 일정각도, 일정각도(θ1), 일정각도(θ2), 상기 베이스(110)의 두께(t1), 내부금속체(140)의 두께(t2) 또는, 외부금속체(140)의 두께(t3) 중 어느 하나 이상의 변수에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 베이스배치 단계(S210)에서는, 직립하게 배치된 베이스(110)의 상단 둘레를 따라 희생층을 배치하며,상기 상단부제거 단계(S240)는, 상기 희생층을 식각하여 상기 베이스(110)의 상단 둘레에 증착된 제1금속물질(120)과 상기 베이스(110)의 상단을 상호 분리시키며, 분리된 제1금속물질(120) 또는, 제1금속물질(120) 및 제2금속물질(130)에 초음파 세척 또는 물리적 힘을 가하여 상기 베이스(110)으로부터 제거하는 것을 특징으로하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 상단부제거 단계(S240)는, 상기 베이스(110)의 상단 둘레에 증착된 제1금속물질(120) 또는, 제1금속물질(120) 및 제2금속물질(130)을 플라즈마 식각 또는 RIE(Reactive Ion Etching) 방식으로 식각하여 상기 베이스(110)로부터 제거하는 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 상단부제거 단계(S240)는,상기 제1금속물질(120) 또는, 상기 제1금속물질(120) 및 제2금속물질(130)이 증착된 베이스(110)의 내부 및 외부를 폴리머로 코팅한 후, 상기 폴리머와 함께 상기 베이스(110)의 상단 둘레에 증착된 제1금속물질(120) 또는, 제1금속물질(120) 및 제2금속물질(130)을 기계적 연마 방식으로 제거하며, 연마 후 식각용액을 이용하여 상기 베이스(110)의 내부 및 외부에 코팅된 폴리머를 제거하는 것을 특징으로 하는 나노크기의 원통형 플라즈모닉 메타구조체 제조방법
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