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나노섬유시트를 제조하는 단계;실리콘 기판의 상면에 고분자층을 형성하는 단계;상기 고분자층을 60℃ 내지 70℃에서 5분 내지 30분 동안 경화시켜 프리 큐어링(Pre-curing)하는 단계;상기 고분자층의 상면에 상기 나노섬유시트를 접착하는 단계; 및상기 고분자층과 상기 나노섬유시트가 서로 고정되도록 메인 큐어링(Main-curing)하는 단계를 포함하고,상기 고분자층의 상면에 상기 나노섬유시트를 접착하는 단계는, 전기방사로 제작되는 나노섬유를 상기 실리콘 기판 상의 상기 고분자층의 상면에 전사하여 수행하는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자층은, 고분자용액과 경화제를 혼합하고, 상기 고분자용액과 상기 경화제가 혼합된 혼합액을 상기 기판의 상면에 스핀 코팅하여 형성하는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 2에 있어서, 상기 혼합액은, 상기 기판에 스핀 코팅 하기 전에 데시케이터 챔버 내에 일정 시간동안 보관하는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 2에 있어서, 상기 혼합액은,상기 고분자용액과 상기 경화제를 10 : 1의 중량비로 혼합하는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 2에 있어서, 상기 고분자용액은, PDMS(Polydimethylsiloxane)용액, 폴리이미드(Polyimide)용액 및 폴리카보네이트(Polycarbonate), 폴리유레테인(Polyurethane)용액 중 선택된 어느 하나 또는 어느 하나 이상의 용액을 혼합한 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 2에 있어서, 상기 고분자층은,상기 기판의 상면에 1000rpm 내지 6000rpm으로 10초 내지 180초 동안 스핀 코팅하는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 2 내지 청구항 6중 어느 한 항에 있어서, 상기 고분자층은 5㎛ 내지 100㎛의 두께로 형성되는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자층을 프리 큐어링(Pre-curing)하는 단계는, 상기 고분자층을 9분 내지 11분 동안 경화하는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자층과 상기 나노섬유시트가 서로 고정되도록 메인 큐어링(Main-curing)하는 단계는,상기 고분자층과 상기 나노섬유시트를 60℃ 내지 70℃에서 210분 내지 270분 동안 경화하는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 고분자층과 상기 나노섬유시트가 서로 고정되도록 메인 큐어링(Main-curing)하는 단계는,상기 고분자층과 상기 나노섬유시트를 75℃ 내지 85℃에서 30분 내지 90분 동안 경화하는 나노섬유 박막층 제조방법
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청구항 1에 있어서, 상기 나노섬유는, 고분자 나노섬유, 반도체 나노섬유 및 탄소 나노섬유 중 선택된 어느 하나인 나노섬유 박막층 제조방법
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