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미세채널 제조방법

  • 기술번호 : KST2015203352
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 미세채널 제조방법 및 이에 의하여 제조된 미세채널을 구비하는 미세채널블록에 관한 것으로, 중앙에 적어도 하나의 노치를 갖는 패턴이 형성된 포토마스크를 준비하는 단계; 및 감광물질이 도포된 기재 상에 상기 포토마스크를 구비하고, 포토 리소그래피(photo lithography) 공정을 통해 제1 몰드블록을 제조하되, 상기 제1 몰드블록에 크랙을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 크랙을 형성하는 단계는, 상기 기재의 상면에 상기 감광물질을 도포하는 코팅단계; 상기 감광물질이 도포된 상기 기재 상에 상기 포토마스크를 구비하고, 빛을 조사하는 노광단계; 및 상기 노광된 상기 감광물질을 현상하는 단계를 포함하고, 상기 노광단계 및 상기 현상단계를 거치면서, 상기 노치로부터 미세채널 형성을 위한 크랙이 발생 및 전파된다.
Int. CL G03F 7/26 (2006.01) B01J 19/00 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC G03F 7/162(2013.01) G03F 7/162(2013.01) G03F 7/162(2013.01) G03F 7/162(2013.01) G03F 7/162(2013.01) G03F 7/162(2013.01)
출원번호/일자 1020130082739 (2013.07.15)
출원인 울산과학기술원 산학협력단
등록번호/일자 10-1390700-0000 (2014.04.24)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140430) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.07.15)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 울산과학기술원 산학협력단 대한민국 울산광역시 울주군

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태성 대한민국 울산 울주군
2 김민석 대한민국 광주 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 전용준 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 **, 대륭테크노타운 **차 ***호 (가산동)(이연국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 울산과학기술원 울산광역시 울주군
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.07.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0633354-68
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.02.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0116100-22
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.04.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0336436-15
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2014-0336437-50
5 등록결정서
Decision to grant		 2014.04.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0268072-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.12.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5176347-51
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2016.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2016-0282212-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
중앙에 적어도 하나의 노치를 갖는 패턴이 형성된 포토마스크를 준비하는 단계; 및감광물질이 도포된 기재 상에 상기 포토마스크를 구비하고, 포토 리소그래피(photo lithography) 공정을 통해 제1 몰드블록을 제조하되, 상기 제1 몰드블록에 크랙을 형성하는 단계를 포함하며,상기 크랙을 형성하는 단계는,상기 기재의 상면에 상기 감광물질을 도포하는 코팅단계;상기 감광물질이 도포된 상기 기재 상에 상기 포토마스크를 구비하고, 빛을 조사하는 노광단계; 및상기 노광된 상기 감광물질을 현상하는 단계를 포함하고, 상기 노광단계 및 상기 현상단계를 거치면서, 상기 노치로부터 미세채널 형성을 위한 크랙이 발생 및 전파되는 미세채널의 제조방법
2 2
청구항 1에 있어서,상기 코팅단계에서는,스핀 코터로 상기 감광물질을 도포하고, 상기 스핀 코터의 RPM을 조절하여 상기 감광물질이 도포되는 높이를 조절하여 상기 제1 몰드블록의 높이를 조절하는 미세채널의 제조방법
3 3
청구항 1에 있어서,상기 크랙을 형성하는 단계 이후,상기 제1 몰드블록의 외측 둘레면에 대응되는 음각형태의 제2 몰드를 제조하되, 상기 제2 몰드에 상기 노치를 갖는 패턴으로부터 형성된 노치부를 갖는 관통홀에 대응되는 양각돌기 및 상기 크랙에 대응되는 균열돌기를 형성하는 단계; 및상기 제2 몰드에 수지를 공급하여, 소프트 리소그래피 공정을 통해 블록을 제조하되, 상기 블록에 상기 양각돌기에 대응되는 마이크로 스페이스 및 상기 균열돌기에 대응되는 미세채널을 형성하는 단계를 더 포함하는 미세채널의 제조방법
4 4
청구항 1에 있어서,상기 감광물질은 빛에 의해 경화되는 네거티브 감광물질인 미세채널의 제조방법
5 5
청구항 4에 있어서,상기 네거티브 감광물질은 SU-8 폴리머를 포함하는 미세채널의 제조방법
6 6
청구항 1에 있어서,상기 노광 단계에서, 상기 조사되는 빛의 강도 및 조사 시간 중 적어도 하나를 조절하여 상기 크랙의 전파 길이를 조절하는 미세채널의 제조방법
7 7
청구항 1에 있어서,상기 노광 단계에서, 초과 노광량 및 PEB(post exposure bake)의 지속 시간 중 적어도 하나를 조절하여 상기 크랙의 전파 길이를 조절하는 미세채널의 제조방법
8 8
청구항 1에 있어서,상기 포토마스크에는 상기 패턴을 대항하는 외주면이 라운드지게 형성된 패턴이 더 형성되어 있고,상기 크랙이 전파되다가 상기 라운드지게 형성된 패턴에서 상기 크랙의 전파가 정지되는 미세채널의 제조방법
9 9
청구항 1에 있어서,상기 노치는 각형 구조를 가지는 미세채널의 제조방법
10 10
청구항 9에 있어서,상기 노치는 삼각형 형상을 가지고,상기 크랙은,상기 노치부의 각도가 90°이상 150°미만이면 하나 형성되는 미세채널의 제조방법
11 11
청구항 9에 있어서,상기 노치는 삼각형 형상을 가지고,상기 크랙은,상기 노치의 각도가 0°보다 크고 90°미만이면 두 개 이상 형성되며,상기 노치의 각도가 150°이상이면 형성되지 않는 미세채널의 제조방법
12 12
청구항 9에 있어서,상기 노치는 너비와 높이를 가지는 삼각형 형상을 가지고,상기 너비 길이와 상기 높이 길이의 사이의 상대비를 이용하여 상기 크랙의 발생 개수를 조절하는 미세채널의 제조방법
13 13
청구항 1에 있어서,상기 크랙의 깊이 및 너비는 각각 1 nm 내지 999 nm인 미세채널의 제조방법
14 14
청구항 3에 있어서,상기 양각돌기 및 상기 균열돌기를 형성하는 단계는,상기 제1 몰드블록의 상면 및 외측 둘레면에 열경화성 수지를 도포하는 단계;상기 열경화성 수지를 경화시키는 단계; 및경화된 상기 열경화성 수지로부터 상기 제1 몰드블록을 제거하여 상기 제2 몰드로 완성시키는 단계를 포함하고,상기 열경화성 수지를 도포 시, 상기 관통홀 및 상기 크랙에 상기 열경화성 수지가 채워지며, 상기 열경화성 수지를 경화 후 상기 제1 몰드블록을 제거하면 상기 양각돌기 및 상기 균열돌기가 형성되는 미세채널의 제조방법
15 15
청구항 14에 있어서,상기 열경화성 수지는 에폭시를 포함하는 미세채널의 제조방법
16 16
청구항 3에 있어서,상기 미세채널을 형성하는 단계는,상기 제2 몰드에 수지를 공급하는 단계;상기 수지를 경화시키는 단계; 및경화된 상기 수지를 상기 제2 몰드로부터 분리시키는 단계를 포함하고,상기 수지가 경화되면서 상기 제2 몰드에 형성된 상기 양각돌기에 대응되는 상기 마이크로 스페이스가 형성되고, 상기 균열돌기에 대응되는 상기 미세채널이 형성되는 미세채널의 제조방법
17 17
청구항 16에 있어서,상기 수지는 PDMS(polydimethylsiloxane: 폴리다이메틸실록세인)을 포함하는 미세채널의 제조방법
18 18
중앙에 적어도 하나의 노치를 갖는 패턴이 형성된 포토마스크를 준비하는 단계; 및감광물질이 도포된 기재 상에 상기 포토마스크를 구비하고, 포토 리소그래피(photo lithography) 공정을 통해 제1 몰드블록을 제조하되, 상기 제1 몰드블록에 크랙을 형성하는 단계; 상기 제1 몰드블록의 외측 둘레면에 대응되는 음각형태의 제2 몰드를 제조하되, 상기 제2 몰드에 상기 노치를 갖는 패턴으로부터 형성된 노치부를 갖는 관통홀에 대응되는 양각돌기 및 상기 크랙에 대응되는 균열돌기를 형성하는 단계; 및상기 제2 몰드에 수지를 공급하여, 소프트 리소그래피 공정을 통해 블록을 제조하되, 상기 블록에 상기 양각돌기에 대응되는 마이크로 스페이스 및 상기 균열돌기에 대응되는 미세채널을 형성하는 단계를 포함하며,상기 포토 리소그래피 공정 중 상기 패턴에 대응되는 부분은 경화되지 않고 제거되어 적어도 하나의 상기 노치부를 갖는 관통홀로 형성되어 상기 노치부로부터 상기 크랙이 발생하며, 상기 크랙을 이용하여 미세채널을 형성하는 미세채널의 제조방법
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순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 국립대학법인 울산과학기술대학교 산학협력단 기본연구지원사업 마이크로채널내 패턴닝된 나노공극물질에 의한 특이적 이온전달 및 비선형적 유체유동의 실험적· 해석적 연구 및 미세유체장치 응용
2 교육과학기술부 국립대학법인 울산과학기술대학교 산학협력단 기후변화대응 기초원천기술개발과제 바이오연료용 인공미생물에 적합한 최적 발효공정 설계 기술개발