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실리콘; 염화수소가스; 및 수증기와 질소가스를 포함하는 수증기 혼합가스;를 포함하고,450 ~ 550℃의 온도에서 염소화 반응 및 가수분해 반응을 동시에 수행하여 생성물로써 평균입경이 300 ~ 600nm의 구형인 실리카 입자를 제조하며,상기 실리카 입자는 실리카 입자 전체 중량 중 염소원자를 0
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제 1항에 있어서,상기 실리카 입자를 500 ~ 700℃ 하에서 30 ~ 90분간 하소시키는 것을 특징으로 하는 실리카 나노입자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 실리콘은 실리콘 분말인 것을 특징으로 하는 실리카 나노입자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 실리콘(Si)과 염화수소가스의 염화수소의 반응몰비가 1 : 3 ~ 1 : 4인 것을 특징으로 하는 나노입자 실리카의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 생성물은 수소가스 및 염화수소가스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리카 나노입자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 염소화 반응 및 가수분해 반응은 반응관을 둘러싼 전기로를 포함하는 반응장치 내에서 수행하는 것을 특징으로 하는 실리카 나노입자의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 반응장치는 염소화 반응 및 가수분해 반응 이전에 질소로 퍼지(purge)시켜 반응장치 내 수분 및 불순물을 제거한 것을 특징으로 하는 실리카 나노입자의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 염소화 반응은 실리콘 및 염화수소가스가 반응하여 염화실리콘화합물을 형성시키고, 상기 가수분해 반응은 상기 염화실리콘화합물과 수증기 혼합가스가 반응하여 수소가스, 염화수소가스 및 실리카 입자를 형성시키며, 상기 염화실리콘화합물은 사염화실리콘 및 삼염화실란 중 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노입자 실리카의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 실리카 나노입자는 실리카 나노입자 전체 중량 중 염소원자를 0 ~ 0
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제 1항에 있어서,상기 염소화 반응시 미반응한 염화수소가스; 및 상기 가수분해 반응 후 생성된 염화수소가스; 중 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 가스를 물에 흡수시켜 염산으로 전환 및 회수하여 재사용하는 것을 특징으로 하는 실리카 나노입자의 제조방법
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제1항 내지 제4항, 제6항 내지 제8항, 제10항, 제12항 및 제13항 중에서 선택된 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 실리카 나노입자
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