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(a) 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 또는 원자층증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)으로 성장된 그래핀을 기재 필름에 전사(transfer)하는 단계; 및 (b) 상기 그래핀이 전사된 상기 기재 필름의 표면에 투명 접착제를 코팅한 후 감압 또는 경화하여 투명 접착제 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 투명 접착제는 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 디에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트 및 폴리에틸렌글라이콜 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상의 아크릴 단량체; 및 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-메르캅토아세테이트) 및 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상의 광 반응성 단량체;를 포함하는 것을 특징으로 하는 아크릴계 접착제인, 방열재료용 투명 열전도성 필름의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 기재 필름은 폴리알킬렌테레프탈레이트(polyalkylene terephthalate), 폴리에테르설폰(polyethersulfone), 폴리알킬렌나프탈레이트(polyalkylene naphthalate) 및 이들의 공중합체로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상의 고분자 필름인 것을 특징으로 하는 방열재료용 투명 열전도성 필름의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 투명 접착제 코팅층의 두께는 5 내지 150 ㎛인 것을 특징으로 하는 방열재료용 투명 열전도성 필름의 제조 방법
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제 1항에 있어서상기 경화는 열 경화 또는 광 경화인 것을 특징으로 하는 방열재료용 투명 열전도성 필름의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 투명 열전도성 필름은 자외선(UV) 분광계로 투과도 측정시 400~800nm에서의 평균 투과도가 88 내지 97%인 것을 특징으로 하는 방열재료용 투명 열전도성 필름의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 투명 열전도성 필름은 열전도도가 10 내지 30 W/mK인 것을 특징으로 하는 방열재료용 투명 열전도성 필름의 제조 방법
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화학기상증착법 또는 원자층증착법으로 성장된 그래핀이 전사된 기재 필름 및 상기 기재 필름 표면 위의 투명 접착제 코팅층을 포함하고, 상기 투명 접착제는 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 디에틸렌 글라이콜 디아크릴레이트 및 폴리에틸렌글라이콜 디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상의 아크릴 단량체; 및 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-메르캅토아세테이트) 및 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상의 광 반응성 단량체;를 포함하는 것을 특징으로 하는 아크릴계 접착제인, 방열재료용 투명 열전도성 필름
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