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기판; 상기 기판의 적어도 일면에 형성된 합금 박막층; 및 상기 기판과 합금 박막층 사이에 형성된 열안정화층;을 포함하고, 상기 합금 박막층은 은(Ag)-몰리브데늄(Mo) 합금을 포함하고, 상기 열안정화층은 질화티타늄(TiN)을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 합금 박막
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제1항에 있어서, 상기 합금 박막층은 평균 두께가 1 ~ 100 ㎚인 것을 특징으로 하는 나노 합금 박막
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제1항에 있어서, 상기 열안정화층은 평균 두께가 1 ~ 20 ㎚인 것을 특징으로 하는 나노 합금 박막
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제1항에 있어서, 상기 열안정화층이 적층된 합금 박막층의 타면에 산화보호층을 더 포함하고, 상기 산화보호층은 질화티타늄(TiN); 또는 질화티타늄(TiN)과 산화티타늄질화물(TiON);을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 합금 박막
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제5항에 있어서, 상기 합금 박막층이 적층된 산화보호층의 타면에 표면보호층을 더 포함하고, 상기 표면보호층은 산화티타늄질화물(TiON)을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 합금 박막
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제1항, 제2항 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 은-몰리브데늄 합금은 몰리브데늄 0
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제1항, 제2항 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 나노 합금 박막은 350 ℃의 아르곤(Ar) 가스 분위기에서 열처리 후 4단자법(four-point probe method)으로 측정한 저항이 5 ~ 40 μΩ-㎝인 것을 특징으로 하는 나노 합금 박막
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기판을 전처리하는 1단계; 상기 전처리한 기판의 일면에 질화티타늄(TiN)을 포함하는 열안정화층을 적층하는 2단계; 및 상기 기판에 적층된 열안정화층의 타면에 은(Ag)-몰리브데늄(Mo) 합금을 포함하는 합금 박막층을 적층하여 나노 합금 박막을 제조하는 3단계;를 포함하는 나노 합금 박막 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 3단계 이후 기판 및 열안정화층이 적층된 합금 박막층의 타면에 산화보호층을 적층하는 4단계; 를 더 포함하고,상기 산화보호층은 질화티타늄(TiN) 및 산화티타늄질화물(TiON)으로 이루어진 군 중 1종 이상을 포함하는 나노 합금 박막 제조방법
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