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마이크로니들 어레이 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015204804
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노입자가 코팅된 고분자성 마이크로니들 어레이를 제조하는 방법에 관한 것으로, 구체적으로 1) 마이크로니들 어레이 주형을 제작하는 단계; 2) 상기 마이크로니들 어레이 주형에 나노입자를 코팅하는 단계; 3) 상기 나노입자가 코팅된 마이크로니들 어레이 주형에 생분해성 고분자를 주입하는 단계; 4) 상기 나노입자와 생분해성 고분자가 주입된 마이크로니들 어레이 주형으로부터 마이크로니들 어레이를 분리하는 단계를 포함하는 마이크로니들 어레이의 제조방법을 제공한다.
Int. CL A61M 37/00 (2006.01.01) B81B 7/04 (2017.01.01) B81C 1/00 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020100095980 (2010.10.01)
출원인 명지대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1221192-0000 (2013.01.04)
공개번호/일자 10-2012-0034427 (2012.04.12) 문서열기
공고번호/일자 (20130110) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.01)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 명지대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 처인구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최신식 대한민국 경기도 용인시 기흥구
2 이현호 대한민국 서울특별시 강남구
3 이선호 대한민국 전라남도 순천시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 명지대학교 산학협력단 경기도 용인시 처인구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0636694-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.07.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2011-0066864-71
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.01.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0010603-54
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.03.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0179298-36
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.04.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0274523-77
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.05.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0364402-95
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0364401-49
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.09.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0571369-11
10 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2012.10.19 수리 (Accepted) 7-1-2012-0048543-85
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2012.11.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0977644-37
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2012-0977643-92
13 등록결정서
Decision to Grant Registration
2012.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0773302-56
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.17 수리 (Accepted) 4-1-2019-5194058-21
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2020-5014795-00
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1) PDMS 재질의 마이크로니들 어레이 주형을 제작하는 단계;2) 상기 마이크로니들 어레이 주형에 나노입자를 주입한 후, 원심분리기로 마이크로니들 어레이 주형에 나노입자를 코팅하는 단계;3) 상기 나노입자가 코팅된 마이크로니들 어레이 주형에 생분해성 고분자를 원심분리기로 주입하는 단계;4) 상기 나노입자와 생분해성 고분자가 주입된 마이크로니들 어레이 주형으로부터 마이크로니들 어레이를 분리하는 단계를 포함하는 마이크로니들에 나노입자가 코팅된 마이크로니들 어레이의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 나노입자는 폴리스티렌(polystyrene) 또는 산화철(iron oxide)인 것을 특징으로 하는 마이크로니들 어레이의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 생분해성 고분자는 카르복시 메틸 셀룰로즈(Carboxy methyl cellulose) 또는 아가로즈(agarose) 혼합물인 것을 특징으로 하는 마이크로니들 어레이의 제조방법
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서, 상기 단계 2)의 원심분리기는 2000rpm 이상의 속도인 것을 특징으로 하는 마이크로니들 어레이의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 단계 2)의 원심분리기는 5분 동안 교반하는 것을 특징으로 하는 마이크로니들 어레이의 제조방법
7 7
삭제
8 8
제1항에 있어서, 상기 단계 3)의 원심분리기는 2000rpm 이상의 속도인 것을 특징으로 하는 마이크로니들 어레이의 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 단계 3)의 원심분리기는 5분 동안 교반하는 것을 특징으로 하는 마이크로니들 어레이의 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 단계 4)는 나노입자와 생분해성 고분자가 주입된 마이크로니들 어레이 주형을 건조하여 마이크로니들 어레이를 분리하는 것을 특징으로 하는 마이크로니들 어레이의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.