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시료가 배치되는 스테이지;상기 시료로 광을 조사하고 상기 시료로부터 반사된 광을 전달하는 렌즈 어셈블리;상기 렌즈 어셈블리로부터 전달받은 광을 영상신호로 변경하는 카메라; 및상기 영상신호를 1비트 이미지로 변환시키고, 문턱값(threshold)을 이용하여 상기 1비트 이미지 중 작은 화소영역을 1차 필터링하며, 상기 1차 필터링을 통해 남은 화소들의 모든 패턴 형상이 가공오차 범위에 있는지 확인하고, 가공오차 범위를 초과한 패턴 형상들에 대하여 상기 영상신호의 단면을 추출하여 인접하는 화소간 화소값들의 격차의 차이가 커지는 구간을 인접하는 화소와 동일한 1비트 값으로 변경하는 2차 필터링을 수행하는 정보처리부재를 포함하는 광학측정장치
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제1항에 있어서, 상기 광학측정장치는 상기 정보처리부재의 제어신호에 의해 상기 스테이지와 상기 렌즈 어셈블리 사이의 상대위치를 변경하는 이송부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학측정장치
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제1항에 있어서, 상기 렌즈 어셈블리는 상기 반사된 광 중에서 초점이 맞는 광만을 통과시키는 핀홀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학측정장치
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제1항에 있어서, 상기 화소값은 해당 화소의 그레이스케일인 것을 특징으로 하는 광학측정장치
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시료가 배치되는 스테이지와, 상기 시료로 광을 조사하고 상기 시료로부터 반사된 광을 전달하는 렌즈 어셈블리와, 상기 렌즈 어셈블리로부터 전달받은 광을 영상신호로 변경하는 카메라와, 상기 영상신호의 노이즈를 제거하는 정보처리부재를 포함하는 광학측정장치를 이용한 광학측정방법에 있어서,상기 영상신호를 원본영상으로 하여 상기 원본영상을 1비트 이미지로 변환시키는 단계;상기 1비트 이미지 중에서 문턱값(threshold)보다 작은 크기의 화소영역을 1차 필터링하는 단계; 상기 1차 필터링을 통해 남은 화소들의 모든 패턴 형상이 가공오차 범위에 있는지 확인하는 단계; 및상기 가공오차 범위를 초과한 패턴 형상들에 대하여 상기 원본영상의 단면을 추출하여 인접하는 화소간 화소값들의 격차의 차이가 커지는 구간을 인접하는 화소와 동일한 1비트 값으로 변경하는 2차 필터링을 수행하는 단계를 포함하는 광학측정방법
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제5항에 있어서, 상기 원본영상을 1비트 이미지로 변환시키는 단계는,상기 원본영상을 8비트 이미지로 변환시키는 단계;상기 문턱값(threshold)을 설정하는 단계; 및상기 8비트 이미지를 1비트 이미지로 변환시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학측정방법
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제5항에 있어서, 상기 1차 필터링하는 단계는,상기 1비트 이미지 중에서 서로 인접하고 동일한 화소값을 갖는 화소들로 화소영역을 분석하는 단계; 및상기 화소영역 내의 화소들의 개수가 상기 문턱값에 미치지 못하는 경우, 상기 화소영역을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학측정방법
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제5항에 있어서, 상기 2차 필터링하는 단계는,상기 원본영상의 좌표에 따른 그레이스케일들을 수평거리에 따라 배열하는 단계;인접하는 화소들의 그레이스케일들의 차이를 산출하여 상기 격차를 구하는 단계;상기 격차와 인접하는 격차 사이의 차이를 산출하여 상기 격차의 차이를 구하는 단계; 및상기 격차의 차이가 커지는 구간을 시작으로 그전 화소값을 0으로 변환시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학측정방법
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