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공정 챔버;백금 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생기;상기 플라즈마 발생기에서 발생한 상기 백금 플라즈마에 전기장을 제공하여 백금 이온을 분리 및 가속시키는 가속기;상기 백금 이온이 주입되는 이온 교환막 또는 가스 확산층이 표면에 밀착되어 연속 회전 가능하도록 지지하는 타겟롤; 및상기 플라즈마 발생기 및 상기 타겟롤 사이에 배치되어, 상기 가속기에 의해 가속된 상기 백금 이온이 상기 타겟롤을 따라 회전하는 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층으로 주입되도록 가이드하는 가이드 부를 포함하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 1항에 있어서,상기 가속기는 상기 백금 플라즈마가 발생되는 인접 위치에 배치되는 제 1전극부 및 상기 타겟롤 외주면에 배치되는 제 2전극부를 포함하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 1항에 있어서,상기 가이드 부는 상기 백금 이온이 이동하는 공간을 제한 또는 가이드하여 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층에 도포되는 상기 백금 이온의 양을 제어하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 1항에 있어서,상기 타겟롤은 상기 가이드 부와 소정의 간격이 이격되도록 배치되고, 상기 공정 챔버 내에 회전 가능하게 설치되며, 상기 타겟롤의 외주면을 따라 형성된 안착면이 회전하면서 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층을 지지하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 4항에 있어서,공정 챔버 내부에 배치되며, 상기 타겟롤에 지지되는 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층이 연속적으로 공급 및 회수될 수 있도록 공급부 및 회수부를 포함하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 5항에 있어서,상기 타겟롤은 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층이 안착되는 상기 안착면에 홈이 구비되는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 6항에 있어서,상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층은 플렉시블한 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 7항에 있어서,상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층은 상기 타겟롤이 회전시 동일한 각속도로 함께 회전하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 1항에 있어서,상기 백금 플라즈마 발생기는 광원을 발생하는 광원부 및 상기 광원부에서 발생한 광원이 조사되는 백금을 수용하는 백금 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 9항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 상기 광원부에 의해 발생한 백금 이온이 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층에 균일 분포 가능하도록 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층의 폭 길이만큼 회전이 가능한 회전 가이드부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 9항에 있어서,상기 백금 스테이지는 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층의 폭 길이와 동일하거나 상대적으로 긴 폭 길이로 설치되는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 9항에 있어서,상기 백금 스테이지는 상기 광원부에서 발생한 광원이 상기 백금의 전면을 조사하여 백금 이온을 방출할 수 있도록 회전 가능한 롤로 구성되는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 9항에 있어서,상기 백금 스테이지는 용융 백금을 수용할 수 있도록 소정 크기의 배쓰로 구성된 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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제 1항에 있어서,상기 가속기는 상기 백금 플라즈마에 전기장을 제어하여 백금 이온이 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층 내측으로 주입되는 깊이를 조절하는 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 장치
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플라즈마 발생기에서 백금 플라즈마를 발생시키는 단계;상기 백금 플라즈마에 전기장을 제공하여 백금 스테이지에 수용된 백금 이온을 분리 및 가속시키는 단계;상기 백금 이온이 가이드 부의 소정의 가이드 된 경로를 따라 이동하는 단계; 및상기 백금 이온이 타겟롤의 표면에 밀착되어 연속 회전 가능하게 지지된 이온 교환막 또는 가스 확산층에 주입되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 15항에 있어서,상기 백금 이온은 상기 백금 플라즈마가 발생되는 인접 위치에 배치되는 제 1전극부에서 상기 타겟롤 외주면에 배치되는 제 2전극부 방향으로 가속하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 15항에 있어서,상기 타겟롤은 상기 가이드 부와 소정의 간격으로 이격 배치되고, 상기 타겟롤의 외주면을 따라 형성된 안착면이 회전하면서 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층을 지지하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 17항에 있어서,상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층은 상기 타겟롤이 회전시 동일한 각속도로 함께 회전하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 15항에 있어서,상기 백금 플라즈마에 전기장을 제공하여 백금 이온을 분리 및 가속시키는 단계 이후에,상기 백금 이온이 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층의 폭 길이만큼 회전이 가능한 회전 가이드부에서 형성한 경로에 따라 이동하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 15항에 있어서,상기 백금 플라즈마에 전기장을 제공하여 백금 이온을 분리 및 가속시키는 단계에서,상기 백금 플라즈마에 전기장을 제어하여 백금 이온이 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층 내측으로 주입되는 깊이를 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 15항에 있어서,상기 백금 스테이지는 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층의 폭 길이와 동일한 폭 길이로 설치되는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 15항에 있어서,상기 백금 스테이지는 상기 이온 교환막 또는 상기 가스 확산층의 폭 길이보다 상대적으로 긴 폭 길이로 설치되는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 15항에 있어서,상기 백금 스테이지는 회전 가능한 롤로 구성되는 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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제 15항에 있어서,상기 백금 스테이지는 용융 백금을 수용할 수 있도록 소정 크기의 배쓰로 구성된 것을 특징으로 하는 백금 촉매 연속 도포 방법
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