| 요약 |
본 발명은 웨이퍼의 스트레스 측정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 웨이퍼를 제조 및 가공하는 공정중 고속으로 고온처리되는 과정에서 웨이퍼가 받는 스트레스를 측정함으로써 웨이퍼의 제조 및 가공공정중에 발생할 수 있는 불량률을 감소시킬 수 있도록한 고속처리 고온공정에서 웨이퍼의 스트레스 측정장치에 관한 것이다.본 발명은 유리판재에 의해 상부공간과 하부공간으로 나뉘어지는 챔버와, 상기 챔버의 상부면에 형성된 윈도우를 통해 상부공간에 놓여진 웨이퍼의 표면에 레이저를 조사한 후 반사되는 레이저를 검출하는 카메라와, 상기 챔버의 상부공간에 놓여진 웨이퍼에 유리판재를 통해 고온의 열을 인가하기 위하여 하부공간에 설치되는 할로겐램프와, 상기 챔버의 상부공간에 질소가스를 주입하는 질소가스공급부와, 상기 상부공간에 존재하는 불필요한 가스를 배출하는 가스배출포트와, 상기 상부공간을 진공상태로 만들기 위해 공기를 외부로 배출시키는 진공포트와, 상기 상부공간의 진공상태를 나타내는 진공게이지와, 상기 상부공간에 놓여진 웨이퍼의 상부면에 설치되어 웨이퍼에 인가되는 온도를 감지하는 온도감지센서와, 그리고 상기 레이저카메라, 할로겐램프, 온도감지센서, 질소가스공급부, 진공포트 및 가스배출포트에 접속되면서 레이저카메라, 할로겐램프, 온도감지센서, 질소가스공급부, 진공포트 및 가스배출포트의 동작을 제어하여 지지플레이트에 놓여진 웨이퍼의 스트레스를 고온에서 자동으로 측정하는 메인컨트롤러로 이루어지는 고속처리 고온공정에서 웨이퍼의 스트레스 측정장치를 제공하는 것을 특징으로 한다.챔버, 웨이퍼, 할로겐램프, 메인컨트롤러, 진공펌프
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