| 요약 |
본 발명은 반도체/디스플레이 제조장비의 반사전력 검출기에 관한 것으로, 반도체/디스플레이 제조장비에 플라즈마 발생을 위한 RF임피던스정합기를 정확하게 제어하도록 반사전력의 위상 및 크기를 검출할 수 있는 반도체/디스플레이 제조장비의 RF 플라즈마 임피던스 검출기에 관한 것이다. 본 발명은 RF전원발생기(2)와 챔버(6)의 사이에 연결되어, 상기 전원발생기(2)에서 공급되는 RF전원을 정합하여 정합된 임피던스를 챔버(6)에 공급하는 RF임피던스정합기(1)의 내부에 구비되는 RF검출기(10)에 있어서, 상기 RF검출기(10)는 RC회로를 통해 상기 RF전원발생기(2)에서 공급되는 RF전원의 반사전력을 복조하고 특정주파수 영역을 선별하여 위상을 검파하는 위상검파부(11)와; 상기 RF전원과 상기 챔버(6)로부터 반사되는 반사전력을 추출하는 검출부(13)와; RC회로를 통해 상기 RF전원발생기(2)에서 공급되는 RF전원의 반사전력을 복조하고 특정레벨영역을 선별하여 크기를 검파하는 크기검파부(15)와; 상기 위상검파부(11)에서 검파된 위상신호를 필터링하여 기준위상신호를 출력하는 위상오차검출부(17)와; 상기 크기검파부(15)에서 검파된 크기신호를 필터링하여 기준크기신호를 출력하는 크기오차검출부(19)를 포함한다. 본 발명에 의하면, RF전원의 위상 및 크기를 검출하여 복잡한 회로구성에 의해 발생되는 노이즈의 유입경로를 차단 할 수 있고, 고전력에도 견딜 수 있으며, 공정조건으로 자기장이 사용될 때 발생되는 초기 과도상태를 제거할 수 있는 이점이 있다. 플라즈마(plasma), 임피던스(impedance), 위상(phasor), 크기(magnitude), 다이렉트커플러(direct coupler), 고주파, ripple, spurious
|
