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폐 아이티오 타깃을 원료로 하여 분무열분해 공정을 통하여아이티오 분말을 제조하는 방법 및 이 방법으로 제조된아이티오 분말

  • 기술번호 : KST2015205468
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폐 아이티오(ITO: Indium Tin Oxide) 타깃(target)과 주석을 염산 용액에 첨가하는 제1단계와 상기 제1단계에서 염산용액에 첨가한 인듐과 주석 성분들을 80 내지 90 ℃ 에서 용해시킨 후 여과기를 이용하여 3회 여과시켜 복합 염화물 원료용액을 제조하는 제2단계와 상기 제2단계에서 여과시킨 복합 염화물 용액을 티타늄 금속으로 제조된 노즐을 이용하여 800℃ 이상의 고온으로 유지된 열분해 반응로에 분무시키는 제3단계와 상기 제3단계에서 분무 후 열분해 반응에 의해 복합 산화물 분말을 연속적으로 형성시키고, 상기 연속적으로 형성된 분말을 분체포집기에서 포집하는 제4단계와 상기 제4단계에서 포집된 아이티오(ITO) 분말을 상온의 물에 4시간 이상 저어주면서 3회 수세하는 제5단계와 상기 제5단계에서 수세된 아이티오(ITO) 분말들을 50,000 rpm 이상의 고속 원심분리기에 의해 고상의 아이티오(ITO) 분말을 물에서 분리시키는 제6단계와 상기 제6단계에서 분리된 아이티오(ITO) 분말을 온도 90℃ 이상에서 24시간 이상 건조시키는 제7단계로 이루어진다. 폐 아이티오 target, 분무열분해, 복합 염화물 용액, 아이티오 분말, 평균입도 50nm이하
Int. CL C01G 19/02 (2006.01.01) C01G 15/00 (2006.01.01) C01G 1/02 (2006.01.01)
CPC C01G 19/02(2013.01) C01G 19/02(2013.01) C01G 19/02(2013.01)
출원번호/일자 1020060057110 (2006.06.23)
출원인 호서대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0740621-0000 (2007.07.11)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070719) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.06.23)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 호서대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유재근 대한민국 충남 천안시
2 강성구 대한민국 대전 유성구
3 진수곤 대한민국 충남 천안시
4 김규진 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정연용 대한민국 서울시 서초구 강남대로**길 *, ***호 (양재동,디에스타워)(아이피매그나특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 호서대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2006-0447555-33
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.01.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.02.09 수리 (Accepted) 9-1-2007-0006961-89
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0173284-42
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2007.05.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0386464-57
6 의견서
Written Opinion
2007.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2007-0386456-92
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.05.30 수리 (Accepted) 4-1-2007-5082796-34
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2007-5086611-01
9 등록결정서
Decision to grant
2007.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0365654-35
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.13 수리 (Accepted) 4-1-2011-5143226-24
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2019-0045360-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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폐 아이티오(ITO: Indium Tin Oxide) 타깃(target)과 주석을 염산 용액에 첨가하는 제1단계;상기 제1단계에서 염산용액에 첨가한 인듐과 주석 성분들을 80 내지 90 ℃ 에서 용해시킨 후 여과기를 이용하여 3회 여과시켜 복합 염화물 원료용액을 제조하는 제2단계;상기 제2단계에서 여과시킨 복합 염화물 용액을 티타늄 금속으로 제조된 노즐을 이용하여 800℃ 이상의 고온으로 유지된 열분해 반응로에 분무시키는 제3단계;상기 제3단계에서 분무 후 열분해 반응에 의해 복합 산화물 분말을 연속적으로 형성시키고, 상기 연속적으로 형성된 분말을 분체포집기에서 포집하는 제4단계;상기 제4단계에서 포집된 아이티오(ITO) 분말을 상온의 물에 4시간 이상 저어주면서 3회 수세하는 제5단계;상기 제5단계에서 수세된 아이티오(ITO) 분말들을 50,000 rpm 이상의 고속 원심분리기에 의해 고상의 아이티오(ITO) 분말을 물에서 분리시키는 제6단계;상기 제6단계에서 분리된 아이티오(ITO) 분말을 온도 90℃ 이상에서 24시간 이상 건조 시키는 제7단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 폐 아이티오 타깃을 원료로 하여 분무열분해 공정을 통하여 아이티오 분말을 제조하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제2단계에서 여과과정으로 철(Fe), 망간(Mn), 알루미늄(Al), 규소(Si) 및 인(P)등의 불순물이 50ppm 이하가 되는 것을 특징으로 하는 폐 아이티오 타깃을 원료로 하여 분무열분해 공정을 통하여 아이티오 분말을 제조하는 방법
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제 1 항 또는 제 2 항의 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 아이티오 분말
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.