| 요약 |
본 발명은 웨이퍼를 제조 및 가공하는 공정 중 고속·고온처리되는 과정에서웨이퍼가 받는 스트레스를 측정하기 위한 자동 회전장치에 관한것으로, 보다 상세하게는 고속·고온챔버 내부에 설치되어 웨이퍼가 올려져 회전되는 자동 회전장치에 관한것으로서, 상기 고속·고온챔버의 구조를 개선하여 고속·고온챔버 내부의 회전장치를 챔버 외부의 스테핑모터(stepping)를 동력원으로 자동으로 회전시킬 수 있도록 함으로써 상기 웨이퍼 제조공정의 효율을 일층 향상시킬 수 있도록 한 고속·고온공정에서 스트레스 측정을 위한 웨이퍼 자동 회전장치를 제공하는데 그 목적이 있다.상기 목적을 달성하기 위한 본 발명 회전장치의 동력원인 스테핑모터에는 감속장치 및 모터의 회전속도와 각도를 조절하고 회전명령을 주기 위한 제어보드가 구비되고, 상기의 회전장치는 챔버 내부에 설치되어 챔버 내부의 진공상태와 대기상태를 감지하기 위한 베쿰 피드스로우(vaccum feedthrough)가 스테핑모터의 구동축과 연결되며, 또한 구동축에는 상기 베쿰 피드스로우에 과도한 온도가 전달되지 않도록 하기 위한 냉각커버가 설치되고, 또 베쿰 피드스로우는 챔버 외부에서 공급되는 냉각수에 의해 냉각된다.고속·고온 챔버, 상,하부공간, 회전장치, 회전판, 구동축
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