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나노 입자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015205493
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노 입자의 제조방법에 관한 것으로서, 기판상에 나노 입자를 형성할 재료로 박막을 형성하고, 박막 상부에 감광성 수지를 도포한 후 패턴을 형성하며, 패턴을 마스크로 하여 박막을 식각함으로써 기판상에 나노 입자를 형성하고, 재료의 용융점까지 온도를 높여 열처리하며, 온도를 상온으로 낮춘 후, 나노 입자를 기판에서 분리하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 의하면 기판상에 증착되는 박막의 두께와 박막 상부에 형성되는 감광성 수지 패턴의 면적을 조절함으로써 균일한 크기의 나노 입자를 제조할 수 있고, 나노 입자를 이루는 재료의 용융점까지 온도를 높여 열처리를 함으로써, 구형의 형상을 가지는 나노 입자를 얻을 수 있다.나노 입자, 용융점, 젖음성, 감광성 수지, 리소그래피 공정
Int. CL B82B 3/00 (2017.01.01) H01L 21/027 (2006.01.01)
CPC B82B 3/0009(2013.01) B82B 3/0009(2013.01) B82B 3/0009(2013.01)
출원번호/일자 1020070069292 (2007.07.10)
출원인 호서대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2009-0005889 (2009.01.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.07.10)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 호서대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 배병성 대한민국 경기도 수원시 팔달구
2 유재근 대한민국 충남 천안시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.07.10 수리 (Accepted) 1-1-2007-0502867-32
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.05.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2008-0032768-62
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.11.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0558807-30
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2009.04.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0156437-67
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.07.13 수리 (Accepted) 4-1-2011-5143226-24
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2019-0045360-16
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번호 청구항
1 1
기판상에 나노 입자를 형성할 재료로 박막을 형성하는 단계;상기 박막 상부에 감광성 수지를 도포하고, 상기 감광성 수지에 상호 이격된 복수개의 패턴을 형성하는 단계;상기 패턴을 마스크로 상기 박막을 식각하여 상기 기판상에 나노 입자를 형성하는 단계;상기 재료의 용융점까지 온도를 높여 열처리하는 단계; 및온도를 상온으로 낮춘 후, 상기 나노 입자를 기판에서 분리하는 단계를 포함하여 이루어지는 나노 입자의 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 기판은 실리콘, 알루미나, 석영, 실리콘 산화물 및 질화 규소 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 입자의 제조방법
3 3
제1항에 있어서,상기 박막의 두께 및 상기 패턴의 상부면의 면적은 다음 수학식에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 나노 입자의 제조방법
4 4
제1항에 있어서,상기 패턴의 형상은 사각형, 원형, 삼각형 중에서 선택된 어느 하나의 형상인 것을 특징으로 하는 나노 입자의 제조방법
5 5
제1항에 있어서,상기 열처리 이후 나노 입자의 형상은 구형인 것을 특징으로 하는 나노 입자의 제조방법
6 6
제1항에 있어서,상기 나노 입자를 기판에서 분리하는 단계는,상기 기판의 상부 면을 선택적으로 에칭하여 상기 나노 입자를 기판에서 분리하는 것을 특징으로 하는 나노 입자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업자원부 호서대학교 나노소재 및 응용제품 지역혁신센터 나노 ITO 분말의 프린팅 방법